任國(guó)華,張滌新,趙 瀾
(蘭州空間技術(shù)物理研究所,國(guó)防科技工業(yè)真空一級(jí)計(jì)量站,甘肅蘭州730000)
隨著真空技術(shù)的發(fā)展,真空系統(tǒng)中氣體總壓力的測(cè)量已經(jīng)不能滿足日常工作需求,而分壓力的測(cè)量就越來(lái)越引起人們的注意。分壓力的測(cè)量一般是通過(guò)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行測(cè)量。為了讓質(zhì)譜計(jì)能夠準(zhǔn)確的輸出壓力值,就必須對(duì)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)。因此需要開(kāi)展質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)的研究。
質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)技術(shù)是目前真空計(jì)量學(xué)的一個(gè)熱點(diǎn)課題。一般來(lái)說(shuō),質(zhì)譜計(jì)的測(cè)量不確定度依賴于兩個(gè)因素:第一是校準(zhǔn)過(guò)程中使用參考標(biāo)準(zhǔn)的準(zhǔn)確性和校準(zhǔn)系統(tǒng)的不確定度;第二是質(zhì)譜計(jì)固有的性能參數(shù)。所以質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)技術(shù)研究就要從校準(zhǔn)系統(tǒng)的設(shè)計(jì),質(zhì)譜計(jì)參數(shù)的設(shè)置等方面進(jìn)行[1]。
國(guó)外對(duì)質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)的研究工作開(kāi)展的相對(duì)比較早,其中美國(guó)的質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)是隨著航天技術(shù)而發(fā)展的,從阿波羅計(jì)劃到火星探測(cè),NASA在航天器上都搭載了不同的質(zhì)譜計(jì)作為主要測(cè)量工具進(jìn)行了多次探測(cè)。同時(shí),美國(guó)真空學(xué)會(huì)在1993年提出質(zhì)譜計(jì)的四種校準(zhǔn)方法,并建立了相應(yīng)的校準(zhǔn)裝置[2]。這四種方法分別是直接比對(duì)法、壓力衰減法、小孔流導(dǎo)法、原位置校準(zhǔn)法。
(1)直接比對(duì)法是將質(zhì)譜計(jì)讀數(shù)與參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)的讀數(shù)直接進(jìn)行比對(duì),實(shí)現(xiàn)對(duì)質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn),其校準(zhǔn)裝置的工作原理如圖1所示。
通過(guò)一個(gè)閥門控制氣體流量,單一氣體進(jìn)入校準(zhǔn)室,采用參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)測(cè)量氣體壓力,然后和質(zhì)譜計(jì)的讀數(shù)進(jìn)行比對(duì)校準(zhǔn)。參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)推薦使用磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)和電離規(guī),由于參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)測(cè)量的是全壓力,其靈敏度與氣體種類有關(guān),只能用于單一氣體在質(zhì)譜計(jì)和參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)重疊的測(cè)量范圍內(nèi)進(jìn)行校準(zhǔn)。
(2)壓力衰減法是通過(guò)小孔對(duì)壓力進(jìn)行衰減,以衰減后的壓力作為標(biāo)準(zhǔn)壓力進(jìn)行校準(zhǔn),其工作原理如圖2所示。
圖1 直接比對(duì)法校準(zhǔn)裝置原理圖
在氣體引入系統(tǒng)和校準(zhǔn)室之間并聯(lián)一個(gè)隔斷閥和旁通限流小孔,當(dāng)校準(zhǔn)比較高的壓力時(shí),可以關(guān)閉割斷閥4和5,打開(kāi)隔斷閥7,利用質(zhì)譜計(jì)和參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)進(jìn)行直接比對(duì);當(dāng)校準(zhǔn)比較低的壓力時(shí),關(guān)閉隔斷閥4和7,打開(kāi)隔斷閥5,由于限流小孔的衰減作用,使得校準(zhǔn)室的壓力比氣體引入系統(tǒng)的壓力低幾個(gè)數(shù)量級(jí),測(cè)量限流小孔上下端的壓力,計(jì)算得到限流小孔的衰減率,通過(guò)測(cè)量氣體引入系統(tǒng)的壓力,便可以計(jì)算校準(zhǔn)室中的壓力,然后和校準(zhǔn)室上所接的參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)進(jìn)行比對(duì)校準(zhǔn)。這樣在直接測(cè)量法的基礎(chǔ)上延伸了校準(zhǔn)下限,但也只能對(duì)單一氣體進(jìn)行校準(zhǔn),不能實(shí)現(xiàn)混合氣體中各組分氣體分壓力的校準(zhǔn)。
