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離子膜污染的原因分析和處理過(guò)程

2023-03-23 06:36周建國(guó)井耀文楊建軍王丹灝
中國(guó)氯堿 2023年2期
關(guān)鍵詞:電流效率電解槽鹽水

周建國(guó),陳 銳,井耀文,杜 軍,楊建軍,王丹灝

(1.湖北山水化工有限公司,湖北 枝江 443200;2.藍(lán)星(北京)化工機(jī)械有限公司,北京 100176)

湖北山水化工有限公司5 萬(wàn)t/a 離子膜燒堿搬遷項(xiàng)目分兩期完成,一期A 槽采用藍(lán)星(北京)化工機(jī)械有限公司生產(chǎn)的NBZ-2.7 型離子膜電解槽,于2013 年8 月初次開(kāi)車,運(yùn)行兩個(gè)膜周期后于2020 年12 月更換陰、陽(yáng)極極網(wǎng),并于2021 年1 月2日開(kāi)車成功。 二期B 槽采用藍(lán)星(北京)化工機(jī)械有限公司生產(chǎn)的NBZ-2.7(II)型離子膜電解槽,于2022 年5 月31 日成功投運(yùn)。 兩臺(tái)電槽均配置158對(duì)電極,配套使用科慕化學(xué)(上海)N-2050 型號(hào)離子膜。截止到2022 年7 月下旬,系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定,電槽性能良好, 兩臺(tái)電解槽共用同一循環(huán)系統(tǒng)和成品堿流量計(jì),陰極燒堿電流效率一直保持在97.8%左右。

裝置一次鹽水采用陶瓷膜工藝, 二次鹽水采用樹(shù)脂塔三塔工藝,樹(shù)脂塔和程控閥門(mén)分別采購(gòu),屬于組合類型設(shè)備,采用DCS 遠(yuǎn)程集中控制,運(yùn)行過(guò)程中的再生、運(yùn)行、切換均設(shè)置了全自動(dòng)模式。

1 電解槽性能異常

1.1 異常情況發(fā)現(xiàn)及排查

2022 年7 月27 日凌晨1:30, 操作人員通過(guò)DCS 監(jiān)控發(fā)現(xiàn)A、B 電解槽總槽電壓有快速上漲趨勢(shì),接到現(xiàn)場(chǎng)人員反饋后,氯堿生產(chǎn)部組織相關(guān)技術(shù)人員進(jìn)行全面排查,根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)情況,每?jī)尚r(shí)一次按時(shí)留存二次鹽水樣品,等待條件具備,做ICP 分析質(zhì)量;中控分析復(fù)查各控制點(diǎn)鹽水質(zhì)量,包括滴定分析過(guò)濾鹽水槽的鈣、 鎂、 過(guò)濾鹽水槽和超純鹽水槽的pH 值、一次鹽水系統(tǒng)中鹽水濃度、過(guò)量碳酸鈉、過(guò)量氫氧化鈉、硫酸根等,檢查電槽溫度、濃度、壓力和壓差等指標(biāo),查找工藝、設(shè)備、儀表、DCS 控制指標(biāo)等可能的異常。通過(guò)篩查和對(duì)比分析,只發(fā)現(xiàn)了樹(shù)脂塔C 塔出口到超純鹽水貯槽的KV-164C 閥門(mén)無(wú)故打開(kāi),更換電磁閥后,閥門(mén)恢復(fù)正常,并于4 時(shí)處理完畢。此階段樹(shù)脂塔程序是C 塔→A 塔串聯(lián)運(yùn)行,B 塔酸堿再生、鹽水置換已結(jié)束,處在等待步驟,即將投入運(yùn)行。

1.2 對(duì)發(fā)現(xiàn)的問(wèn)題做應(yīng)急處理

C 塔→A 塔串聯(lián)運(yùn)行,正常程序應(yīng)是KV-164C閥門(mén)關(guān)閉,KV-164A 閥門(mén)打開(kāi), 合格鹽水進(jìn)入超純鹽水槽。 初步判斷問(wèn)題出在KV-164C 閥門(mén)無(wú)故打開(kāi),并立即進(jìn)行樹(shù)脂塔的切換,停樹(shù)脂塔C 塔,切換到A 塔→B 塔運(yùn)行, 切換后及時(shí)取樣進(jìn)行ICP 分析核對(duì)。

