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壓阻式小量程SOI加速度敏感芯片設(shè)計與分析

2021-03-24 02:46楊宇新揣榮巖
儀表技術(shù)與傳感器 2021年2期
關(guān)鍵詞:單晶硅量程固有頻率

楊宇新,揣榮巖,張 冰,李 新,張 賀

(沈陽工業(yè)大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院,遼寧沈陽 110870)

0 引言

MEMS(微機電系統(tǒng))加速度傳感器因具有體積小、質(zhì)量輕、功耗低、可靠性高等優(yōu)點,已被廣泛應(yīng)用于航空航天,汽車電子,生物醫(yī)學(xué)和軍事等各行各業(yè)[1-3]。隨著MEMS技術(shù)的成熟,推動了加速度傳感器向小量程方向的發(fā)展。小量程加速度傳感器在建筑物健康監(jiān)測、地質(zhì)勘探和地震預(yù)警監(jiān)測等應(yīng)用中倍受關(guān)注[4],如橋梁工程中,需要依靠小量程加速度傳感器對橋梁的振動情況進行在線長期的監(jiān)測[5],從而衡量安全系數(shù),為橋梁維護與維修提供依據(jù)。在這些應(yīng)用領(lǐng)域,現(xiàn)階段較多采用電容式加速度傳感器,其優(yōu)勢在于靈敏度高,但是存在線性度差、工藝和接口電路復(fù)雜等缺點[6],此外,小量程的加速度傳感器在使用和保存過程中很容易發(fā)生過載損壞,過載能力問題也亟待解決。

針對電容式加速度傳感器的不足,本文選用壓阻式加速度敏感結(jié)構(gòu),同時,為彌補壓阻式加速度傳感器測量小信號精度低這一不足,采用SOI(絕緣體上硅)技術(shù)制作高質(zhì)量單晶硅應(yīng)變電阻,設(shè)計優(yōu)化一種帶有微梁和支撐梁的壓阻式小量程加速度敏感芯片,既解決了普通“懸臂梁-質(zhì)量塊”結(jié)構(gòu)中靈敏度與固有頻率相互制約的矛盾[7],又提高了敏感芯片抗沖擊能力,同時兼有線性好、成本低的優(yōu)勢,可以實現(xiàn)對小信號的高精度、高分辨率測量。

1 加速度敏感結(jié)構(gòu)

基于SOI技術(shù)設(shè)計的量程為0.1g的加速度敏感結(jié)構(gòu)如圖1所示,主要由敏感微梁、支撐梁、質(zhì)量塊和硅基框架構(gòu)成,Z軸為其敏感方向。整體結(jié)構(gòu)是由2片不同規(guī)格的SOI硅片(A和B)通過硅-硅鍵合技術(shù)制成。首先在SOI硅片(A)的頂層單晶硅薄膜上摻P型雜質(zhì)作應(yīng)變電阻層,熱氧化二氧化硅作微梁結(jié)構(gòu)層,之后將SOI硅片(A)與刻蝕有質(zhì)量塊和支撐梁的SOI硅片(B)直接鍵合構(gòu)成整體結(jié)構(gòu)。最后通過剝離技術(shù)去除SOI硅片(A)的硅襯底和氧化層,留下其頂層薄膜制作敏感微梁和應(yīng)變電阻,并將位于微梁上4個應(yīng)變電阻連成惠斯登電橋,構(gòu)成加速度測量電路。

圖1 加速度敏感結(jié)構(gòu)示意圖

2 敏感芯片設(shè)計

2.1 應(yīng)變電阻

由于壓阻式傳感器對于溫度變化較敏感,為使應(yīng)變電阻溫度效應(yīng)最小化,根據(jù)單晶硅的應(yīng)變因子溫度系數(shù)(TCGF)和電阻溫度系數(shù)(TCR)與摻雜濃度之間的關(guān)系[8],將電阻的摻雜濃度設(shè)定為3×1018cm-3(電阻率ρ約為0.02 Ω·cm),使得單晶硅的TCGF和TCR可以得到最佳匹配。

