陳珂鑫,梁曉東,李 強(qiáng),馬 堯
(中國(guó)航天科技集團(tuán)有限公司四院七四一六廠,西安 710025)
近年來(lái),各類先進(jìn)電子儀器廣泛應(yīng)用于社會(huì)和工業(yè)各個(gè)領(lǐng)域,給人們工作和生活帶來(lái)極大方便,同時(shí)也產(chǎn)生一定的電磁輻射污染,導(dǎo)致一些精密儀器互相干擾無(wú)法正常工作;長(zhǎng)期處于電磁輻射環(huán)境中會(huì)嚴(yán)重?fù)p害人體健康;電磁波泄漏也會(huì)危及信息安全[1-3]。目前,復(fù)合填充類電磁屏蔽材料應(yīng)用廣泛,尤其是顆粒復(fù)合型導(dǎo)電高分子材料,具有低成本、無(wú)污染、質(zhì)量輕、頻帶寬和性能好的特點(diǎn),能適應(yīng)不同場(chǎng)合和環(huán)境的應(yīng)用需求[4-5]。復(fù)合填充型電磁屏蔽材料的按填充體系主要分為碳系、金屬或鍍金屬系及復(fù)合系三大類。
傳統(tǒng)碳系復(fù)合型電磁屏蔽材料主要是以石墨、炭黑、炭纖維等作為導(dǎo)電填料。Azizah等[6]將活性炭填充至聚氨酯,制備出聚氨酯電磁屏蔽材料,當(dāng)活性炭含量為8%時(shí),在1.8 GHz時(shí),屏蔽效能達(dá)到10 dB。Cao等[7]制備的炭纖維復(fù)合材料,在8.2~12.2 GH屏蔽效能最大達(dá)到12.43 dB。Ghamdi等[8]制備的PVC/石墨烯復(fù)合材料在1~12 GHz屏蔽效能達(dá)到60 dB??傮w上,炭系導(dǎo)電填料現(xiàn)存在的問(wèn)題主要在于納米粒子在聚合物基體中易團(tuán)聚、分散性不好,進(jìn)而影響復(fù)合材料的整體性能。
金屬或鍍金屬系電磁屏蔽材料的主要優(yōu)勢(shì)在于其高電導(dǎo)率,部分磁性金屬材料還具有高磁導(dǎo)率。Kim等[9]采用金屬紡絲沉積的方法制備出了銅、鎳、銀與聚乙烯醇的復(fù)合材料,在0.5~18 GHz具有良好的屏蔽效果,屏蔽效能達(dá)到40 dB。Fan等[10]采用化學(xué)鍍技術(shù)在短切炭纖維表面沉積了均勻、連續(xù)的 Ni-P 鍍層,將其制備成酚醛樹脂復(fù)合材料之后發(fā)現(xiàn):采用化學(xué)鍍鎳工藝沉積的鍍層均勻致密,表面鍍鎳的炭纖維能大大提高復(fù)合材料的吸波性能,在14.4~18 GHz 衰減小于10 dB,在 18 GHz 處衰減達(dá)到14 dB。孫天厚等[11]制備了以片狀鍍銀銅粉為導(dǎo)電填料,水性聚氨酯乳液和水性丙烯酸乳液為基體的導(dǎo)電涂料,其涂層為115 μm時(shí),1~18 GHz范圍內(nèi)的屏蔽效能達(dá)到70 dB。但是,金屬或鍍金屬系電磁屏蔽材料應(yīng)用局限性較大,主要由于其密度大、易腐蝕、不易加工等缺點(diǎn)。
復(fù)合系是將金屬與無(wú)機(jī)材料復(fù)合制備,使其具備了獨(dú)特的理化性質(zhì)。Kim等[12]使用聚吡咯烷酮和3-氨丙基三甲氧基硅氧烷作為穩(wěn)定劑,在氧化石墨烯水溶液中利用肼作為還原劑制備了負(fù)載銀納米粒子的石墨烯材料;Shen等[13]利用硼氫化鈉和乙二醇的混合還原劑制備了石墨烯負(fù)載銀納米粒子,但是在上述石墨烯負(fù)載銀納米粒子的制備過(guò)程中需要使用毒性較強(qiáng)的肼和硼氫化鈉。
目前,電磁屏蔽填料的研究很多,但是普遍存在粒徑較大(微米級(jí)),導(dǎo)電填料不具備磁導(dǎo)性,導(dǎo)磁填料導(dǎo)電性較差,復(fù)合填料制備困難等缺陷。本文結(jié)合納米材料的導(dǎo)電特點(diǎn)與電磁屏蔽效能計(jì)算原理中對(duì)材料導(dǎo)電和導(dǎo)磁性能的要求,設(shè)計(jì)一種二氧化硅表面包覆鎳和銀的納米微球結(jié)構(gòu),發(fā)揮納米微球母體制備納米功能微球的工藝簡(jiǎn)單優(yōu)勢(shì),鎳層的磁導(dǎo)效應(yīng)和表面銀層的導(dǎo)電效應(yīng),得到一種密度低、兼具導(dǎo)磁和導(dǎo)電功能的納米微球,用以制備電磁屏蔽涂層,研究導(dǎo)電性能、磁導(dǎo)性能及其電磁屏蔽性能的關(guān)系。
本文選用納米二氧化硅微球作為母體,首先在納米二氧化硅微球表面化學(xué)鍍鎳,賦予微球磁導(dǎo)性能;再在鎳層表面化學(xué)鍍銀賦予微球?qū)щ娦阅?,得到?dǎo)電導(dǎo)磁納米微球。將納米微球作為填料,環(huán)氧樹脂為基體制備導(dǎo)電涂層。實(shí)驗(yàn)所用原料見表1所示。
表1 實(shí)驗(yàn)原料及藥品
