徐國進, 張巧霞, 羅俊鋒, 李勇軍, 滕海濤, 熊曉東
(1.有研億金新材料有限公司,北京 102200;2.北京市高純金屬濺射靶材工程技術(shù)研究中心, 北京 102200)
隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展,中芯國際已于2019年底實現(xiàn)14 nm制程的量產(chǎn),下一步將努力實現(xiàn)對7 nm的量產(chǎn),英特爾將于2021年由10 nm制程升級到7 nm 極紫外光刻(EUV)工藝,臺積電5 nm制程預(yù)計2020年實現(xiàn)量產(chǎn),三星在2021年將量產(chǎn)更先進的3 nm GAA制程。隨著制程節(jié)點的減小,MOSFET器件尺寸不斷縮小,同時性能不斷提高,作為柵介質(zhì)層的二氧化硅膜厚也隨之減薄,但膜厚降到納米數(shù)量級以下時,電子的直接隧穿效應(yīng)導(dǎo)致器件的漏電流增加,同時出現(xiàn)擊穿及雜質(zhì)向硅襯底的擴散等問題[1-2],這將嚴重影響器件的可靠性及壽命,需要采用高K柵介質(zhì)材料來取代傳統(tǒng)SiO2材料[3-4]。因稀土金屬La,Y,Pr,Ce等的氧化物[5-6]具有高介電常數(shù)、高熱穩(wěn)定性及對硅中的空穴和電子具有高能勢壘,是先進制程理想的高K柵介質(zhì)材料。隨著PVD薄膜制備技術(shù)的發(fā)展,采用磁控濺射[7-8]方式制備高質(zhì)量薄膜材料在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中得到廣泛應(yīng)用,稀土靶材作為功能性薄膜制備用原材料,需求在快速增長。濺射靶材常用的綁定技術(shù)包括機械連接、釬焊、膠粘結(jié)、擴散焊、電子束焊和爆炸焊,不同的綁定技術(shù)一般應(yīng)用于特定的材料和靶材結(jié)構(gòu)型式[9-11]。靶材的釬焊技術(shù)是目前應(yīng)用最廣泛綁定技術(shù),大部分材料靶材都可以采用該技術(shù)進行綁定連接,但在大功率濺射中,因受焊料熔點的局限,需要采用擴散焊接的方式對靶材和背板進行綁定。目前,關(guān)于異質(zhì)金屬靶材焊接研究的論文較多[12-16],如Ti/Cu,Au/Cu,Ti/Al,Al/Cu等異種材料間的焊接,對于稀土靶材異質(zhì)金屬間的焊接研究鮮有報道,文中以La系稀土金屬中的釔為研究對象,采用釬焊和擴散焊接2種綁定方式,開展稀土釔靶材的焊接技術(shù)研究,為制備大尺寸高性能稀土靶材提供依據(jù)。
文中選取純度為99.99%的稀土釔靶、銅背板和6061Al背板為原材料進行試驗。采用MUCT-1000S型超聲無損檢測設(shè)備進行焊合率檢測;焊接強度采用GB/T 7314—2017標(biāo)準在WDW-300型電子萬能試驗機上測試,使用JSM-IT500HR型掃描電鏡觀察稀土釔靶材與背板間的界面擴散情況。
將焊接試樣稀土釔靶材和背板加工至尺寸φ100 mm×8 mm。試驗采用最為常用的高純In作為焊料進行稀土釔靶材與銅背板間的綁定試驗。采用高純稀土釔與6061Al背板進行擴散焊接試驗。
2.1.1稀土釔靶材的浸潤性能
圖1采用φ100 mm×8 mm的稀土釔靶材測試焊料與靶材的浸潤性,如圖1a所示,高純In焊料與釔靶材的浸潤性較差,無法浸潤,為提高稀土釔靶材的綁定質(zhì)量,對靶材進行金屬化鍍Ni處理,改善靶材的浸潤性能。經(jīng)金屬化處理后,In焊料與靶材的不浸潤問題得到解決,如圖1b所示。
圖1 稀土釔靶材焊接浸潤性試驗
2.1.2焊接溫度對稀土釔靶材釬焊性能的影響
在稀土釔靶材(φ100 mm×8 mm)焊接面進行金屬化鍍Ni處理,提高稀土釔的焊接性能,對稀土釔靶材和銅背板在不同的焊接溫度下進行綁定試驗,試驗參數(shù)及結(jié)果見表1,焊合率圖如圖2所示。
表1 釬焊焊接試驗參數(shù)及結(jié)果
圖2 稀土釔靶材焊合率
