【摘 要】 為研究最強(qiáng)X射線(xiàn)束的出射角度α隨靶材角度θ的變化關(guān)系,利用MCNP軟件,首先建立了反射式X光管模型,得到了靶角為20°時(shí),空間平面上X射線(xiàn)的強(qiáng)度分布特點(diǎn),為獲得較均勻的X射線(xiàn),采用與陽(yáng)極-陰極垂直方向上的窄束長(zhǎng)方形區(qū)域作為準(zhǔn)直孔徑的形狀。其次確立了靶材角度在10°到30°內(nèi),最強(qiáng)X射線(xiàn)束出射角度α與靶材角度θ的關(guān)系,對(duì)于靶材角度不同時(shí)窄束射線(xiàn)準(zhǔn)直器孔徑開(kāi)口最佳位置的選擇有一定的參考價(jià)值。
【關(guān)鍵詞】 X光管;靶材角度;準(zhǔn)直器;蒙特卡羅模擬
Monte Carlo Simulation of the Relationship Between the Angle of the Reflective X-ray Tube Target and the Angle of the Most Intense X-ray Emission
Tang Li1, Jiang Beini2*,Li Li1, Wei Ke2, Hu Yan1
(1.Luzhou Ecological Environment Monitoring Center Station of Sichuan, Luzhou 646000, China;
2.Luzhou Yangtze River Environmental Science Research Center, Luzhou 646000, China)
【Abstract】 In order to study the relationship between the emission angle α of the high-intensity X-ray beam and the angle θ of target materials, the MCNP software is adopted to establish a reflective X-ray tube model, obtaining the intensity distribution characteristics of the X-rays in the space plane at a target angle of 20°. To obtain more uniform X-rays, a narrow beam rectangular area perpendicular to the anode-cathode direction is used as the shape of the collimator aperture. Secondly, the relationship between the emission angle α of the high-intensity X-ray beam and the target angle θ is established within the target angles of 10°to 30°, which has a certain reference value for the selection of the optimum position of the aperture opening for narrow beam collimators with different target angles.
【Key words】 X-ray tube; target angle; collimator; Monte Carlo simulation
〔中圖分類(lèi)號(hào)〕 TL816.1 〔文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼〕 A 〔文章編號(hào)〕 1674 - 3229(2024)03 - 0075 - 05
0 引言
隨著X射線(xiàn)熒光分析理論和方法的不斷完善,儀器的自動(dòng)化和計(jì)算水平的迅速提高,X射線(xiàn)熒光分析技術(shù)(X-Ray Fluorescence Analysis,XRF)被廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域[1-5]。該分析技術(shù)具備不需化學(xué)前處理、分析速度快、測(cè)定范圍寬、準(zhǔn)確度高、成本低并且樣品無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn),適用于土壤、大氣、水、固體廢物等環(huán)境介質(zhì)的痕量元素分析[3-7]。由于多數(shù)情況下環(huán)境介質(zhì)中痕量元素含量低,因此,針對(duì)作為激發(fā)源的反射式X光管及其靶材角度進(jìn)行實(shí)驗(yàn)研究對(duì)獲得高強(qiáng)度的X射線(xiàn)束并提高待測(cè)元素的激發(fā)效率具有一定的現(xiàn)實(shí)意義。