(3)小孔流導(dǎo)法是以小孔流導(dǎo)產(chǎn)生的壓力,作為標(biāo)準(zhǔn)壓力進(jìn)行校準(zhǔn)的,原理如圖3所示。
圖2 壓力衰減法校準(zhǔn)系統(tǒng)原理圖
小孔流導(dǎo)法相對(duì)于直接測(cè)量法和壓力衰減法來(lái)說(shuō),系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和操作比較復(fù)雜,也只能采用單一氣體對(duì)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)。
(4)原位置校準(zhǔn)方法是質(zhì)譜計(jì)輸出已知?dú)怏w流率的響應(yīng),這種方法要求校準(zhǔn)時(shí)的抽速與使用時(shí)的抽速相同,這種方法在實(shí)驗(yàn)室中用的較少,主要用于現(xiàn)場(chǎng)的校準(zhǔn)。
德國(guó)的PTB研制出了基于中紅外激光吸收光譜法的分壓力校準(zhǔn)系統(tǒng),利用氣體分子發(fā)出的光譜強(qiáng)度來(lái)測(cè)量混合氣體分壓力的大小,校準(zhǔn)系統(tǒng)工作原理如圖4所示[3]。
這套系統(tǒng)的校準(zhǔn)方法是,由激光系統(tǒng)產(chǎn)生的激光通過(guò)濾波器和一組反射鏡進(jìn)入校準(zhǔn)室,激光和校準(zhǔn)室中的氣體分子相互作用,生成干涉光譜,再?gòu)男?zhǔn)室中引出到信息接收與處理系統(tǒng),在校準(zhǔn)室中總壓力已知的條件下,便可以通過(guò)計(jì)算得到混合氣體中各個(gè)氣體成分的分壓力。這種方法的優(yōu)點(diǎn)在于測(cè)量過(guò)程中不會(huì)產(chǎn)生額外的雜質(zhì)分子,從而避免了測(cè)量過(guò)程中產(chǎn)生雜質(zhì)對(duì)原有殘余氣體成分測(cè)量的影響,具有無(wú)干擾的特點(diǎn),適合于精度要求比較高,而且殘余氣體成分已知情況下的分壓力測(cè)量。這套質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)裝置的測(cè)量范圍相當(dāng)大,從103~10-5Pa都可以準(zhǔn)確的測(cè)量,不確定度約3%。但缺點(diǎn)也是很明顯,第一這套系統(tǒng)只能測(cè)量一些已知光譜的氣體分壓力,比如一氧化碳、二氧化碳和水,對(duì)于其他的氣體則無(wú)法測(cè)量。第二在氣體和激光相互作用的校準(zhǔn)室的兩個(gè)反射球面很難制造。第三兩個(gè)鏡片之間的距離要求很高,設(shè)計(jì)難度較大。第四實(shí)驗(yàn)場(chǎng)所的要求高,實(shí)驗(yàn)場(chǎng)所不能有震動(dòng)。第五在進(jìn)行分壓力測(cè)量時(shí)要受到總壓力大小的影響。
圖3 小孔流導(dǎo)法校準(zhǔn)系統(tǒng)原理圖
圖4 德國(guó)PTB建立的質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)系統(tǒng)原理圖
意大利IMGC的這套校準(zhǔn)系統(tǒng)采用比對(duì)的方法進(jìn)行校準(zhǔn),校準(zhǔn)系統(tǒng)工作原理如圖5所示[4],采用四極質(zhì)譜計(jì)之間和四極質(zhì)譜計(jì)與熱陰極真空計(jì)、冷陰極真空計(jì)之間的比對(duì)進(jìn)行校準(zhǔn)。從校準(zhǔn)的結(jié)果來(lái)看,實(shí)驗(yàn)結(jié)果的復(fù)現(xiàn)性比較好。
在實(shí)驗(yàn)中,真空規(guī)、四極質(zhì)譜計(jì)探頭要對(duì)稱的安裝在球形不銹鋼真空室上,這樣可以在相同的條件下測(cè)量真空容器的真空度。系統(tǒng)的極限壓力是10-8Pa,測(cè)量和校準(zhǔn)的范圍是1×10-4~5×10-7Pa。
圖5 意大利IMGC質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)系統(tǒng)原理圖
四極質(zhì)譜計(jì)的測(cè)量靈敏度受使用條件的影響,IMGC認(rèn)為主要是離子源剩磁的緣故,此實(shí)驗(yàn)對(duì)此進(jìn)行了研究,研究結(jié)果表明在比較高的壓力范圍內(nèi)(大于5×10-6Pa)剩磁現(xiàn)象對(duì)質(zhì)譜計(jì)的影響很小。系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)在于可以一次性對(duì)多個(gè)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn),并且校準(zhǔn)的范圍比較寬,適用于一般質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)??紤]到校準(zhǔn)過(guò)程中質(zhì)譜計(jì)之間可能會(huì)相互影響,不建議多個(gè)質(zhì)譜計(jì)同時(shí)進(jìn)行校準(zhǔn)。
