徐 秋，葛 頌

(遵義醫(yī)學(xué)院附屬口腔醫(yī)院 口腔內(nèi)科， 貴州 遵義 563099)

上頜磨牙腭側(cè)根雙根管2例報(bào)告

徐 秋，葛 頌

(遵義醫(yī)學(xué)院附屬口腔醫(yī)院 口腔內(nèi)科， 貴州 遵義 563099)

上頜磨牙；腭側(cè)根；根管；根管治療

上頜磨牙一般分近頰、遠(yuǎn)頰、腭側(cè)根3個根管，但根管出現(xiàn)變異的可能性較大，有時會出現(xiàn)4個根管，出現(xiàn)4個根管時有兩種情況：近頰側(cè)雙根管和腭側(cè)雙根管。有學(xué)者對500顆離體上頜第一磨牙[1]、1000顆離體上頜第二磨牙和200顆治療的上頜第二磨牙進(jìn)行臨床和影像學(xué)檢查[2]，發(fā)現(xiàn)上頜第一和第二磨牙4根管(雙腭根管)的發(fā)生率分別為<2%、0.4%。即使上頜第二磨牙只有1個融合根且只有1個根管的發(fā)生率也有3.1%[3]。我們曾治療了2例腭側(cè)有獨(dú)立近遠(yuǎn)中根管的病例，分別為上頜第一磨牙和上頜第二磨牙，現(xiàn)報(bào)道如下。

1 病例報(bào)告

第一位患者因慢性牙髓炎急性發(fā)作，初診時由于局麻效果不佳，故僅行開髓引流應(yīng)急處理。兩位患者均為慢性牙髓炎，故治療計(jì)劃和處理相同。治療計(jì)劃：根管治療后行全冠修復(fù)。處理：去齲，局麻下開髓，揭全髓室頂，探針探查發(fā)現(xiàn)髓室底完整，根管探查時均發(fā)現(xiàn)4個分散獨(dú)立的根管口。27的4個根管口呈梯形分布(見圖1)。

注：箭頭指的是4個根管口。 圖1 27髓室底4個根管

術(shù)中插針X線片顯示，右上頜第一磨牙和左上第二磨牙都有近中頰側(cè)、遠(yuǎn)中頰側(cè)、 近中腭側(cè)、遠(yuǎn)中腭側(cè)4個根管(見圖2)。各根管均清理預(yù)備至35號K銼，在此過程中反復(fù)用雙氧水、生理鹽水交替沖洗，干燥根管后封藥消毒；待癥狀消除后復(fù)診行根管充填、墊底并行復(fù)合樹脂修復(fù)。

圖2 16術(shù)中示腭側(cè)2個根管

2 討論

根管解剖系統(tǒng)是一個復(fù)雜且多變的系統(tǒng)，存在多種側(cè)副根管，包括副根管、根管側(cè)支、根管吻合、根尖分歧及根尖分叉等，且不同個體、不同牙位的根管數(shù)目、根管走行等存在較大變異。實(shí)際上，很大一部分(至少50%)磨牙根管的橫截面是橢圓形甚至是葫蘆形[4]。由于在上頜磨牙根管系統(tǒng)發(fā)育過程中，受到咬合力、牙弓發(fā)育等不確定因素的影響，根管狹窄的部位復(fù)雜多樣。臨床醫(yī)師可通過X線片了解根管系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，但X線根尖片提供的是二維圖像，并且由于設(shè)備自身的缺陷，對卵圓形根管形態(tài)缺乏敏感性，不能反映根管系統(tǒng)三維解剖形態(tài)的全部信息。因此，要求臨床醫(yī)師須對各牙根管系統(tǒng)的整體三維解剖情況有充分的了解和掌握，在對因牙髓根尖周病需要進(jìn)行根管治療時，應(yīng)對患牙先行X線片檢查，然后徹底去齲、正確開髓、充分暴露根管口，了解根管數(shù)目和形態(tài)后再行根管治療術(shù)。而髓腔形態(tài)、根管數(shù)目和形態(tài)的特異性，使得每個病人的根管治療均是獨(dú)一無二的。并且上頜磨牙因髓室變異、髓室底偏低及牙位置靠后使得可視范圍窄、操作困難，加之X線片上與上頜結(jié)節(jié)影像重疊以及根管數(shù)目的變異等，更是增加了其根管治療的難度。醫(yī)師更應(yīng)清楚地掌握其根管系統(tǒng)的解剖知識，頭腦中應(yīng)隨時映現(xiàn)出根管系統(tǒng)的三維解剖圖像，且不應(yīng)滿足于標(biāo)準(zhǔn)的開髓孔和根管數(shù)目。

本文所報(bào)告2例上頜磨牙4根管(雙腭根管)病例，各根管根據(jù)Weine的根管分型，16、27其近頰根管和遠(yuǎn)頰根管屬于Ⅲ型，近腭根管和遠(yuǎn)腭根管亦屬Ⅲ型。16、27具4根管(2頰根和2腭根)的發(fā)生率極低，分別為<2%[1]、0.4%[2]。上頜磨牙髓室底溝形態(tài)絕大多數(shù)呈“Y”或倒“L”型[5]。本文病例中病人因慢性牙髓炎，去齲暴露髓腔后，16髓室底溝呈“□”型、27呈“Ⅹ”型,腭側(cè)兩個根管口相距分別約2 mm、5 mm，如果按照常規(guī)三角形的開髓洞型，則極易遺漏近中腭側(cè)根管，導(dǎo)致根管治療不徹底、發(fā)生殘髓炎，影響治療效果。另外27近中腭側(cè)根管過于向近中偏斜，且髓室底偏低，根管清洗和充填都有一定難度。通過本病例提示：上頜磨牙腭側(cè)可能存在近遠(yuǎn)中雙根管，在臨床實(shí)踐中揭去髓室頂后，若發(fā)現(xiàn)腭根特別偏近中或遠(yuǎn)中時，應(yīng)特別注意腭側(cè)雙根管的存在。另外，上頜磨牙受到的咬合力較大，發(fā)生磨耗重或發(fā)生齲損時，形成的修復(fù)性和繼發(fā)性牙本質(zhì)以及髓腔內(nèi)的鈣化、髓石等都可能遮蔽腭側(cè)根管口。在臨床治療中應(yīng)適當(dāng)去除這些遮蔽或障礙物，反復(fù)探查根管口，準(zhǔn)確定位，避免遺漏根管，同時應(yīng)盡量保留健康牙體組織，避免髓室底穿孔，以達(dá)到提高根管治療成功率的目的。

[1] Stone L H,Stroner, W F. Maxillary molars demonstrating more than one palatal root canal[J]. Oral Surg Oral Med Oral Pathol,1981，51：649-652.

[2]Libfeld H,Rotstein I. Incidence of four-rooted maxillary second molars: literature review and radiographic survey of 1,200 teeth[J]. J Endod,1989，15： 129-131.

[3]Peikoff, M D, Christie W H,Fogel H M. The maxillary second molar: variations in the number of roots and canals[J]. Int Endod J ,1996，29： 365-369.

[4]David J C. Shaping and restoring ovoid canal systems[J].Endodontic Therapy, 2005，(5)：9-13.

[5]趙玉梅，強(qiáng)艷麗，方冬冬，等.上頜第二恒磨牙髓室底的解剖及應(yīng)用[J].山東醫(yī)藥， 2009，49(42):3-4.

[收稿2012-08-28;修回2012-09-30]

(編輯：王福軍)

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1000-2715(2013)03-0269-02