本文從反射式X光管足跟效應(yīng)帶來(lái)的射線(xiàn)強(qiáng)度分布不均勻的影響出發(fā),首先模擬了距靶面中心7 cm處平面上的X射線(xiàn)強(qiáng)度分布,然后改變靶材角度,研究了靶材角度θ與最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束出射角度α的關(guān)系。實(shí)踐表明,本研究為反射式X光管改進(jìn)及提高待測(cè)元素的激發(fā)效率提供了參考。
1 反射式X光管與足跟效應(yīng)
X射線(xiàn)熒光分析技術(shù)是利用X射線(xiàn)作為激發(fā)光源,照射待測(cè)樣品,使待測(cè)元素產(chǎn)生二次特征X射線(xiàn)(即熒光),根據(jù)二次特征X射線(xiàn)的頻率、能量及強(qiáng)度來(lái)對(duì)樣品中的待測(cè)元素進(jìn)行定性或定量分析[8-9]。
已廣泛作為激發(fā)源使用的X光管一般有兩種結(jié)構(gòu),一是正高壓加載到錐形陽(yáng)極上,刀口陰極發(fā)射電子轟擊陽(yáng)極產(chǎn)生軔致輻射X射線(xiàn),稱(chēng)為反射式X光管;二是負(fù)高壓加載到針形陰極上,發(fā)射電子轟擊陽(yáng)極金屬薄膜產(chǎn)生軔致輻射X射線(xiàn),稱(chēng)為透射式X光管[10]。因透射式X光管靶材和鈹窗的熱容量、熱膨脹系數(shù)等問(wèn)題[11],在大功率工作時(shí)靶材易脫落或熔化,這對(duì)光管的散熱方式提出了很高的要求,從而對(duì)大功率的高能透射式X光管的制造產(chǎn)生了限制。在實(shí)際的元素檢測(cè)過(guò)程中,常需要韌致連續(xù)譜來(lái)激發(fā)待測(cè)元素,當(dāng)連續(xù)譜駝峰處對(duì)應(yīng)的能量大于待測(cè)元素的吸收限時(shí),激發(fā)效果較好,而連續(xù)譜駝峰對(duì)應(yīng)的能量與管電壓在數(shù)值上存在以下關(guān)系[12]。
[Em=23U] (1)
[Em]為駝峰對(duì)應(yīng)的能量,[U]為管電壓。因此在激發(fā)高原子序數(shù)的K系熒光時(shí),需要較高的電壓使駝峰對(duì)應(yīng)的能量滿(mǎn)足最佳的激發(fā)能量。反射式X光管因其靶材較厚且與鈹窗分離,一般都可在大功率條件下運(yùn)行,所以為獲得較高的管電壓,采用反射式X光管是合理的選擇。
但當(dāng)X射線(xiàn)穿過(guò)一定厚度的物質(zhì)時(shí),會(huì)與物質(zhì)發(fā)生光電效應(yīng)、康普頓效應(yīng)和電子對(duì)效應(yīng)這3種主要相互作用而損失能量,若不考慮散射的影響,其衰減公式[13]如下。
[I=I0e-μd] (2)
其中,[I0]為入射X射線(xiàn)強(qiáng)度,[I]為入射X射線(xiàn)在靶材中穿行距離為d(cm)后的強(qiáng)度,[μ](cm-1)為靶材的線(xiàn)性吸收系數(shù)。
反射式X光管因其靶材具有一定的幾何角度而存在足跟效應(yīng)[14-16],出射X射線(xiàn)強(qiáng)度的大小在不同的空間位置有較大的差異。如圖1所示,電子轟擊靶材后,X射線(xiàn)以不同的角度從靶面射出,因?yàn)榘胁谋旧泶嬖谝欢ǖ膸缀谓嵌圈?,X射線(xiàn)束a和b在靶材內(nèi)所穿行的距離不同導(dǎo)致射線(xiàn)強(qiáng)度衰減的程度不同。所以偏靠電子源一側(cè)從靶面出射的X射線(xiàn)束a的強(qiáng)度高于從偏靠靶材一側(cè)出射的X射線(xiàn)束b的強(qiáng)度[17]。