1.3 電解槽相關(guān)性能影響程度

期間兩臺(tái)電槽的電壓大幅上漲,A、B 電槽校正電壓最終分別上漲了40 V、42 V (按行業(yè)通用公式校正到同一電流14.85 kA、溫度90 ℃、濃度32%的比較結(jié)果)。 從7 月27 日、28 日統(tǒng)計(jì)的數(shù)據(jù)看,燒堿產(chǎn)量急劇降低, 噸堿直流電耗上漲了198 kW·h,陰極燒堿電流效率從97.8%急劇下降到95.5%, 下降了2.3%。

2 造成電解槽性能異常原因分析

(1)在事故期間,監(jiān)測(cè)的一、二次鹽水ICP 分析結(jié)果見(jiàn)表1。

表1 一次鹽水、二次鹽水ICP分析結(jié)果

(2)凌晨處理期間,過(guò)濾鹽水貯槽出口滴定分析Ca、Mg 未檢出,過(guò)碳酸鈉0.49 g/L,過(guò)氫氧化鈉0.15 g/L,游離氯未檢出,硫酸根4.1 g/L,以上結(jié)果都在指標(biāo)范圍內(nèi)。分析人員連續(xù)監(jiān)測(cè)鹽水系統(tǒng)化鹽池、配水桶、一次鹽貯槽、過(guò)濾鹽水罐、超純鹽水罐、鹽水高位槽等出口的pH 值,結(jié)果均為9.5~10.5,pH 值正常。通過(guò)DCS 歷史曲線檢查,陽(yáng)極循環(huán)槽在線pH 計(jì)pH264 顯示值正常, 鹽水系統(tǒng)各pH 值在線監(jiān)測(cè)pHT-0104、pHT-312、pHT-314 值正常。 電槽控制,經(jīng)分析和和查記錄, 陰陽(yáng)極出口濃度分別為32.02%、213 g/L,槽溫TT-234 為83 ℃,壓差4 kPa,都在指標(biāo)范圍內(nèi)。 以上信息排除各中間控制可能出現(xiàn)的問(wèn)題。

(3)從7 月27 日留存3 時(shí)和6 時(shí)的一次鹽水過(guò)濾鹽水貯槽出口ICP 分析結(jié)果看,一次鹽水Ca、Mg、Sr、Fe 等相關(guān)指標(biāo),在正常范圍之內(nèi),排除一次鹽水工序的故障。

(4)切換到樹(shù)脂A 塔→B 塔運(yùn)行后,7 月27 日4時(shí)、7 時(shí)和9 時(shí)的樹(shù)脂塔出口鹽水質(zhì)量都在指標(biāo)范圍內(nèi),且超純鹽水罐的二次鹽水質(zhì)量逐漸好轉(zhuǎn),推斷C塔→A 塔運(yùn)行時(shí)出現(xiàn)了異常。

(5)7 月27 日5 時(shí)的結(jié)果Ca 為750×10-9,與27日3 時(shí)一次鹽水分析的ICP 結(jié)果Ca 為1 001×10-9比較,只相差了351×10-9,750×10-9是樹(shù)脂塔不合格鹽水進(jìn)入超純鹽水槽與原合格鹽水混合后的結(jié)果,推斷樹(shù)脂塔C 塔→A 塔沒(méi)有達(dá)到應(yīng)有的處理能力或失去了處理能力。

(6)通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)觀察和查閱相關(guān)設(shè)計(jì)文件,發(fā)現(xiàn)C塔樹(shù)脂實(shí)際高度0.80 m,遠(yuǎn)小于1.2 m 及以上的需求高度,通過(guò)核對(duì)每臺(tái)樹(shù)脂塔內(nèi)的樹(shù)脂裝填量為2.6 m3,基本能達(dá)到設(shè)計(jì)需要的量,但因設(shè)備直徑原因,加正常量的樹(shù)脂,高度不能達(dá)到需要高度。通過(guò)檢查操作記錄,電壓上漲期間是在C 塔→A 塔串聯(lián)運(yùn)行已超過(guò)22 h,C 塔運(yùn)行已超過(guò)46 h,到了運(yùn)行末期。 以上信息表明樹(shù)脂C 塔處理能力達(dá)不到設(shè)計(jì)要求與樹(shù)脂層高度太低并處于運(yùn)行末期有關(guān)。

