方雙全,黃新,馬德才,張賀新
(1.揚州大學機械工程學院,江蘇揚州225127;2.中山大學物理與工程學院,廣東廣州510275;3.哈爾濱工程大學材料科學與化學工程學院,黑龍江哈爾濱150001)
鈮酸鋰(LiNbO3,LN)晶體由于集壓電、鐵電、熱電、光電及光折變等多種效應于一身,在光電子領域被稱為“光學硅”,因此被廣泛地用作聲表面波器件、紅外探測器、光學參量振蕩器、光開關及光波導器件等。眾所周知,LN晶體的性能可以通過化學計量控制[1-2]、摻雜工程[3-4]、后處理工藝[5-6]或極化處理工藝[7-8]來進行調節(jié),采用這些方法主要是通過改變晶體中的本征或非本征缺陷來調節(jié)晶體的性能,以滿足不同的應用要求。
迄今為止,4種摻雜離子Mg、Zn、In或Sc離子在其濃度達到一定值,即所謂的“閾值”后,LN晶體的抗光致?lián)p傷性能能被顯著提高[9-10]。這4種離子及其濃度對LN晶體的微結構的影響在同成份鈮酸鋰晶體(CLN)中已被大量研究[11-14],而在近化學計量比晶體中的研究還很少報道。本工作中,一系列的In:SLN晶體從K2O熔鹽中生長出來,并且利用XRD、DTA、UV吸收光譜、IR光譜測試對其缺陷結構特征進行了表征與分析。
分別利用TSSG與傳統(tǒng)的提拉法(CZ)生長了SLN與CLN晶體。原料組成、晶片尺寸與生長工藝參數(shù)如表1所示。首先,加熱混合后的原料2 h使Li2CO3分解,接著升溫到1 050℃,保溫2 h,通過固相反應合成SLN多晶料。由于使用了K2O作為助熔劑,固相反應溫度降低,從而避免了原料局部熔化。使用c軸籽晶,利用中頻加熱方式,晶體就從多晶料中被生長出來。生長態(tài)的晶體如圖1所示。
金相照片顯示所有生長態(tài)SLN晶體呈現(xiàn)出單疇結構,因此無需極化處理,從而避免了象在CLN晶體中因極化而出現(xiàn)裂紋或散射中心。
電子探針實驗表明幾乎沒有K+離子進入SLN晶體中[15],所以K+離子對晶體性能的影響可以忽略不計。生長出的晶體接下來沿垂直于y軸方向被切成薄片,而且2個表面都被拋光成鏡面。
XRD、DTA、UV與紅外光譜分別被用來表征晶體的相結構、居里溫度(Tc)、吸收邊與振動峰的變化情況。
表1 原料組成及樣品尺寸Table 1 Composition of raw material and size of the samples
圖1 生長態(tài)In:SLN晶體Fig.1 The as-grown In:SLN boule
在XRD衍射光譜中沒有發(fā)現(xiàn)新的峰,表明In3+是以取代晶格離子的方式進入晶格,而不是進入晶格間隙。利用最小二乘法與公式V=(a2c)×cos 30°分別計算了晶格常數(shù)與晶胞體積,結果在表2中給出。分析表明,隨著In3+濃度的增加,In:SLN晶格常數(shù)(a、b和c)、c/a值及晶胞體積逐漸增加,并越來越接近CLN晶體的晶格常數(shù),所以In3+也許會對SLN晶體產(chǎn)生體積補償效應。與Li離子半徑(rIn= 0.60 ?)相比,In3+離子半徑(rIn=0.81 ?)更接近于Nb離子半徑(rIn=0.68 ?),因此In3+離子應該優(yōu)先取代Nb離子。眾所周知,LN晶格中存在2種Nb離子,即正常Nb位的Nb離子(Nb5+)與正常Li位的Nb離子(反應Nb離子,Nb),所以In3+離子取代何種Nb離子,需要進一步的研究。
表2與圖2給出了通過DTA測試所得到的居里溫度值,很明顯SLN晶體的居里溫度高于CLN晶體,而且隨著In3+離子的增加,居里溫度先增加后降低。居里溫度與晶體中的Nb含量有關,它隨著晶體中NbLi4+含量的降低或Nb5+含量的增加而增加[16]。目前,鋰空位模型,表示為[Li1-5x(VLi)4x(NbLi)x] NbO3(VLi表示鋰空位),已被大部分學者所接受。因此,SLN晶體的居里溫度高于 C LN晶體,是由于Nb含量下降所致。從圖2中可以看出,在In2O3摻雜量為1%~1.5%時,SLN晶體的居里溫度達到一個最大值。在此摻雜量,所有的 N b離子完全被In3+離子所取代,因此居里溫度達到最大值,此摻雜量也被認為是In2O3的閾值。當In2O3含量低于閾值時,Nb離子逐漸被In3+所取代,導致居里溫度增加;相反地,當In2O3含量高于閾值時,所有的Nb離子被In3+完全取代,In3+開始同時占據(jù)正常的Li與Nb位,使Nb5+離子濃度降低,導致居里溫度下降。
