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礦化法合成羥基磷灰石及其除氟性能

2022-11-15 13:05朱丹琛朱娟娟鄭炳云
莆田學(xué)院學(xué)報 2022年5期
關(guān)鍵詞:等溫陰離子投加量

朱丹琛, 朱娟娟, 鄭炳云

( 1. 莆田學(xué)院 環(huán)境與生物工程學(xué)院, 福建 莆田 351100;2. 福建省新型污染物生態(tài)毒理效應(yīng)與控制重點實驗室, 福建 莆田 351100;3. 福建省高校生態(tài)環(huán)境及其信息圖譜重點實驗室, 福建 莆田 351100 )

0 引言

由于人們生活的需要和社會生產(chǎn)的發(fā)展, 電鍍、 冶煉、 半導(dǎo)體制造等行業(yè)得到大幅發(fā)展, 排放出大量的高濃度含氟廢水, 如生產(chǎn)晶體硅太陽能電池板產(chǎn)生的氟化物廢水濃度高達2 500 mg·L-1[1]。 而世界衛(wèi)生組織(WHO)規(guī)定飲用水含氟量不超過1.5 mg·L-1。 飲用含有過量氟化物的水會損害人體健康, 如導(dǎo)致氟骨癥、 甲狀腺功能受損等, 嚴重的情況下還會引起膀胱癌、 骨肉瘤等癌癥[2]。 目前采用的脫氟處理技術(shù)主要有混凝沉淀法、 膜處理、 吸附法和離子交換法[3]。 其中, 吸附法因具有處理效果好、 工藝流程簡單等優(yōu)點, 成為處理含氟廢水的有效方法[4]。 羥基磷灰石(HA)具有較強的吸附性能以及良好的生物相容性, 是一種環(huán)境友好型的新型除氟劑[5-6]。

近年來不斷有研究報道采用不同方法合成HA 及HA 復(fù)合材料, 并用于處理氟離子(F-);但所報道的合成方法中, 沉淀法合成的粉末容易團聚、 溶劑熱法能耗較大, 影響了這兩種方法的進一步使用。 礦化法是一種無機礦物相的緩慢結(jié)晶、 生長的方法, 具有易操作、 設(shè)備簡單和成本低等優(yōu)點。 然而較少報道采用礦化法合成HA 用于去除F-的文獻。 本研究采用礦化法合成HA,通過改變合成時間探究合成HA 的最佳條件, 并探討HA 的吸附時間、 投加量和溶液pH 值等對HA 除氟性能的影響。

1 實驗部分

1.1 試劑與儀器

實驗試劑: Ca(NO3)2·4H2O、 (NH4)3PO4·3H2O、 NaF、 濃氨水, 無水乙醇, 均為分析純,國藥集團化學(xué)試劑有限公司。 實驗用水為超純水。

實驗儀器: DK-600S 三用恒溫水箱(上海精宏實驗設(shè)備有限公司); pHS-25 精密 pH 計(上海偉業(yè)儀器廠); SCS-24 溫控培養(yǎng)搖床(上海市離心機械研究所有限公司); DZF-6050 真空干燥箱(上海精宏實驗設(shè)備有限公司); X 射線衍射(XRD)儀, XRD-6100 型(島津企業(yè)管理(中國)有限公司); 傅里葉變換紅外光譜(FTIR)儀,TENSOR 27 型(德國 Bruker 公司); 掃描電子顯微鏡 (SEM), S4800 型 (日 本 日 立 公 司);ASAP2460 型比表面積及微孔物理吸附儀(美國麥克儀器公司); 離子色譜(IC)儀, 930 型(瑞士萬通)。

1.2 HA 的合成

稱取0.985 g Ca (NO3)2·4H2O 置于100 mL燒杯底部, 稱取 0.507g (NH4)3PO4·3H2O 置于25 mL 燒杯底部, 保持[Ca]/[P]物質(zhì)的量比為1.67。 將 25 mL 燒杯放置于 100 mL 燒杯中。 用恒壓漏斗將100 mL 超純水(用稀氨水調(diào)節(jié)pH =10.50)緩慢滴入上述大小燒杯中。 在三用恒溫水箱中37℃下靜置 3 ~15 d。 樣品經(jīng)抽濾后, 用超純水、 無水乙醇分別清洗3 次, 50℃的真空干燥箱干燥24 h。

1.3 吸附實驗

在50mL 不同濃度的含氟溶液中分別加入一定量的HA, 置于30℃溫控培養(yǎng)搖床中振蕩24 h, 采用離子色譜法測定除氟率。 除氟率(η) 和吸附量(Qe)計算方法如下:

式(1)、 式(2)中: C0為 HA 吸附前 F-的濃度,mg·L-1; Ce為 HA 吸附后 F-的濃度, mg·L-1。Qe為吸附量, mg·g-1; V 為含氟溶液的體積, L;m 為吸附劑(HA)的質(zhì)量, g。

為檢測共存陰離子的影響, 配置1 g·L-1的Na3PO4、 Na2SO4、 NaNO3、 Na2CO3和 NaCl 溶液,分別取一定量上述溶液加入5 mL 100 mg·L-1的F-溶液中, 定容至 50 mL, 得到含有 30~100 ppm的不同共存陰離子的10 mg·L-1的 F-溶液。 在50 mL 上述共存陰離子溶液中, 各加入0.020 g合成時間為5 d 的 HA, 在30℃下振蕩6 h 后, 采用離子色譜測定除氟率。

1.4 表征分析

XRD: Kα 射線, Cu 靶, 管電流 30 mA, 管電壓40kV, 掃描步長0.02°, 掃描范圍20°~55°。

FTIR: 吸收精度0.07%T, 速度40 張光譜/秒, 波長范圍 4 000 ~400 cm-1, 波數(shù)精度 0.005 cm-1。

SEM: 噴金處理, 電壓 5 kV, 放大倍數(shù) 5 ~200 k。

比表面積: 77 K, 液氮為吸附質(zhì), BET 法計算比表面積。

IC: 取吸附后的上清液, 用 0.22 μm 過濾頭過濾后進行測試。

2 結(jié)果與討論

2.1 HA 結(jié)構(gòu)分析

圖1 是 HA 的 XRD 表征結(jié)果, 所有樣品都在 2θ = 25.88°、 31.77°、 32.11°處出現(xiàn) (002)(211)(112)晶面的衍射峰(PDF No.09-0432),并且沒有其他雜峰, 說明合成的樣品均為HA。其中合成時間為5 d 的樣品主衍特征峰比較寬,說明其結(jié)晶度較低, 晶體的尺寸較小[7]。

圖1 不同合成時間制備的HA 的XRD 圖

圖 2 是 HA 的 FTIR 圖, 從中可看出, 在473、 566、 603、 963 和 1 024 cm-1處出現(xiàn) PO3-4的特征峰, 在3 574 和 631 cm-1處出現(xiàn) OH-的吸收峰, 873 cm-1處出現(xiàn)了 CO32-的吸收峰。 出現(xiàn)CO32-吸收峰可能是空氣中的CO2溶入反應(yīng)體系造成的[8]。 其中, 合成時間為 5 d 的樣品, 特征峰比較弱和寬, 與XRD 結(jié)果相符。

圖2 不同合成時間制備的HA 的FTIR 圖

圖3 是不同合成時間制備的HA 的形貌圖。樣品均為粒狀和棒狀, 表面粗糙。 其中合成時間為 3 d 的 HA, 以棒狀為主, 棒長 150 nm 左右,見圖3(a); 合成時間為5d 的HA, 以粒狀為主,粒徑 20~50 nm, 表面最為粗糙, 見圖 3(b); 合成時間為 10 和 15 d 的 HA, 以棒狀為主, 棒長100~150 nm, 表面粗糙, 但棒之間的團聚較為嚴重, 見圖 3(c)、 (d)。

圖3 不同合成時間制備的HA 的SEM 圖

不同合成時間制備的HA 的N2吸附-脫附曲線見圖4。 由圖4 可知, 所有樣品的 N2吸附-脫附曲線都為II 型等溫線, 具有無限制的單層-多層吸附特征; 且曲線均具有H3 型滯后環(huán), 在高P/P0處未出現(xiàn)極限值, 說明樣品具有平板狀顆粒堆積而成的斜孔[9], 這與SEM 的結(jié)果相符。由圖5 可知, 合成時間為5 d 的HA 由于樣品晶粒較小, 表面較為粗糙, 所以比表面積最大, 為43.22 m2·g-1; 合成時間增加到 10、 15 d, HA的比表面積降低到 24.51、 19.60 m2·g-1。 這可能是由于合成時間為5 d 的樣品晶粒較小, 表面較為粗糙, 所以比表面積比較大。