本文將應(yīng)變電阻R設(shè)計為2 kΩ,方塊電阻Rs設(shè)計為1 kΩ,則電阻厚度d=ρ/Rs=0.2 μm。下面依據(jù)單晶硅壓阻元件的最大允許功耗對電阻的寬度進行確定,進而依據(jù)其寬度和阻值來選取長度。

單晶硅電阻單位面積的功耗P可寫為

(1)

式中:I為通過每個電阻的電流;R為電阻阻值;w和l分別為電阻的寬度和長度;Rs為方塊電阻阻值。

硅薄膜單位面積的最大允許功耗PM=5×10-3mW/μm2[9],將P=PM代入式(1),可得電阻單位寬度允許通過的最大工作電流IM:

(2)

惠斯登電橋中,采用1 mA恒流源供電時,通過每個電阻的電流I=0.5 mA,則電阻最小寬度wMin為

(3)

綜上,將應(yīng)變電阻的寬度設(shè)定為8 μm,則電阻長度l為

(4)

得到應(yīng)變電阻各項參數(shù)為:阻值R=2 kΩ,長度l=16 μm,寬度w=8 μm,厚度d=0.2 μm,分布如圖2所示。

圖2 微梁上應(yīng)變電阻及鋁線分布示意圖

2.2 結(jié)構(gòu)參數(shù)設(shè)計

單晶硅材料在應(yīng)變不超過500×10-6時,其應(yīng)力與應(yīng)變之間可以保持良好的線性關(guān)系[10],為保證傳感器的輸出線性和精度,同時兼顧抗沖擊性能,本設(shè)計將滿量程最大應(yīng)變設(shè)定為300×10-6,并以微梁上最大應(yīng)變和結(jié)構(gòu)固有頻率的乘積值(M)作為評價敏感芯片性能的指標。在設(shè)計敏感結(jié)構(gòu)參數(shù)的過程中,需要先保持傳感器的靈敏度基本一致,然后找出結(jié)構(gòu)參數(shù)的變化與M值之間的規(guī)律,從而達到最大限度地同步提高固有頻率和靈敏度的目的。

對于圖1所示的加速度敏感結(jié)構(gòu),影響其性能的參數(shù)主要有質(zhì)量塊、主梁以及微梁的長度、寬度和厚度。通過之前的研究可知[11],當(dāng)保持質(zhì)量塊和支撐梁尺寸不變,并施加同樣的加速度時,微梁的長度和寬度越小,微梁上的應(yīng)變越大。因此,微梁的長度和寬度越小,靈敏度越高,但也不能過小,要滿足微梁上電阻和鋁線的分布要求?;诖耍醪綄⑽⒘洪L度和寬度分別選定為37 μm和24 μm。下面基于有限元仿真分析對量程為0.1g加速度敏感結(jié)構(gòu)的其他參數(shù)進行設(shè)計。

根據(jù)4英寸(1英寸=2.54 cm)SOI硅片的常規(guī)厚度值,將主體結(jié)構(gòu)厚度(即質(zhì)量塊厚度)設(shè)置為520 μm。首先選定一個支撐梁厚度初值,同時選擇一個合適的微梁厚度,調(diào)整質(zhì)量塊的長度、寬度以及支撐梁的長度和寬度,使得滿量程時微梁兩端應(yīng)變達到約3×10-4,得到該微梁厚度下所對應(yīng)的結(jié)構(gòu)參數(shù),并仿真出該參數(shù)下結(jié)構(gòu)的固有頻率,從而得到應(yīng)變值與固有頻率的乘積值M;再改變微梁厚度,利用同樣的方法可以得到該支撐梁厚度下,一組不同微梁厚度所對應(yīng)的M值。然后改變支撐梁厚度,重復(fù)上述步驟,這樣便得到了不同支撐梁厚度的情況下,M值與微梁厚度之間的關(guān)系曲線如圖3所示。