表2 CLN及In:SLN晶體的晶格常數(shù)與居里溫度Table 2 Lattice constants and Curie temperatue of CLN and In:SLN
圖2 居里溫度與熔鹽中In2O3含量的關系Fig.2 Curie temperature as a function of In2O3content in melt
樣品的紫外吸收光譜如圖3所示,從圖中可以看出,無論是提高[Li]/[Nb]比還是In3+含量,UV吸收邊都朝短波方向移動。紫外吸收邊是由價電子從價帶向導帶躍遷所需的能量決定的。眾所周知LN晶體的本征缺陷能級隨[Li]/[Nb]比變化而變化,而摻雜離子會在晶體中引入缺陷雜質能級,所有這些情況都會使LN的能帶結構發(fā)生變化,因此價電子躍遷所需的能量就會發(fā)生變化,從而導致UV吸收邊移動。
圖3 In:SLN與CLN晶體的紫外可見吸收光譜Fig.3 UV absorption spectrum of In:SLN and CLN
LN晶體的能帶結構如圖4所示,其中O2-的2p軌道充當價帶頂,而Nb5+的4d軌道充當導帶底。CLN晶體中的Nb本征缺陷作為電子陷阱,在晶體中形成局域能級,使禁帶變窄。相反,在SLN晶體中,由于Nb本征缺陷較少,禁帶變寬,所以電子躍遷所需的能量增加,吸收邊朝短波方向移動。當在晶體中摻入In3+后,它優(yōu)先取代Nb,In出現(xiàn),這將使禁帶變得更寬,所以吸收邊也朝短波方向移動;當更多的In3+離子,即當超過閾值濃度的In3+離子進入晶格后,所有的被完全取代,In3+離子開始同時進入正常的Li和Nb位,形成電荷自補償結構,使禁帶進一步變寬,因此吸收邊進一步朝短波方向移動。
空氣中生長LN晶體,不可避免地在晶體中引入H2O分子,這樣就可以通過紅外波段的OH-振動峰來研究晶體中缺陷的變化。測試的紅外光譜如圖5所示,從圖中可以看出CLN晶體的OH-吸收峰位于3480 cm-1附近。而在SLN晶體中,當In3+含量低于閾值時,3 480 cm-1附近吸收峰變弱,主吸收峰移到3 466 cm-1附近;另一方面,當In3+含量高于閾值時,主吸收峰移動到3 505 cm-1附近。
圖4 鈮酸鋰晶體價帶結構Fig.4 Band structure of LiNbO3
圖5 In:SLN與CLN晶體的紅外透射光譜Fig.5 IR transmittance spectra of In:NSLN and CLN
Kong等[17]利用1H核磁共振方法證實了將占據(jù)LN晶體的 Li位。本文中,在純 CLN晶體中,3 480 cm-1附近的吸收峰是由于H+占據(jù)了正常的Li位形成OH的振動所引起的;而純 S LN晶體中3 466 cm-1附近的吸收峰是由于H+占據(jù)了Li空位形成OHVLi-的振動所引起的。很明顯CLN中存在著比SLN更多的反位缺陷Nb,H+將被排斥,結合到正常的Li位,而不是位;相反地,在SLN中,H+將進入位。在SLN晶體中,由于受到N強烈地排斥作用,OHVLi-振動所需的能量遠遠低于CLN晶體中的情況,所以與CLN晶體相比,IR吸收峰朝長波方向移動。當?shù)陀陂撝禎舛鹊腎n3+離子進入SLN晶體中,它將取代Nb,形成In,由于強烈地排斥作用,不會有較多的H+位于V位附近,所以由OH振動所引起的吸收峰仍位于3 466 cm-1附近。相反,當In3+離子摻雜量超過閾值濃度后,所有的Nb被完全取代,In3+離子開始同時進入正常的Li和Nb位,形成電荷自補償結構。由于In對H+的強烈吸收作用,因此缺陷結構形成,因此OH-振動需要更多的能量,這使得吸收峰朝短波方向移動,移動到3 505 cm-1附近。
本研究分別利用TSSG與CZ方法制備了一系列近化學計量比與同成份鈮酸鋰晶體。對DTA與光譜測試結果的分析表明,In2O3在SLN晶體中的閾值濃度介于1%~1.5%,隨著In3+離子的增加,In: SLN晶體的UV吸收邊朝短波方向移動。此外,當In3+離子摻雜濃度低于閾值濃度時,紅外吸收峰位于3 466 cm-1附近;相反地,當In3+離子摻雜濃度高于閾值濃度時,紅外吸收峰移動到3 505 cm-1附近。缺陷結構研究表明,In3+離子優(yōu)先取代Nb,形成In離子,接下來In3+離子開始同時占據(jù)正常的Li與Nb位,形成電荷自補償結構。
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