日本AIST在上個(gè)世紀(jì)末研制出的分壓力測(cè)量系統(tǒng),其工作原理如圖6所示[5]。用電容薄膜真空計(jì)和石英晶體振蕩黏滯真空計(jì)作為參考標(biāo)準(zhǔn),采用電容薄膜規(guī)只能測(cè)量全壓力,而石英規(guī)的測(cè)量結(jié)果與氣體的全壓力和氣體成分相關(guān)的特點(diǎn),實(shí)現(xiàn)了兩種混合氣體分壓力的測(cè)量。石英真空計(jì)是利用石英晶體振蕩器的阻抗與壓力的依賴關(guān)系而制造成的黏滯真空計(jì),因?yàn)槭⒕w振蕩器對(duì)溫度非常敏感,就使得實(shí)際的真空計(jì)的壓力測(cè)量下限僅為1Pa,所以建立的校準(zhǔn)系統(tǒng)只能在正壓和低真空范圍內(nèi)工作,其分壓力測(cè)量范圍是102~106Pa。一般質(zhì)譜計(jì)的工作壓力在10-2Pa以下,所以系統(tǒng)無(wú)法用于質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)。系統(tǒng)的工作氣體是氧氣和臭氧,由于系統(tǒng)分析單元的特定性,只能對(duì)氧氣和臭氧的混合氣體進(jìn)行分壓力的測(cè)量,所以此系統(tǒng)只能用于特定環(huán)境下的分壓力測(cè)量,使用范圍比較小。
圖6 日本建立的分壓力測(cè)量系統(tǒng)原理圖
在我國(guó)質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)研究工作開(kāi)展的比較晚,也取得了一定的進(jìn)展。清華大學(xué)在1993年建立了一臺(tái)分壓力質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)與應(yīng)用研究系統(tǒng)[6],并且對(duì)質(zhì)譜計(jì)的各種參數(shù)開(kāi)展了相關(guān)研究,如圖7所示。
圖7 清華大學(xué)質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)系統(tǒng)原理圖[14]
此系統(tǒng)采用連接在進(jìn)樣室上的電容薄膜規(guī)、B-A規(guī)與連接在真空室上的四極質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行直接比對(duì)的方法對(duì)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)。左側(cè)為進(jìn)樣系統(tǒng),校準(zhǔn)所需氣體的氣瓶位于b處,通過(guò)減壓閥將氣體送入VC4小體積內(nèi),再經(jīng)過(guò)伺服閥V10控制流量將氣體送入VC2進(jìn)樣室。用薄膜規(guī)(美國(guó)MKS公司生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)Baratron)G4監(jiān)測(cè)VC2內(nèi)氣體壓力,使之保持在133 Pa左右。調(diào)節(jié)寶石針閥V9,使進(jìn)樣系統(tǒng)處于分子流進(jìn)樣,向主真空室VC1中進(jìn)樣,保證了進(jìn)樣過(guò)程中氣體成分不變。只要確保進(jìn)樣室和真空室中氣體成分一致,通過(guò)電容薄膜規(guī)的讀數(shù)確定校準(zhǔn)時(shí)真空室中各種氣體的壓力,也可以利用B-A規(guī)對(duì)不同種類的純氣體進(jìn)行修正來(lái)確定校準(zhǔn)室的壓力,然后和被校四極質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行比對(duì)校準(zhǔn)。該系統(tǒng)的本底為2×10-6Pa,使用N2進(jìn)行校準(zhǔn)時(shí),校準(zhǔn)結(jié)果的不確定度為1.0%,在低于3×10-3Pa時(shí)有良好的線性。
由于電容薄膜規(guī)和B-A規(guī)只能測(cè)出氣體的總壓力,無(wú)法確定混合氣體中各種氣體成分的分壓力,因此此系統(tǒng)只能使用單一氣體對(duì)四極質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)。但是在實(shí)際應(yīng)用中往往需要測(cè)量混合氣體中各種氣體成分的分壓力,采用單一氣體校準(zhǔn)過(guò)的靈敏度定量分析混合氣體成分時(shí),有可能會(huì)產(chǎn)生偏差。
蘭州空間技術(shù)物理研究所(LIP)在上個(gè)世紀(jì)九十年代已研制了一套質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)系統(tǒng)[1],如圖8所示,主要由供氣系統(tǒng)、進(jìn)樣系統(tǒng)、校準(zhǔn)室、抽氣系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)等幾部分組成。供氣系統(tǒng)、進(jìn)樣系統(tǒng)共有相同的三路,圖中只畫出了其中一路。
圖8 蘭州空間技術(shù)物理研究所質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)系統(tǒng)原理圖[8]