圖3 不同支撐梁厚度的情況下,M值與微梁厚度之間的關(guān)系

從圖3的仿真結(jié)果可知,對于一組給定的主體結(jié)構(gòu)尺寸,總存在一個與之匹配的微梁厚度,使得敏感結(jié)構(gòu)在應(yīng)變和固有頻率的綜合性能上達到最優(yōu)。將圖3每組支撐梁厚度中的最大M值記為Mmax,Mmax所對應(yīng)的結(jié)構(gòu)參數(shù)即為該支撐梁厚度情況下的最優(yōu)結(jié)構(gòu)參數(shù),由此可以得到不同支撐梁厚度與Mmax值之間的關(guān)系曲線,如圖4所示。

圖4 支撐梁厚度與Mmax值之間的關(guān)系

從圖4可以看出,隨著支撐梁厚度的增加,Mmax值也隨之增加,當(dāng)厚度增加到200 μm左右時,Mmax值趨于飽和,此后隨著支撐梁厚度的變化其增加幅度不再明顯;但支撐梁厚度如果較厚,若使微梁在滿量程時產(chǎn)生相同的應(yīng)變,則需要搭配尺寸較大的質(zhì)量塊,這會導(dǎo)致芯片面積也相應(yīng)增加。因此,對于所設(shè)計量程為0.1g的加速度敏感芯片,在綜合考慮Mmax值和芯片整體面積后,最終選取的支撐梁厚度為50 μm,由圖3可得,該支撐梁厚度下對應(yīng)的最佳微梁厚度為1 μm,其他尺寸參數(shù)如表1所示,結(jié)構(gòu)的固有頻率約為264.3 Hz。

表1 敏感結(jié)構(gòu)的尺寸參數(shù) μm

3 討論

基于上述方法,在兼顧靈敏度與固有頻率這兩個技術(shù)指標情況下,確定了量程為0.1g加速度敏感芯片的尺寸參數(shù)。下面分別對所設(shè)計敏感芯片的輸出特性、交叉耦合以及過載能力進行討論分析。

3.1 輸出特性

將微梁上的應(yīng)變電阻按照圖5所示的惠斯登電橋電路進行連接,采用1 mA的恒流源(I0)供電,其中,R1、R2、R3、R4為所設(shè)計的應(yīng)變電阻。無加速度作用時,R1=R2=R3=R4=R=2 kΩ,芯片的輸出電壓(Uout)為零。

圖5 惠斯登電橋

當(dāng)敏感芯片的Z軸方向受到加速度作用時,電阻R1和R4受到張應(yīng)變作用,R2和R3受到壓應(yīng)變作用,阻值發(fā)生變化,即R1=R4=R+ΔR1,R2=R3=R-ΔR2,芯片的輸出電壓可以表示為

Uout=Iin(R1-R2)=IinG(ε1-ε2)R

(5)

式中:Iin為電橋的單橋臂電流,Iin=0.5 mA;G為單晶硅的應(yīng)變因子,電阻的摻雜濃度為3×1018cm-3時,室溫條件下,G取值為105[12];ε1與ε2分別為電阻R1和R2上的平均應(yīng)變。

傳感器的靈敏度(S)為

(6)

式中:a為加速度;U(a)為加速度為a時的電壓輸出;Δa為加速度變化量。

采用不同的加速度作用在敏感結(jié)構(gòu)上,分別對其進行應(yīng)力分析,得到壓阻微梁上的應(yīng)變分布情況,根據(jù)式(5)便可得到該傳感器芯片的輸出特性,如圖6所示。

圖6 加速度敏感芯片的輸出特性

由圖6可以看出,在1 mA恒流源供電條件下,該加速度敏感芯片的滿量程輸出達到約34 mV,通過式(6)計算得到靈敏度為340 mV/g。

3.2 交叉耦合

交叉耦合是加速度敏感芯片一個比較關(guān)鍵的性能參數(shù),反映了非敏感方向加速度信號對傳感器輸出的影響,交叉耦合系數(shù)過大會嚴重影響加速度傳感器的正常輸出,在應(yīng)用中一般要求交叉耦合系數(shù)不超過5%[13]。

