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氧化還原反應(yīng)類離子方程式的書寫

2010-04-20 05:16盛恒兵
化學(xué)教與學(xué) 2010年9期
關(guān)鍵詞:酸堿性還原劑方程式

盛恒兵

(江蘇省灌南高級中學(xué)江蘇灌南222500)

氧化還原反應(yīng)類離子方程式的書寫

盛恒兵

(江蘇省灌南高級中學(xué)江蘇灌南222500)

氧化還原反應(yīng)與離子方程式的書寫是高中化學(xué)重要的知識點(diǎn),單純就某一個(gè)知識點(diǎn)學(xué)生掌握較好,而兩者相結(jié)合考查氧化還原類離子方程式的書寫,學(xué)生普遍感到較難,特別是在新情景陌生度較大的環(huán)境下,因?qū)W生基礎(chǔ)不扎實(shí)加之閱讀信息、提煉信息的能力欠缺,相當(dāng)一部分學(xué)生感到無從下手,出錯(cuò)率較高。那么如何掌握正確的書寫方法,減少出錯(cuò)的幾率,下面就兩個(gè)典型的例題談?wù)勓趸€原反應(yīng)類離子方程式的書寫方法:

案例1.(節(jié)選自2009年江蘇17題)廢舊印刷電路板的回收利用可實(shí)現(xiàn)資源再生,并減少污染。廢舊印刷電路板經(jīng)粉碎分離,能得到非金屬粉末和金屬粉末。用H2O2和H2SO4的混合溶液可溶出印刷電路板金屬粉末中的銅。在H2SO4溶液中Cu與H2O2反應(yīng)生成Cu2+和H2O,在提純后的CuSO4溶液中加入一定量的Na2SO3和NaCl溶液,加熱,生成CuCl沉淀。制備CuCl的離子方程式是____ ______________。

分析:

書寫氧化還原反應(yīng)類離子方程式一般要遵循下列幾步:

1.列出氧化劑、還原劑、氧化產(chǎn)物、還原產(chǎn)物,確定電子得失。

根據(jù)題干的表述列出氧化劑、還原劑、氧化產(chǎn)物、還原產(chǎn)物,標(biāo)出化合價(jià)的變化。上題中CuSO4→CuCl銅元素化合價(jià)從+2價(jià)變化到+1價(jià),因此CuSO4是氧化劑,CuCl還原產(chǎn)物,那么Na2SO3就是還原劑,其氧化產(chǎn)物應(yīng)該是NaSO4,可以列出:

2.根據(jù)電子守恒,配氧化劑、還原劑、氧化產(chǎn)物、還原產(chǎn)物的系數(shù)。

Cu元素從+2價(jià)變化到+1價(jià),轉(zhuǎn)移1e-,S元素從+4價(jià)變化到+6價(jià),轉(zhuǎn)移2e-,根據(jù)電子守恒,可配出:

3.看環(huán)境,根據(jù)電荷守恒,配平其他物質(zhì)的系數(shù)。

一般化學(xué)反應(yīng)都要在一定的環(huán)境下才能進(jìn)行,尤其是反應(yīng)環(huán)境的酸堿性對氧化還原反應(yīng)類離子方程式的書寫有著至關(guān)重要的作用,同一個(gè)反應(yīng)因環(huán)境的酸堿性不同,寫出來的離子方程式也是不同的,因?yàn)橛袝r(shí)要使一個(gè)離子方程式電荷守恒,有時(shí)需要在方程式的兩邊加H+和OH-以滿足電荷守恒,有許多同學(xué)會(huì)不顧及反應(yīng)環(huán)境的酸堿性,隨意地在方程式里加上H+和OH-。本題有同學(xué)寫出看似正確,好像也滿足電荷守恒、電子守恒和元素守恒,但違背了客觀事實(shí),忽視了反應(yīng)的酸堿性環(huán)境,Cu2+不可能存在于堿性環(huán)境與OH-共存,所以在酸性環(huán)境下的反應(yīng),離子方程式里不能出現(xiàn)OH-,同理在堿性環(huán)境下的反應(yīng),方程式里不能出現(xiàn)H+。CuSO4溶液呈酸性,本反應(yīng)應(yīng)該在酸性環(huán)境下進(jìn)行,比較兩邊,要使電荷守恒應(yīng)在右邊加H+,左邊對應(yīng)加H2O,不難寫出2H+。

案例2.(節(jié)選自2009年江蘇18題)二氧化氯(ClO2)是一種在水處理等方面有廣泛應(yīng)用的高效安全消毒劑。與Cl2相比,ClO2不但具有更顯著地殺菌能力,而且不會(huì)產(chǎn)生對人體有潛在危害的有機(jī)氯代物。用ClO2處理過的飲用水(pH為5.5~6.5)常含有一定量對人體不利的亞氯酸根離子2001年我國衛(wèi)生部規(guī)定,飲用水的含量應(yīng)不超過0.2mg·L-1。飲用水中的含量可用連續(xù)碘量法進(jìn)行測定。ClO2被I-還原為當(dāng)pH≤2.0時(shí),請寫出pH≤2.0時(shí),被I-反應(yīng)的離子方程式為-------------------------。

1008-0546(2010)09-0081-01

G633.8

B

10.3969/j.issn.1008-0546.2010.09.0331

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