為了降低反射式X光管足跟效應(yīng)帶來(lái)的射線(xiàn)強(qiáng)度分布不均勻的影響,往往需要采用窄束射線(xiàn)準(zhǔn)直器對(duì)反射式X光管產(chǎn)生的原級(jí)射線(xiàn)進(jìn)行一定區(qū)域的準(zhǔn)直,準(zhǔn)直孔徑開(kāi)口位置的最佳選擇與最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束的出射角度α有關(guān),而最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束的出射角度α受到靶材角度θ的影響。因此,當(dāng)靶材角度發(fā)生變化時(shí),準(zhǔn)直孔的開(kāi)口位置也應(yīng)該發(fā)生相應(yīng)的移動(dòng),以獲得高強(qiáng)度的X射線(xiàn)束,提高待測(cè)元素的激發(fā)效率。
2 模擬方法與模型
2.1 模擬方法
蒙特卡羅方法是一種以概率統(tǒng)計(jì)為基礎(chǔ)的計(jì)算方法。粒子在輸運(yùn)過(guò)程中,每一個(gè)粒子在介質(zhì)中的相互作用都是隨機(jī)的,因此可通過(guò)蒙特卡羅方法模擬粒子的輸運(yùn)過(guò)程來(lái)研究相應(yīng)的問(wèn)題。基于蒙特卡羅模擬方法開(kāi)發(fā)的MCNP( Monte Carlo N—Particle Transport Code)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于X射線(xiàn)相關(guān)的仿真實(shí)驗(yàn)中[18-20]。
2.2 模型建立
本研究采用美國(guó)Los Alamos國(guó)家實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的MCNP程序進(jìn)行電子與陽(yáng)極靶材的碰撞模擬。X光管簡(jiǎn)化MCNP模型如圖2所示,反射型X光管的尺寸根據(jù)COMT公司的MXR-160HP/20型號(hào)的X光管來(lái)設(shè)置,鈹窗厚0.8 mm、半徑12.25 mm,陽(yáng)極靶材為鎢,靶材角度可變,抽樣電子能量設(shè)置為160 keV。在距離靶面中心上方7 cm處2.5 cm×2.5 cm的平面內(nèi)設(shè)置高純鍺探測(cè)點(diǎn)陣列,每個(gè)探測(cè)點(diǎn)之間的距離為0.375 cm。射線(xiàn)與物質(zhì)發(fā)生相互作用后經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直到高純鍺探測(cè)器上通過(guò)F2卡積分所有與X射線(xiàn)相關(guān)的粒子,并計(jì)算出相應(yīng)的計(jì)數(shù)值。這些計(jì)數(shù)值可以通過(guò)輸出文件進(jìn)行后處理,得到X射線(xiàn)的歸一化計(jì)數(shù),進(jìn)而得到該平面上X射線(xiàn)的強(qiáng)度分布。
3 結(jié)果分析與討論
靶材角度為20°時(shí),X射線(xiàn)強(qiáng)度的等值線(xiàn)分布圖如圖3所示,可以看出,反射式X光管所出射的X射線(xiàn)強(qiáng)度在空間平面上的分布不均勻。在Y軸的方向上,探測(cè)點(diǎn)從負(fù)半軸到正半軸移動(dòng)的過(guò)程中,X射線(xiàn)強(qiáng)度先逐漸增加到最大值,當(dāng)探測(cè)點(diǎn)繼續(xù)向Y軸正半軸移動(dòng)時(shí),由于X射線(xiàn)在靶材內(nèi)的衰減路徑變長(zhǎng),X射線(xiàn)強(qiáng)度迅速減??;對(duì)于X軸方向上的探測(cè)點(diǎn),X射線(xiàn)強(qiáng)度沿Y軸對(duì)稱(chēng)分布,受靶材幾何角度的影響較小。
在實(shí)際的X射線(xiàn)熒光光譜分析中,因?yàn)閅軸方向上X射線(xiàn)強(qiáng)度的波動(dòng)比較大,為使X射線(xiàn)的均勻性更好,往往采用X軸方向上的X射線(xiàn)。這需要在合適的位置上對(duì)出射X射線(xiàn)加上窄束射線(xiàn)準(zhǔn)直器,僅使X射線(xiàn)強(qiáng)度較高的窄束部分穿過(guò)準(zhǔn)直孔后與待測(cè)元素作用,從而提高待測(cè)元素的激發(fā)效率。
國(guó)內(nèi)外反射式X光管資料顯示[19-20],10°到30°是X光管常用的靶材角度,因此本文模擬了當(dāng)靶角分別為10°、12°、15°、18°、20°、22°、25°、28°、30°時(shí),距靶面中心7 cm處Y軸方向上各探測(cè)點(diǎn)X射線(xiàn)強(qiáng)度的變化情況,以確定不同靶材角度時(shí),最大強(qiáng)度X射線(xiàn)的出射角度α。在Y軸上從-2.85 cm到-0.9 cm之間每隔1.5 mm設(shè)置一個(gè)探測(cè)點(diǎn),以這13個(gè)探測(cè)點(diǎn)的計(jì)數(shù)最大點(diǎn)為中心向兩邊以0.5 mm為間隔加密設(shè)置探測(cè)點(diǎn),進(jìn)一步確定X射線(xiàn)強(qiáng)度最大點(diǎn)的位置。