準(zhǔn)確稱量硫酸鎳5.0 g,次磷酸鈉5.4 g,無(wú)水乙酸鈉4.0 g,乳酸3.0 g,丙酸0.4 g,加入燒杯中,再量取200 mL去離子水加入燒杯。將燒杯放置在磁力攪拌器上攪拌,使固體全部溶解,并調(diào)pH值為5。再將一定量的納米二氧化硅加入到配制好的鍍液中,然后放置在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行超聲分散30 min,形成透明的鍍液。將鍍液放置在磁力攪拌器上的水浴鍋中,升溫至90 ℃,開始水浴加熱并攪拌。反應(yīng)3 h后,鍍鎳完成。將反應(yīng)結(jié)束后的產(chǎn)物靜置沉淀,然后用去離子水洗至中性,在40 ℃下烘干得到鍍鎳二氧化硅微球(Ni@SiO2)。
銀氨溶液配制:在裝有7 g硝酸銀的燒杯中,加入160 mL去離子水,攪拌溶解后再緩慢加入25%氨水40 mL,用氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH值為13。
①賈母冷笑道“你也不必和我使性子賭氣的。你的兒子,我也不該管你打不打。我猜著你也厭惡我們娘兒們,不如我們趕早兒離了你,大家干凈!”(第三十三回)
Ag/Ni@SiO2納米微球制備:在裝有Ni@SiO2微球的燒杯中依次加入190 mL無(wú)水乙醇、8 mL去離子水和5 mL濃度為37%的甲醛溶液,超聲分散15 min。然后置于25 ℃水浴中,并在20 min內(nèi)滴加已經(jīng)配置好的銀氨溶液,再繼續(xù)攪拌反應(yīng)2 h。反應(yīng)完成后,沉降分離Ag/Ni@SiO2納米微球,并用去離子水洗至中性,30 ℃下烘干后得到Ag/Ni@SiO2。
將Ag/Ni@SiO2納米微球加入10 g環(huán)氧樹脂E51中,添加固化當(dāng)量為1的三乙烯四胺和6 g松油醇,充分?jǐn)嚢韬蟮玫綄?dǎo)電漿料,用刮涂器將所制備的導(dǎo)電漿料涂覆到聚脂薄膜表面,在一定溫度下固化一定時(shí)間后制得導(dǎo)電涂層材料。
制備Ag/Ni@SiO2質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為45%、65%、70%、75%和80%的導(dǎo)電涂層,將材料制成尺寸為70 mm×70 mm的涂層,按照ISO 3915—1981標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量材料的體積電阻率。固化溫度分別為50、70、90、110 ℃,固化時(shí)間為1~5 h。
將固化好的涂層制備為7 cm×10 cm和3 cm×4 cm的試樣,分別在N5232A分析儀上分別測(cè)試材料在2.25~2.65 GHz和6.57~10 GHz兩個(gè)頻段的傳輸效能與反射效能。
對(duì)所制備的Ni@SiO2與Ag/Ni@SiO2納米微球形貌、粒徑及鍍層化學(xué)組成、電性能、磁性能等進(jìn)行測(cè)試與表征。圖1為SiO2、Ni@SiO2與Ag/Ni@SiO2的SEM照片,由圖1(a)可看出,納米二氧化硅粒子為粒徑40~60 nm的球形團(tuán)聚體,而所制備的Ni@SiO2粒子為粒徑50~200 nm的球型分散粒子,并且表面覆有一層松散結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。從圖1(c)可看出,鍍銀后納米微球粒徑明顯增大,表面粗糙,并且有微凸。
(a)SiO2 (b)Ni@SiO2 (c)Ag/Ni@SiO2
圖2 Ag/Ni@SiO2EDS分析
依據(jù)圖2 Ag/Ni@SiO2微球電子能譜測(cè)試結(jié)果,可知Ag/Ni@SiO2表面有Ni元素與Ag元素,說(shuō)明已經(jīng)將鎳層與銀層通過(guò)化學(xué)鍍鍍?cè)诩{米二氧化硅表面。粒度分析(圖3)表明Ag/Ni@SiO2微球的平均粒徑為550 nm。
圖3 Ag/Ni@SiO2粒徑分布
圖4為Ag/Ni@SiO2微球的XRD圖譜??煽闯?,對(duì)應(yīng)衍射角38.16°、44.38°、64.52°和77.42°的衍射峰分別為Ag的(111)晶面、(200)晶面、(220)晶面和(311)晶面,這說(shuō)明包覆的銀層為面心立方結(jié)構(gòu)的晶體[14-15];衍射角60°的衍射峰對(duì)應(yīng)鎳晶面指數(shù)(200)的衍射峰[16]。
圖4 Ag/Ni@SiO2X-rd分析
圖5為Ag/Ni@SiO2微球的磁滯回線,可看出Ag/Ni@SiO2屬于鐵磁性材料。磁化強(qiáng)度較小,這是由于加入的銀層屬于抗磁性物質(zhì),在外加磁場(chǎng)中被反向磁化,測(cè)得磁導(dǎo)率為3.133 2×10-5H/m。