圖4 不同合成時間制備的HA 的N2 吸附-脫附曲線

圖5 HA 合成時間與比表面積的關(guān)系圖

2.2 HA 除氟性能及機理

2.2.1 HA 合成時間對其除氟性能的影響

取不同合成時間制備的HA 各0.020 g, 分別置于50 mL 10 mg·L-1NaF 溶液中吸附6 h,HA 除氟率如圖6 所示。 合成時間為5 d 的HA 除氟率最高, 為76.74 %。 除氟率隨合成時間變化的趨勢與比表面積的一致。

圖6 HA 合成時/間對HA 除氟率的影響

2.2.2 除氟機理討論

圖7 為吸附前后樣品(HA 合成時間為5 d)的XRD 圖, 從中可以看出, 吸附前后樣品都表現(xiàn)出磷灰石的特征衍射峰。 但吸附過程中F-進入HA 的晶格中, 形成了氟磷灰石(FHA, JCPDS 15-0876)。 由于氟替代羥基使得其晶胞參數(shù)a 值從0.9418nm 減小到 0.936 8 nm, c 值從 0.688 4 nm 增加到0.6885 nm。 a 值減小引起晶面間距d 減小,導(dǎo)致吸附后HA 的(211)(300)(202)等峰向右移動; c 值增大引起晶面間距d 增大, 導(dǎo)致吸附后HA 的(002)峰向左移動。 而且F-的進入使得特征峰明顯變強變尖銳, 晶相更穩(wěn)定[10]。 說明HA吸附F-過程中, 部分F-替換OH-的位置。 從吸附前后的 SEM 圖(圖8)也可以看出, 吸附前后, 粒子大小基本不變; 但是吸附后變得更為立體, 而且表面的葡萄狀凸起更為細膩且明晰(圖8(b)), 結(jié)晶度增加。 與吸附前后XRD 結(jié)果一樣。

圖7 吸附前后樣品的XRD 圖

圖8 吸附前后樣品的SEM 圖

圖9 和圖10 為吸附前后樣品的能譜圖, 從中可以看出吸附后的樣品中出現(xiàn)氟峰, F-均勻地分布在HA 中, 與XRD 結(jié)果相符。

圖9 吸附前樣品的能譜圖

圖10 吸附后樣品的能譜圖

2.3 除氟條件對HA 除氟性能的影響

2.3.1 吸附時間對HA 除氟性能的影響

在50 mL 10 mg·L-1的 NaF 溶液中加入0.020 g 的HA(合成時間5 d), 設(shè)置吸附時間為20 min~36 h, 除氟率如圖 11 所示。 當吸附時間小于3 h 時, 除氟率隨吸附時間的增長而急劇升高, 3 h 時達到 72.50%; 當吸附時間為 3 ~24 h時, 除氟率隨吸附時間的增長而逐漸升高, 24 h時達到86.08%; 當吸附時間大于24 h 時, 除氟率趨于平穩(wěn)。 推測是F-通過與OH-的交換作用,占據(jù)了HA 的表面活性中心位置, 24 h 時達到平衡, 之后除氟率基本穩(wěn)定。

圖11 吸附時間對HA 除氟率的影響

HA 吸附F-的準一級模型計算結(jié)果為: 溶液達到吸附平衡時吸附劑的吸附量Qe=7.899 5 mg·g-1, 準一級速率常數(shù) K1= 0.001 8 min-1,方差R2=0.934 3; 準二級模型計算結(jié)果為: 平衡吸附量Qe=23.310 0 mg·g-1, 準二級速率常數(shù)[11]K2= 0.000 9 g·mg-1·min-1, 方差 R2=0.998 2。 其中, 準二級吸附動力學(xué)方程的R2>0.99, 能更好地擬合吸附過程。

準一級吸附動力學(xué)方程:

準二級吸附動力學(xué)方程:

式(3)、 式(4)中:Qt為t 時刻吸附劑的吸附量,mg·g-1。

2.3.2 投加量對HA 除氟性能的影響

稱取0.005~0.050 g 合成時間為5 d 的 HA,分別投入50 mL 10 mg·L-1的 NaF 溶液中, 30℃振蕩24 h, 測定除氟率。 從圖 12 可以看出, 當HA 投加量小于0.020 g 時, 除氟率隨投加量的增加而急劇升高; 當投加量為0.020 ~0.040 g時, 除氟率隨投加量的增加而逐漸升高; 當投加量大于 0.040 g 時, 除氟率趨于平穩(wěn)。 最優(yōu)的HA 投加量為0.040 g, 除氟率可達99.26%。