圖4為靶材角度不同時(shí),X射線(xiàn)強(qiáng)度在Y軸方向上的變化,可以看出,陽(yáng)極靶材角度θ對(duì)X光管出射X射線(xiàn)的強(qiáng)度有明顯的影響。一方面,因?yàn)榘胁谋旧淼膸缀谓嵌鹊挠绊?,隨著靶材角度的增加,X射線(xiàn)在靶材內(nèi)所穿行的距離減小,Y軸方向上各點(diǎn)的X射線(xiàn)的強(qiáng)度整體逐漸增加;另一方面,隨著靶材角度的增加,最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束的出射位置也發(fā)生變化。表1列出了不同靶角時(shí),最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束出射點(diǎn)在Y軸上的坐標(biāo),通過(guò)三角函數(shù)關(guān)系:[tanα=Y]軸坐標(biāo)/靶面中心到Y(jié)軸的距離,經(jīng)計(jì)算即可得到對(duì)應(yīng)的最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束的出射角度[α]。
如圖5所示,根據(jù)表1中靶材角度θ和最強(qiáng)X射線(xiàn)束出射角α的相關(guān)數(shù)據(jù),擬合出了靶材角度θ和最強(qiáng)X射線(xiàn)束出射角度α的函數(shù)關(guān)系,α=-0.4362θ+20.818,R2=0.9986??梢钥闯?,靶材角度在10°到30°之間時(shí),靶材角度與最強(qiáng)X射線(xiàn)的出射角度基本成線(xiàn)性減小關(guān)系,隨著靶材角度的增大,最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束的出射角度逐漸變小,即當(dāng)靶材角度增大時(shí),為保證X射線(xiàn)的較高強(qiáng)度,窄束射線(xiàn)準(zhǔn)直器的開(kāi)口位置應(yīng)該逐漸向+Y軸中心方向移動(dòng)。
4 結(jié)論
本文根據(jù)實(shí)際的反射式X光管參數(shù)建立MCNP模型,模擬了距靶面中心7 cm處空間平面上的X射線(xiàn)強(qiáng)度分布及靶材角度分別為10°、12°、15°、18°、20°、22°、25°、28°、30°時(shí),Y軸方向上各探測(cè)點(diǎn)的X射線(xiàn)強(qiáng)度分布,得出以下結(jié)論。
(1)X射線(xiàn)強(qiáng)度在Y軸方向上的分布不均,為使出射X射線(xiàn)的強(qiáng)度較為均勻,可對(duì)X軸方向上X射線(xiàn)加上長(zhǎng)方形的窄束射線(xiàn)準(zhǔn)直器后再進(jìn)行實(shí)際的應(yīng)用。
(2)靶材角度θ與最大強(qiáng)度X射線(xiàn)束的出射角度α呈線(xiàn)性減小關(guān)系。
(3)當(dāng)靶材角度增大時(shí),窄束射線(xiàn)準(zhǔn)直器的開(kāi)口位置應(yīng)該逐漸向+Y軸中心方向移動(dòng)。
因此,當(dāng)選擇X射線(xiàn)熒光分析技術(shù)分析測(cè)試環(huán)境介質(zhì)中痕量元素,或是選擇不同反射式X光管靶材角度的進(jìn)行相關(guān)的應(yīng)用及實(shí)驗(yàn)研究時(shí),應(yīng)根據(jù)實(shí)際的反射式X光管靶材角度選擇最佳的準(zhǔn)直器開(kāi)口位置,保證有較強(qiáng)的X射線(xiàn)束激發(fā)待測(cè)樣品,提高待測(cè)元素的激發(fā)效率。
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責(zé)任編輯 呂榮榮
[收稿日期] 2024-03-21
[作者簡(jiǎn)介] 湯利(1979- ),女,四川省瀘州生態(tài)環(huán)境監(jiān)測(cè)中心站高級(jí)工程師,研究方向:環(huán)境監(jiān)測(cè)與分析測(cè)試。
[通訊作者] 江貝妮(1989- ),女,碩士,瀘州長(zhǎng)江環(huán)境科學(xué)研究中心工程師,研究方向:環(huán)境影響評(píng)價(jià)。