圖5 Ag/Ni@SiO2微球磁滯回線
2.2.1 填料含量對(duì)涂層導(dǎo)電性能的影響
制備Ag/Ni@SiO2質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為45%、65%、70%、75%和80%的導(dǎo)電涂層,固化溫度為90 ℃,固化時(shí)間為2 h。測(cè)試體積電阻率,結(jié)果如圖6所示??煽闯?,材料體積電阻率的變化隨著Ag/Ni@SiO2納米微球含量的增加單調(diào)下降,符合滲濾理論[17]。在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為65%時(shí),體積電阻率到達(dá)滲濾值,開始迅速下降,當(dāng)填料質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到70%時(shí)趨于平緩,材料內(nèi)部形成完整導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò),此時(shí)體積電阻率最低達(dá)到0.018 4 Ω·cm。
2.2.2 固化工藝對(duì)涂層性能的影響
將材料在不同溫度、不同時(shí)間下固化,研究固化工藝對(duì)材料體積電阻率的影響,結(jié)果如圖7所示。
圖6 鍍鎳鍍銀納米微球含量對(duì)材料體積電阻率的影響
(a)固化溫度圖
(b)固化時(shí)間
將Ag/Ni@SiO2納米微球含量80%的材料分別在50、70、90、110 ℃下固化2 h,得到導(dǎo)電涂層材料體積電阻率的變化結(jié)果如圖7(a)所示??煽闯?,隨著固化溫度的提高,材料體積電阻率降低,最終趨于穩(wěn)定。這是由于溫度較低時(shí),反應(yīng)速率較慢,需要更長(zhǎng)的時(shí)間固化完全。當(dāng)溫度大于90 ℃時(shí),材料經(jīng)過(guò) 2 h后基本固化,但未完全固化,體積電阻率最低達(dá)到0.032 0 Ω·cm。從時(shí)間成本與節(jié)約能源的角度考慮,固化溫度應(yīng)該不大于110 ℃。
將Ag/Ni@SiO2納米微球含量80 %的材料在110 ℃下分別固化1~5 h,測(cè)得其體積電阻率的變化結(jié)果如圖7(b)所示。可看出在110 ℃下,材料在固化2 h已固化完全,此時(shí)體積電阻率達(dá)到0.018 8 Ω·cm。因此,Ag/Ni@SiO2納米微球填充環(huán)氧樹脂導(dǎo)電涂層材料的固化溫度選擇110 ℃,固化時(shí)間為3 h,所制備導(dǎo)電涂層的磁滯回線如圖8所示。
圖8表明,磁滯回線為一條近似S型的曲線,飽和磁化度為0.020 62 A·m2/kg。材料的磁滯回線較窄,屬于軟磁材料,易于磁化。軟磁材料在外加磁場(chǎng)中自身會(huì)發(fā)熱,能夠?qū)㈦姶拍芰哭D(zhuǎn)化為熱能消耗掉[18]。由于Ag/Ni@SiO2納米微球在材料內(nèi)部分散不均勻,會(huì)產(chǎn)生團(tuán)聚現(xiàn)象,導(dǎo)致材料各個(gè)部分磁化程度不一致,因此材料的磁滯回線并不是光滑的曲線。測(cè)試得到材料磁導(dǎo)率為9.964×10-6H/m。
2.2.3 填料含量對(duì)涂層屏蔽效能的影響
將Ag/Ni@SiO2質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為45%、65%、70%、75%和80%,固化溫度為90 ℃,固化3 h的導(dǎo)電涂層試樣測(cè)試電磁屏蔽性能,結(jié)果如圖9所示。
圖8 涂層磁滯回線
(a)傳輸效能,2.25~2.65 GHz (b)反射效能,2.25~2.65 GHz
(c)傳輸效能,6.57~10 GHz (d)反射效能,6.57~10 GHz
圖9(a)表明,材料對(duì)2.25~2.65 GHz頻段電磁波的傳輸效能隨填料質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加而減小。由于Ag/Ni@SiO2納米微球具有良好的導(dǎo)磁導(dǎo)電性能,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為80%的傳輸效能可以達(dá)到-54.8 dB。