在進(jìn)樣過(guò)程中要保證穩(wěn)壓室中壓力的恒定,穩(wěn)壓室中的壓力用皮喇尼規(guī)測(cè)量。微調(diào)閥用以調(diào)節(jié)進(jìn)氣量從而達(dá)到控制校準(zhǔn)室中壓力的目的。當(dāng)超高真空角閥關(guān)閉時(shí),限流小孔為校準(zhǔn)系統(tǒng)上游室的抽氣口,小孔的直徑為1 mm,以保證上游室中壓力為1 Pa時(shí),小孔的流導(dǎo)為分子流導(dǎo)。磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)用于測(cè)量上游室中的壓力。校準(zhǔn)室采用球形容器,在球形容器內(nèi)最容易建立起均勻的分子流場(chǎng)[15],這對(duì)于動(dòng)態(tài)校準(zhǔn)系統(tǒng)是很重要的。為了保證磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)和被校質(zhì)譜計(jì)處于相同的真空條件,校準(zhǔn)系統(tǒng)按對(duì)稱結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),氣體注入口和出口限流小孔位于校準(zhǔn)室的兩個(gè)極點(diǎn),氣體入口處加有散流裝置,磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)、超高真空冷規(guī)和被校質(zhì)譜計(jì)要安裝在與入口和出口連成的軸線相垂直的同一赤道平面內(nèi)[8]。
這套系統(tǒng)采用兩種方法對(duì)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn),分別是動(dòng)態(tài)直接測(cè)量法和衰減壓力的分子流動(dòng)態(tài)進(jìn)樣法。由于此系統(tǒng)采用磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)作為參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)[9],磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)的測(cè)量范圍是10-1~10-4Pa,動(dòng)態(tài)直接測(cè)量法是采用校準(zhǔn)室所接的磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)(15)作為參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)直接測(cè)量分壓力,因此動(dòng)態(tài)直接測(cè)量法的測(cè)量范圍是10-1~10-4Pa。衰減壓力的分子流動(dòng)態(tài)進(jìn)樣法采用上游室上所接的磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)(19)測(cè)量,即關(guān)閉超高真空角閥(16),調(diào)節(jié)穩(wěn)壓室的壓力,使上游室的壓力處于10-1~10-4Pa范圍內(nèi),而限流小孔(17)和限流小孔(12)之間的流導(dǎo)比可以試驗(yàn)得到,選擇合適的限流小孔,使它們之間的流導(dǎo)比接近10-3,這樣就可以利用磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)(19)的測(cè)量值,經(jīng)過(guò)計(jì)算得到校準(zhǔn)室的壓力,衰減壓力的分子流動(dòng)態(tài)進(jìn)樣法的校準(zhǔn)范圍是10-4~10-6Pa。所以系統(tǒng)的極限真空度是5 ×10-7Pa,校準(zhǔn)范圍是10-1~10-6Pa,不確定度小于4.8%,可以校準(zhǔn)1~3種氣體成分[10]。
針對(duì)四極質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)技術(shù),追蹤國(guó)內(nèi)外的四極質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)系統(tǒng)的研究現(xiàn)狀,可以看出,質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是最先使用一種氣體進(jìn)行校準(zhǔn),而且校準(zhǔn)系統(tǒng)比較簡(jiǎn)單,校準(zhǔn)的范圍比較小;由于質(zhì)譜計(jì)經(jīng)常使用在混合氣體環(huán)境中,由一種氣體校準(zhǔn)引起的不確定度較大,致使發(fā)展到能夠使用混合氣體進(jìn)行校準(zhǔn)的系統(tǒng),也延伸了質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)范圍,降低了校準(zhǔn)的不確定度。
