白宇宏,李 任,王 丹
(河北聯(lián)合大學(xué)口腔醫(yī)院 河北 唐山 063000)
上頜第二磨牙一般分為近中頰根、遠(yuǎn)中頰根、腭根,腭側(cè)雙根的發(fā)生率低,我院治療l例腭側(cè)雙根雙管型上頜第二磨牙,現(xiàn)報道如下。
病人女,63歲,2011-04因右側(cè)上頜后牙根尖竇道2周來我院就診。病人2年前右側(cè)上頜后牙作過治療,方法不詳。2周前右側(cè)上頜后牙出現(xiàn)伸長和根尖周竇道,影響活動義齒就位。檢查:17牙冠面完整,遠(yuǎn)中牙頸部有牙色材料充填體,未發(fā)現(xiàn)繼發(fā)齲。叩診不適,冷熱無反應(yīng),牙髓電活力測試(-),松動度<Ⅰ度。牙頸部有少量牙石,根尖部牙齦有一竇道,無液體流出。X線片示17遠(yuǎn)中牙頸部有高密度影像,深達(dá)髓腔,近中頰根根尖低密度影像(圖1)。診斷:17慢性尖周炎。治療計劃:17根管治療術(shù),全口潔治。治療過程:17面常規(guī)開髓,揭頂,根管探查髓室底4個根管口呈梯形分布。腭側(cè)兩根管傾斜角度大。4根管手用大錐度Protaper加EDTA預(yù)備至F3,預(yù)備中反復(fù)超聲根管沖洗。置CP捻暫封1周。復(fù)診見根尖竇道愈合,棉捻不潔,封碘仿捻繼續(xù)觀察1周。1周后復(fù)診符合根充適應(yīng)證,美松糊劑加大錐度牙膠尖冷側(cè)壓法充填,數(shù)字成像系統(tǒng)顯示4根管均恰填(圖2)。1周后,超鉆樹脂充填。
圖1 治療前
圖2 根管充填后
上頜第二磨牙多為標(biāo)準(zhǔn)的3個獨(dú)立牙根。4個牙根的發(fā)生率僅有0.4%,其中有兩種存在形式:一是3個獨(dú)立的頰側(cè)根及1個腭側(cè)根[1],二是頰根與腭根各有2個[2]。根管數(shù)目隨之變異較多,增加了根管治療術(shù)的難度。
本病例在首診X線讀片中,如池學(xué)謙等[3]未閱讀到上頜第二磨牙單一粗大的腭側(cè)根管,初步判斷該病人上頜第二磨牙根管系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不同以往。常規(guī)開髓、揭頂后,探及頰側(cè)二根管口后,未順利找到腭側(cè)單根管,遂近遠(yuǎn)中提拉腭側(cè)髓頂,適當(dāng)去除牙本質(zhì)壁,將傳統(tǒng)的三角形改良為梯形,于髓底遠(yuǎn)中腭側(cè)、近中腭側(cè)點(diǎn)角處探及二根管口。
本病例提示:上頜第二磨牙腭側(cè)可能存在近中遠(yuǎn)中兩個獨(dú)立的腭根及腭根管。患牙術(shù)前拍正位及偏移位X線片,了解髓腔形態(tài)、根管數(shù)目、彎曲程度和彎曲方向、根尖周及牙周情況,有助于更準(zhǔn)確地制定治療計劃、判斷預(yù)后。此外還可配合先進(jìn)的儀器設(shè)備,如根管顯微鏡,清晰觀察髓腔根管的細(xì)微結(jié)構(gòu),定位根管口的位置,尋找變異的根管。臨床上對上頜第二磨牙根管治療術(shù)時,應(yīng)注意多次查找根管,盡管初查時已確定根管數(shù)目,復(fù)診時還應(yīng)進(jìn)一步尋找根管,以避免遺漏。如常規(guī)位置未發(fā)現(xiàn)腭側(cè)根管或根管走形不同正常牙,則提示患牙根管系統(tǒng)可能存在變異,需耐心尋找相鄰部位,避免遺漏變異根管,導(dǎo)致治療不完善;同時探查中避免過多磨除髓底的牙體組織,導(dǎo)致髓底穿孔[4]。
上頜第二磨牙因其位于牙弓的后方,攝片及治療視野等都比較差,受開口度的影響操作難度大[5]。其根管的復(fù)雜性、髓室底形態(tài)的多變性及視野的局限性使根管治療術(shù)的難度增加。熟悉掌握上頜第二磨牙牙根及根管形態(tài)的解剖特點(diǎn),可幫助正確定位、疏通根管及其后的清理、成形和充填,從而進(jìn)一步提高臨床上根管治療術(shù)的成功率。
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[5]Ulusoy OI,Gǒrgül G.Endodontic treatment of a maxillary second molar with 2 palatal roots:A case report[J].Oral Surg Oral Med Oral Pathol Oral Radiol Endod,2007,104(4):e95 -e97.