圖9(b)為2.25~2.65 GHz頻段材料對(duì)電磁波的的反射效能隨填料質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加而遞增,由于導(dǎo)電填料為鍍鎳鍍銀的導(dǎo)磁導(dǎo)電粉體,當(dāng)填充粉體的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加時(shí),材料的導(dǎo)電性能增強(qiáng),電阻率減小,材料的反射率增強(qiáng)。從圖9(b)中可看出,對(duì)于鍍鎳鍍銀的復(fù)合材料填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)為65%時(shí)材料的反射效能可以達(dá)到-32.5 dB,當(dāng)填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到70%時(shí),導(dǎo)電涂層導(dǎo)電性較好,形成強(qiáng)的渦流,可有效反射電磁波,基本上達(dá)到全反射。
由圖9(c)、(d)可看出,材料在6.57~10 GHz高頻時(shí)的電磁屏蔽性能變化趨勢(shì)與材料在低頻時(shí)的變化趨勢(shì)一致。材料在填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 80%時(shí)的傳輸性能可以達(dá)到-36.1 dB。
由于材料良好的導(dǎo)電性能,材料在高頻時(shí)的反射效能較強(qiáng)。在填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)為70%時(shí)材料的反射性能可以達(dá)到-0.8 dB。由于電磁波入射到屏蔽材料表面,電磁波對(duì)材料的分子或原子產(chǎn)生極化作用,使其做受迫振動(dòng)而成為一個(gè)個(gè)電磁波發(fā)射的點(diǎn)源,根據(jù)惠更斯原理,這些點(diǎn)源發(fā)射的電磁波相互干涉,干涉結(jié)果形成反射[19-21]。同時(shí)使用鍍粉填充時(shí),可以降低材料反射率。主要由于鍍粉填充的材料接收相同能量的電磁波時(shí),鎳粉對(duì)磁場(chǎng)分量的干涉作用,使反射回原方向的能量減弱,因此反射總效能減弱。當(dāng)改變填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)時(shí)??梢孕纬闪己玫碾A梯狀變化,滿足不同反射效果的應(yīng)用。
(1)通過(guò)化學(xué)鍍技術(shù),在納米二氧化硅表面包覆上首先包覆鎳層,再包覆銀層,賦予了Ag/Ni@SiO2導(dǎo)電導(dǎo)磁性能。所制得的Ag/Ni@SiO2微球平均粒徑為550 nm,磁導(dǎo)率達(dá)到3.133 2×10-5H/m。
(2)用制備的Ag/Ni@SiO2納米微球填充環(huán)氧樹脂,優(yōu)化得到了材料制備最佳工藝參數(shù)為固化溫度為110 ℃,固化時(shí)間為3 h ;所制備的填料質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 80%的導(dǎo)電涂層材料導(dǎo)磁率為9.964×10-6H/m,飽和磁化度為0.020 62 A·m2/kg,體積電阻率達(dá)到0.018 8 Ω·cm。
(3)在2.25~2.65 GHz下,當(dāng)填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到70%時(shí),傳輸屏蔽性能逐漸增大到-35.9 dB,而當(dāng)填充75%的銀粉的傳輸效能達(dá)到-40.7 dB;當(dāng)填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)為80%時(shí),傳輸性能可以達(dá)到-54.8 dB。材料的反射性能隨填料的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加而遞增,當(dāng)填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到70%時(shí),基本上達(dá)到全反射。在6.57~9.99 GHz下,材料的屏蔽傳輸效能與反射效能隨著導(dǎo)磁導(dǎo)電粉體質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加而增加。當(dāng)填充質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 80%時(shí)的傳輸性能可以達(dá)到-36.1 dB。由于材料良好的導(dǎo)電性能,材料在高頻時(shí)的反射效能較強(qiáng)。