對于本文所設(shè)計的加速度敏感結(jié)構(gòu),在Z軸方向上,微梁與質(zhì)量塊的上表面處連接,支撐梁與質(zhì)量塊的下表面處連接,同時,兩根支撐梁在X-Y平面內(nèi)采用中心對稱的方式分別布置在質(zhì)量塊的左右兩側(cè),這增加了敏感結(jié)構(gòu)的橫向扭轉(zhuǎn)剛度,使得壓阻微梁在敏感Z軸方向的形變成為主要的變形方式,而X軸和Y軸的加速度所引起的變形則盡可能小,大幅度提高了敏感芯片的橫向抗干擾能力。通過仿真分析可知,在敏感芯片的X和Y方向分析施加0.1g的加速度作用時,微梁上的應(yīng)變分別為1.932×10-6和4.223×10-6,而滿量程時芯片在敏感方向的應(yīng)變可達到300×10-6左右,因此所設(shè)計敏感結(jié)構(gòu)的交叉耦合系數(shù)約為1.4%。

3.3 過載能力

關(guān)于芯片的過載問題,主要取決于敏感結(jié)構(gòu)上的應(yīng)力分布和材料的斷裂強度。當(dāng)梁結(jié)構(gòu)上的最大應(yīng)力超過單晶硅的抗拉強度時,梁就會發(fā)生斷裂,導(dǎo)致傳感器失效。單晶硅材料的抗拉強度具有尺寸效應(yīng)[14-15],即材料的抗拉強度隨試件幾何尺寸變化而變化的現(xiàn)象,所以不同尺寸的梁會表現(xiàn)出不同的抗拉強度。對于本文所設(shè)計的加速度敏感芯片,梁結(jié)構(gòu)的斷裂強度主要受厚度的影響,其支撐梁厚度為50 μm,微梁厚度為1 μm,參照文獻[16],可計算得到支撐梁和微梁的斷裂強度分別約為2.15 GPa和9.77 GPa。通過仿真得到,當(dāng)在敏感芯片上施加8.7g加速度時,支撐梁上最大應(yīng)力為72.6 MPa,遠低于2.15 GPa,而此時微梁上的最大應(yīng)力值達到1 μm厚度所對應(yīng)的斷裂強度值。因此,該芯片結(jié)構(gòu)可承受不超過 8.7g的過載沖擊。

對于普通的“懸臂梁-質(zhì)量塊”加速度敏感結(jié)構(gòu),其自身的過載能力通常只有滿量程的2~5倍左右[17]。若要提高過載能力,一般需要額外設(shè)計過載保護結(jié)構(gòu),如Henry V.Allen和Stephen C.Terry等人通過減小質(zhì)量塊與上下硅基蓋板的間距來限制高沖擊情況下質(zhì)量塊的位移,從而實現(xiàn)過載保護,但過載能力也僅達到23倍量程[18],且對技術(shù)的要求很高。而本文所述結(jié)構(gòu)與其相比,在無過載保護的情況下,過載能力可達到87倍量程。

4 結(jié)論

本文基于SOI技術(shù),采用“微梁-質(zhì)量塊-支撐梁”結(jié)構(gòu)設(shè)計了量程為0.1g的壓阻式加速度敏感芯片,通過有限元法對敏感結(jié)構(gòu)進行了仿真分析,結(jié)果表明,微梁的引入可以在保證靈敏度的前提下,有效提高芯片的固有頻率和抗沖擊能力。

所設(shè)計的敏感芯片,在1 mA恒流供電條件下,其滿量程輸出約為34 mV,固有頻率約264.3 Hz,交叉耦合約1.4%,過載能力可達到量程的87倍。

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