(7)超純鹽水槽中7 月27 日5 時(shí)、7 時(shí)、9 時(shí)留存的幾個(gè)二次鹽水ICP 分析結(jié)果,Ca、Mg、Sr、Fe 超標(biāo)嚴(yán)重,Ca 最高達(dá)到了750×10-9且以后連續(xù)幾個(gè)大幅超標(biāo)的二次鹽水, 說(shuō)明有不合格鹽水進(jìn)入了電解槽,且不排除有含Ca、Mg 等更高的不合格鹽水進(jìn)入電解槽, 判斷電解槽電壓的上漲和電流效率下降是由鹽水中上述幾項(xiàng)離子嚴(yán)重超標(biāo)導(dǎo)致。

(8)樹(shù)脂主塔C 塔運(yùn)行到46 h,已到運(yùn)行末期,加之樹(shù)脂高度太低,此時(shí)C 塔已“漏液”了,C 塔的處理能力已大幅下降或失去, 不合格的鹽水離開(kāi)了C塔。保護(hù)塔A 塔的出口和C 塔的出口同進(jìn)入一個(gè)鹽水總管,壓力相等,因KV-164C 閥門(mén)無(wú)故打開(kāi),出C塔鹽水選擇不經(jīng)過(guò)有阻力的保護(hù)塔A 塔,直接走短路進(jìn)入超純鹽水槽,保護(hù)塔A 塔被短路失去了應(yīng)有的保護(hù)作用,二次鹽水質(zhì)量沒(méi)有得到有效保障,致使不合格的鹽水直接進(jìn)入了超純鹽水槽。 二次鹽水精制簡(jiǎn)易流程圖見(jiàn)圖1。

圖1 二次鹽水精制簡(jiǎn)易流程圖

(9)超純鹽水槽內(nèi)的不合格的Ca、Mg、Sr、Fe 鹽水經(jīng)過(guò)鹽水高位槽,再進(jìn)入電解槽,離子膜受到較大的污染, 導(dǎo)致電槽電壓大幅上漲, 電流效率大幅下降,部分雜質(zhì)對(duì)離子膜的主要影響見(jiàn)表2。

表2 鹽水中部分離子對(duì)離子膜性能的影響

3 電解槽電壓上漲和電流效率下降的處理

3.1 理論方案

異常發(fā)生后, 公司組織相關(guān)技術(shù)人員及時(shí)深入探討處理方案,并與藍(lán)星(北京)化工機(jī)械有限公司的技術(shù)服務(wù)人員取得聯(lián)系, 經(jīng)過(guò)詳細(xì)交流和充分溝通,憑著多年來(lái)豐富的現(xiàn)場(chǎng)運(yùn)行經(jīng)驗(yàn),決定針對(duì)Ca、Mg、Sr、Fe 等雜質(zhì)大幅超標(biāo)造成膜污染后采取如下措施。

(1)本次膜污染,考慮到電解槽還沒(méi)開(kāi)始加酸,陽(yáng)極室內(nèi)pH≥4, 預(yù)計(jì)有部分雜質(zhì)沉積在離子膜表面上,如鐵的氫氧化物等,通過(guò)停車循環(huán)、排液、水洗等操作盡可能地除去離子膜表面雜質(zhì),降低膜電壓,避免后期運(yùn)行中, 因工藝條件的變化導(dǎo)致部分雜質(zhì)轉(zhuǎn)移進(jìn)入離子膜內(nèi)部。

(2)根據(jù)Ca、Sr 等雜質(zhì)性質(zhì),氫氧化物的危害最大,因?yàn)樗鼤?huì)形成很大的顆粒,沉積在非??拷り帢O側(cè)的地方,主要對(duì)電流效率有影響,但如果其沉積量很大,bn 可能導(dǎo)致電壓的升高。 在90 ℃時(shí),Ca(OH)2、Sr(OH)2兩種溶度積常數(shù)Ksp 分別為9×10-7、5×10-1,Ca(OH)2、Sr(OH)2溶解度較大,可以被加熱純水或純凈的鹽水溶解, 能將沉積在膜內(nèi)的部分雜質(zhì)清除,但是電流效率或電壓無(wú)法完全恢復(fù)。