圖12 HA 投加量對除氟率的影響

2.3.3 溶液pH 值對HA 除氟性能的影響

分別調(diào)節(jié)50 mL 10 mg·L-1NaF 溶液的pH值為 5、 6、 7、 8、 9、 10、 11, 各自投加 0.040 g的HA(合成時間為5 d), 30℃下振蕩24 h, 測定除氟率, 結(jié)果見圖13。 隨著 pH 值的上升, 除氟率先上升后下降, 當 pH 值等 7 時, 除氟率最高, 達到99.26%。 在弱酸性條件下, H+的存在使HA 和F-之間的靜電吸引力減弱, 使得除氟率變低; 而在弱堿性條件下, OH-會與F-競爭,

圖13 溶液pH 值對HA 除氟率的影響

使得F-比較難進入HA 的表面活性中心位置[12],導(dǎo)致除氟率降低。

2.3.4 吸附等溫線

分別配制 50 mL 10 ~ 300 mg·L-1的 NaF 溶液, 各自加入0.040 g 的HA(合成時間為5 d),30℃振蕩 24 h, HA 吸附量如圖 14 所示。 從圖14 可以看出, 隨著 F-濃度的上升, HA 吸附量先急劇升高后逐漸升高, 當 F-濃度達到 200 mg·L-1時, HA 達到了飽和吸附, 此時吸附量為 72.88 mg·g-1; 若 F-濃度繼續(xù)升高, 吸附量基本保持不變。 對吸附曲線采用朗繆爾(Langmuir)和弗羅因德利希(Freundlich)吸附等溫式進行擬合, 擬合曲線見圖14。 Langmuir 吸附等溫式擬合結(jié)果為 Qm= 71.667 1 mg·g-1, KL=0.117 6 L·m-1, R2= 0.8220; Freundlich 吸附等溫式擬合結(jié)果為: KF= 21.466 4 L·g-1, 1/n =0.232 7, R2= 0.980 3。 對比吸附等溫式的相關(guān)系數(shù) R2, 顯然 HA 吸附 F-的過程更符合Freundlich 吸附等溫模型, 這表明吸附是多分子層吸附。 且1/n 值小于1, 說明樣品易于吸附F-。

圖14 F-濃度對HA 吸附量的影響

Langmuir 吸附等溫式:

Freundlich 吸附等溫式:

式(5)、 式(6)中: Ce為吸附平衡時溶質(zhì)的濃度,mg·L-1; Qm為 HA 的飽和吸附量, mg·g-1; KL、KF為吸附常數(shù); n 為描述吸附強度的常數(shù)。

2.3.5 共存陰離子的影響

含有 30、 50、 100 ppm 不同陰離子的 50 mL 10 mg·L-1NaF 溶液中, 分別加入 0.020 g 的 HA(合成時間為5 d), 30℃下振蕩6 h, 測試共存陰離子對 HA 除氟性能的影響。 如圖 15 所示,SO42-或NO3-的存在提高了HA 的除氟率, 這可能是因為這兩種離子提高了溶液的離子強度, 而使除氟率升高; PO43-或CO32-的存在降低了HA存在競爭性吸附, 從而導(dǎo)致除氟率降低; 而Cl-對HA 除氟率幾乎沒有影響。

圖15 共存陰離子對HA 除氟率的影響

2.4 不同方法合成HA 的除氟性能比較

將本文采用礦化法合成的HA(合成時間為5 d)與文獻中采用其他合成方法制備的HA 的除氟率、 吸附量和飽和吸附量進行比較, 結(jié)果見表1。 從表1 可以看出, 與其他方法合成的 HA 相比, 本文方法合成的HA 除氟效果更好。 本文方法合成的HA 尺寸較小, 屬于納米級別, 但比表面積不算高, 其良好的除氟效果可能歸功于吸附過程中的F-與OH-的離子交換。

表1 各種方法合成的HA 及其除氟率和吸附量

3 結(jié)論

(1)采用礦化法合成棒狀和粒狀的納米HA。合成時間5d 得到的HA 比表面積達43.22 m2·g-1,除氟效果最佳。 吸附過程中F-進入HA 的晶格中, 形成氟磷灰石。

(2)通過單因素實驗得出: 當HA 投加量0.040 g、 吸附時間 24 h、 pH = 7 時, HA 的除氟效率最好, 除氟率高達99.26%。 HA 的飽和吸附量可達72.88 mg·g-1。 與其他合成方法相比,礦化法合成HA 的除氟效果更好。

(3)HA 吸附F-過程符合準二級動力學(xué)方程和Freundlich 吸附等溫模型。

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