稀土釔靶材與銅背板釬焊焊合率隨著焊接溫度的升高而增加,在260 ℃時焊接溫度最高達到99.95%,最大單傷最小達到0.05%。隨著溫度的升高,In焊料的流動性增加,提高了靶材的焊合率,但是過高的焊接溫度會引起高純In材料的氧化,增加高純In的用量,設(shè)備能耗增加。釬焊靶材焊合率一般要求達到焊合率≥95%,最大單傷≤2%,考慮到焊接質(zhì)量及成本,稀土釔靶材的最佳焊接溫度范圍為220~240 ℃。
2.1.3稀土釔與銅背板焊接強度及焊接界面分析
對4號稀土釔靶材機加工制備焊接強度測試試樣,試樣尺寸如圖3所示,測試稀土釔靶材焊接強度,檢測結(jié)果見表2,稀土釔靶材的焊接強度為8 MPa,達到常規(guī)釬焊靶材的焊接強度(≥5 MPa)要求。
圖3 焊接強度測試試樣
表2 4號樣件焊接強度測試結(jié)果
稀土釔材料活性高,需要分析焊接界面材料的反應(yīng)情況,對焊接試樣沿直徑方向取樣做焊接界面分析,如圖4所示。EDS能譜顯示,稀土釔與In焊料未發(fā)生明顯的反應(yīng)污染,這是由于稀土釔與In焊料間的金屬化Ni層起到了阻擋層的作用,將稀土釔與In焊料隔離開。
2.2.1稀土釔與6061Al背板擴散焊接設(shè)計
對稀土釔靶材焊接面進行金屬化設(shè)計,將稀土釔靶材與6061Al背板配合裝入包套內(nèi),并對包套進行電子束真空封焊加工,對真空封焊后的樣件進行熱等靜壓(HIP)試驗。封焊后包套及靶材截面結(jié)構(gòu)圖如圖5所示。等靜壓試驗設(shè)計及參數(shù)見表3。
表3 熱等靜壓試驗參數(shù)
2.2.2稀土釔與6061Al背板焊接強度及焊接界面分析
對擴散焊接樣品進行解包套,對1~4號試樣進行焊合率檢測,并制備焊接強度測試試樣,測試焊接強度。焊合率及焊接強度數(shù)據(jù)見表4。
表4 1~4號樣件焊合率及焊接強度結(jié)果
對擴散焊接后樣件機加工去除包套,1號和2號高純稀土釔靶材與6061Al背板直接分離,靶材與背板未發(fā)生焊合;對3號和4號試樣加工焊接強度測試試樣,試樣尺寸如圖3所示,并進行焊接強度測試,焊接強度分別為26 MPa和70 MPa,3號未達到高強度焊接,但焊接強度明顯高于釬焊焊接強度。1號試樣焊接溫度偏低,未發(fā)生擴散連接;升高溫度至300 ℃,2號試樣與背板也未發(fā)生擴散連接,而3號試樣與背板間發(fā)生了擴散焊接,焊合率為100%,焊接強度為26 MPa,主要為3號試樣稀土釔與背板間增加了Ni薄膜,提高了界面的活性,但是焊接溫度偏低;4號試樣中稀土釔材料與背板發(fā)生了擴散焊合,焊合率為100%,同時達到了高焊接強度。
對3號和4號擴散焊接樣件沿直徑方向取樣做焊接界面分析試樣,采用能譜儀對3號和4號焊接界面進行線掃描成分分析,結(jié)果如圖6和圖7所示。經(jīng)過熱等靜壓后,焊接界面緊密結(jié)合。300 ℃擴散焊接的3號樣件界面間發(fā)生擴散,擴散區(qū)深度約為3 μm,擴散深度較少,導(dǎo)致焊接強度較低;400 ℃擴散焊接的4號樣件界面間發(fā)生擴散,擴散區(qū)深度約為8 μm,各成分在焊接界面區(qū)域形成了一個成分逐漸變化互擴散層,在分布曲線上無平臺出現(xiàn),表明焊接界面區(qū)域為互擴散形成的固溶體,未形成金屬間化合物,焊接強度較高為70 MPa。若溫度繼續(xù)升高,擴散區(qū)深度繼續(xù)增加,在擴散區(qū)可能發(fā)生固相反應(yīng)擴散,形成具有穩(wěn)定成分的金屬間化合物,導(dǎo)致焊接強度降低,具體溫度臨界點需要進一步詳細試驗分析。
圖6 3號樣件焊接界面擴散線掃描圖
圖7 4號樣件焊接界面擴散線掃描圖
(1)稀土釔靶材釬焊性能較差,需要進行金屬化處理來提高焊接性能。
(2)稀土釔靶材釬焊焊合率隨焊接溫度的升高而提高,稀土釔靶材最佳釬焊溫度為220~240 ℃,焊接質(zhì)量達到常規(guī)釬焊焊接要求。
(3)稀土釔靶材擴散焊接強度明顯高于釬焊焊接強度,在HIP溫度400 ℃,壓力110 MPa,保溫3 h時,靶材的焊接強度達到70 MPa,實現(xiàn)擴散焊接,得到高焊接強度靶材。