(3)對(duì)膜內(nèi)的其他可能雜質(zhì)在一定的溫度、濃度下通過(guò)循環(huán)和水洗,進(jìn)行離子膜的舒緩操作,擴(kuò)大離子膜中的離子通道, 期待離子膜中的雜質(zhì)被自主地排放掉??紤]雜質(zhì)在膜表面及通道內(nèi)沉積的時(shí)間短,在沒(méi)有損壞過(guò)多的膜樹(shù)脂結(jié)構(gòu)的情況下盡快停車處理,為較好地恢復(fù)膜性能創(chuàng)造條件,離子膜通道結(jié)構(gòu)示意圖見(jiàn)圖2。

圖2 離子膜通道結(jié)構(gòu)示意圖

(4)在后期的運(yùn)行中,確保鹽水質(zhì)量在一定的溫度、濃度等穩(wěn)定條件下運(yùn)行,可以使膜的性能得到一定程度的恢復(fù)。

3.2 實(shí)際操作

在實(shí)施的過(guò)程中,因生產(chǎn)需要,兩臺(tái)電解槽不能同時(shí)降電流到0,采取將兩臺(tái)電解槽輪換降電流到0的方案,為了達(dá)到上述工況,采取較低濃度的堿和鹽水進(jìn)行循環(huán)、排液、水洗等操作,具體方案如下。

(1)為了兼顧另一臺(tái)運(yùn)行中的電槽的堿濃度,電解槽循環(huán)時(shí)陰極控制: 通過(guò)調(diào)節(jié)陰極純水加入流量增加加入純水,調(diào)整堿濃度到28%進(jìn)入電槽,陰極堿流量控制為30 m3/h。

(2)電槽循環(huán)時(shí)陽(yáng)極控制:控制通過(guò)循環(huán)精鹽水為20 m3/h,通過(guò)純水流量計(jì)加入13 m3/h 純水循環(huán),共計(jì)33 m3/h 稀釋鹽水,濃度控制在180~200 g/L。

(3)在循環(huán)過(guò)程中,電解槽溫度控制在60~65 ℃。

(4)把A 電解槽電流降到0,B 槽按原電流運(yùn)行,A 電解槽按聯(lián)鎖程序循環(huán)80 min 后,陰陽(yáng)極流量和溫度再按要求循環(huán)2.5 h,完成后按操作規(guī)程的要求進(jìn)行離網(wǎng)、排液、水洗、等待2 h 排水、充液、并網(wǎng)、循環(huán)升溫等步驟執(zhí)行,A 電解槽電流升到需求負(fù)荷,完成A 電解槽的處理。

(5)A 電解槽完成后, 降B 電解槽電流到0,按A 電解槽處理步驟進(jìn)行處理。

7 月29 日8 時(shí)開(kāi)始,兩臺(tái)電解槽嚴(yán)格按以上方案先后進(jìn)行了處理。 7 月31 日兩臺(tái)電解槽電流升到14 kA。 7 月31 日開(kāi)始,按以下指標(biāo)進(jìn)行修復(fù)操作:陽(yáng)極流量按指標(biāo)控制,淡鹽水的濃度控制200~210 g/L,陰極流量按指標(biāo)控制,堿濃度控制在32.2%~32.5%,電槽溫度控制在83 ℃運(yùn)行。8 月7-9 日3 天時(shí)間,手動(dòng)控制樹(shù)脂塔運(yùn)行,每天切換出一臺(tái)需要再生的樹(shù)脂塔,調(diào)整再生步驟順序,利用13.25 h 的等待時(shí)間,添加樹(shù)脂到≥1.2 m 高度,再按樹(shù)脂塔再生程序進(jìn)行再生, 并檢查每臺(tái)樹(shù)脂塔的分布器等內(nèi)部結(jié)構(gòu)是否完好,提高單塔運(yùn)行能力。 8 月10-15 日,根據(jù)樹(shù)脂塔的運(yùn)行周期, 對(duì)樹(shù)脂塔周圍的電磁閥進(jìn)行檢查和更換。