由于各種工作狀況的不同,導(dǎo)致對(duì)質(zhì)譜計(jì)的各種參數(shù)的精度要求不同,因此質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)方法就有相應(yīng)的變化,在日常校準(zhǔn)質(zhì)譜計(jì)的過(guò)程中要根據(jù)實(shí)際的需要選擇不同的校準(zhǔn)系統(tǒng)和校準(zhǔn)方法,以便校準(zhǔn)結(jié)果最優(yōu)。隨著質(zhì)譜計(jì)越來(lái)越廣泛的應(yīng)用,質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)技術(shù)將有更大的發(fā)展,一方面,自動(dòng)控制技術(shù)將引入校準(zhǔn)系統(tǒng),使得質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)更加便利。另一方面,由于精密測(cè)量技術(shù)的發(fā)展,要求質(zhì)譜計(jì)能夠時(shí)刻保持高精度,就對(duì)質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)提出了能夠?qū)崟r(shí)校準(zhǔn)的要求,因此實(shí)時(shí)校準(zhǔn)技術(shù)便是將來(lái)質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)的一個(gè)發(fā)展方向。再者,隨著工業(yè)技術(shù)的發(fā)展,設(shè)備的工作條件越來(lái)越復(fù)雜,在某些條件下,質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)無(wú)法由人為的直接進(jìn)行操作,就提出了質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)技術(shù)的另一個(gè)發(fā)展方向在線校準(zhǔn)技術(shù)。國(guó)內(nèi)的某些實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)開(kāi)始了相關(guān)方面的研究。
[1]李得天.分壓力質(zhì)譜計(jì)的校準(zhǔn)[J].真空,2003,5(3):43~48.
[2]Basford J A,Boeckmann M D,Ellefson R E.American vacuum society recommended practice;Recommended practice for the calibration of mass spectrometers for partial pressure analysis[J].J .Vac.Sci.Technol.,1993,All[3]:A22.
[3]E Lanzinger,K Jousten,M Kühne.Partial pressure measurement by means of infrared laser absorption spectroscopy[J].Vacuum,1998,51(1):47 ~51.
[4]J Miertusova,Sincrotrone Trieste S.P.A.Reliability and accuracy of total and partial pressure measurements in the UHV pressure range under real experimental conditions[J].Vacuum ,1998,51(1):61 ~68.
[5]Akira Kurokawa,Kenji Odaka,Shingo,Ichimura.Partial-pressure measurement of atmospheric- pressure binary gas using two pressure gauges[J].Vacuum,2004,73:301 ~ 304.
[6]查良鎮(zhèn),朱秀珍,陳旭,等.四極質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)與應(yīng)用研究系統(tǒng)[J].真空科學(xué)與技術(shù),1993,13(6):405.
[7]李得天,李正海,馮焱,張滌新,等.分壓強(qiáng)質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)裝置的研制[J].真空科學(xué)與技術(shù),2001,21(3):237.
[8]盧耀文,張滌新,馮焱,等.四級(jí)質(zhì)譜計(jì)在高壓力下的測(cè)量方法[J].真空與低溫,2007,13(2):85~89.
[9]盧耀文,馮焱,李得天.四級(jí)質(zhì)譜計(jì)計(jì)量特性研究[J].真空與低溫,2007,13(4):222.
[10]李得天,馮焱,李正海.分壓力質(zhì)譜計(jì)較準(zhǔn)裝置的性能測(cè)試及校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)[J].真空與低溫,2001,3:21.
[11]李正海,趙光平,李莉.磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)長(zhǎng)期穩(wěn)定性的研究[J].真空與低溫,2009,15(4):222.
[12]李得天,馮焱.分壓強(qiáng)質(zhì)譜計(jì)校準(zhǔn)裝置測(cè)量不確定度評(píng)估[J].真空科學(xué)與技術(shù),2005,25(增刊):39.
[13]李旺奎,劉強(qiáng),李得天.磁懸浮轉(zhuǎn)子規(guī)測(cè)量上限的擴(kuò)展[J].真空與低溫,1990,(1):16~19.
[14]陳旭,張啟亮,谷京華,等.一種新型四極質(zhì)譜計(jì)及其性能測(cè)試[J].真空,1995,10(5):16~23.
[15]馮焱,李得天.標(biāo)樣氣體進(jìn)樣系統(tǒng)[J].真空與低溫,2002,8(1):39 ~45.