4 兩臺(tái)電解槽運(yùn)行情況

4.1 兩臺(tái)電解槽運(yùn)行數(shù)據(jù)(見(jiàn)表3)

表3 電解槽A、B運(yùn)行數(shù)據(jù)表

因?qū)嶋H運(yùn)行中電流、溫度、濃度等是變化的,為了在統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)下進(jìn)行比較, 以上數(shù)據(jù)中校正電壓一欄,按行業(yè)上通用的標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行校正,校正到90 ℃、14.85 kA、32%的標(biāo)準(zhǔn)條件,選用的校正公式如下。

V校正電壓=[(V實(shí)測(cè)電壓-2.42×N-KT×N×(90-T溫度)+KC×N×(32-C堿濃度)]×λ1÷λ2+2.42×N

式中:V實(shí)測(cè)電壓—現(xiàn)場(chǎng)萬(wàn)用表實(shí)測(cè)總電壓;

KT—溫度修訂系數(shù),0.013/℃;

KC—濃度修訂系數(shù),0.017/%;

λ1—校正到標(biāo)準(zhǔn)電流密度,5.5 kA/m2;

λ2—實(shí)際運(yùn)行電流密度,kA/m2;

N—電極對(duì)數(shù)。

4.2 經(jīng)過(guò)處理后兩臺(tái)電解槽電壓恢復(fù)趨勢(shì)

經(jīng)過(guò)處理后的兩臺(tái)槽電壓的恢復(fù)趨勢(shì)見(jiàn)圖3。

圖3 電解槽電壓下降趨勢(shì)圖

4.3 經(jīng)處理后電流效率恢復(fù)趨勢(shì)

電流效率恢復(fù)趨勢(shì)見(jiàn)圖4。

圖4 堿電流效率上漲趨勢(shì)

以上數(shù)據(jù)和曲線反映出如下信息,(1)電解槽經(jīng)過(guò)停車處理后,從7 月30 日開(kāi)始,電壓每天持續(xù)下降,前幾天下降較快,后緩慢下降,直到10 月4 日,兩臺(tái)電解槽電壓基本停止下降,趨于穩(wěn)定,A、B 電解槽電壓下降的時(shí)間約兩個(gè)半月,A、B 槽校正電壓分別下降了32 V、28 V (按行業(yè)通用公式校正到同一電流14.85 kA、溫度90 ℃、濃度32%的比較結(jié)果),下降較多。 (2)7 月27 日膜污染后堿電流效率從97.8%下降到95.5%, 經(jīng)處理后電流效率持續(xù)上升,到8 月11 日恢復(fù)到97.3%,后趨于穩(wěn)定,經(jīng)歷時(shí)間約13 天,從95.5%恢復(fù)到97.3%,上漲了1.8%。

5 結(jié)語(yǔ)

(1)本次離子膜污染后,經(jīng)處理,下降電壓抵消上漲電壓,A、B 槽校正電壓分別凈上漲了8 V、13 V(按國(guó)際通用公式校正到同一電流14.85 kA、 溫度90 ℃、濃度32%的比較結(jié)果),膜電壓得到了較大程度恢復(fù),恢復(fù)時(shí)間較長(zhǎng),達(dá)2.5 個(gè)月,B 槽運(yùn)行2 個(gè)月的膜,比A 槽運(yùn)行19 個(gè)月的膜電壓受到的影響更大。

(2)堿電流效率13 天內(nèi)從95.5%上漲到97.3%后趨于穩(wěn)定,上漲了1.8%,堿電流效率得到較大程度恢復(fù),下降電流效率和上漲電流效率抵消,凈下降了0.5%。

(3)離子膜一旦受到污染,不管做何處理,性能不能完全恢復(fù),因此加強(qiáng)二次鹽水質(zhì)量管控,確保進(jìn)入電解槽鹽水合格是非常重要的。

(4)一旦發(fā)現(xiàn)離子膜受到急性污染,電解槽應(yīng)盡早降電流到低負(fù)荷且停車,及時(shí)對(duì)電解槽進(jìn)行清洗、循環(huán)、置換等工作,把損失降到最低。

(5)二次鹽水質(zhì)量很關(guān)鍵,此工序應(yīng)選用可靠的設(shè)備和閥門(mén)。

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