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鉍系光催化劑的合成及其在污水處理中的應(yīng)用

2021-04-20 02:33房維麗王恩紅
工業(yè)催化 2021年2期
關(guān)鍵詞:光電流空位光生

房維麗,張 震,王恩紅,王 歡,王 亮*

(1.中國(guó)海洋大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,山東 青島266100;2.中國(guó)石油克拉瑪依石化有限責(zé)任公司,新疆 克拉瑪依 834000)

光催化技術(shù)目前被認(rèn)為是解決能源短缺和環(huán)境污染問題的最具前景的技術(shù)[1]。自Fujishima A和Honda K以TiO2作為陽(yáng)極,利用光能成功分解水為H2和O2以來(lái)[2],對(duì)光催化技術(shù)的研究熱度只增不減,但目前光催化劑存在對(duì)太陽(yáng)能利用率低、光生電子空穴的復(fù)合率高、穩(wěn)定性差等問題。

BiVO4是一種窄帶隙的可見光響應(yīng)催化劑,早期一直作為色素和顏料應(yīng)用,1998年,Kudo A等[3]首次報(bào)道了BiVO4的光催化性能,就得到了廣泛關(guān)注。BiVO4的帶隙較窄,約為(2.4~2.5)eV,具有可見光響應(yīng)性能,而且其價(jià)帶和導(dǎo)帶位置合適,具有較強(qiáng)的氧化還原能力。大量研究表明[4-6],BiVO4是一種具有在可見光下光催化分解水和降解有機(jī)污染物等優(yōu)良催化活性的光催化劑。但窄的帶隙就代表光生載流子更易復(fù)合,光催化效率會(huì)顯著降低。因此,對(duì)BiVO4進(jìn)行了很多改性,如元素?fù)诫s[7-8]、晶面調(diào)控[9-10]、構(gòu)建異質(zhì)結(jié)[11]等。研究表明[12-13],氧空位作為一種晶體缺陷,能夠在光催化劑中引入新的費(fèi)米能級(jí),增加光生載流子的密度,促進(jìn)光生載流子的分離,拓寬可見光響應(yīng)的范圍,顯著提高光催化劑的催化性能。如Jiang L D等[14]利用加氫處理在BiVO4的表面引入氧空位,并且通過在可見光下降解鹽酸四環(huán)素實(shí)驗(yàn)證明加氫處理后的BiVO4光催化性能顯著提高。Xu J等[15]采用簡(jiǎn)單的水熱法合成了富有氧空位和暴露{001}晶面的BiVO4,土霉素的降解率和TOC去除率分別達(dá)到了95.83%和89.55%。表明氧空位可以有效地提高BiVO4的光催化性能。

本文以NaBH4為還原劑,室溫下通過溶劑還原法合成不同氧空位濃度的OVs-BiVO4-x(x=3,6)光催化劑。并利用X射線衍射、固體紫外-可見漫反射光譜分析等表征手段對(duì)光催化材料進(jìn)行分析。選用羅丹明B(RhB)和亞甲基藍(lán)(MB)作為目標(biāo)污染物探究氧空位濃度對(duì)光催化劑降解性能的影響。

1 實(shí)驗(yàn)部分

1.1 試劑與儀器

硝酸鉍,釩酸銨,硼氫化鈉,羅丹明B,亞甲基藍(lán)均為分析純。

采用德國(guó)Bruker公司 D8 Advance型X射線衍射儀分析光催化劑晶體結(jié)構(gòu)。工作電壓40 kV,工作電流40 mA,銅靶 Kα射線源,λ=0.154 06 nm,掃描步長(zhǎng)0.05°,掃描范圍5°~70°。采用日本島津公司的UV-3600紫外-可見光譜儀對(duì)光催化劑表面的光吸收性能進(jìn)行分析,檢測(cè)波長(zhǎng)范圍為(200~900)nm。采用CHI660e型電化學(xué)工作站對(duì)光催化劑的光電流強(qiáng)度進(jìn)行測(cè)定,負(fù)載光催化劑的FTO玻璃方塊為工作電極,Ag/AgCl為參比電極,Pt絲為輔助電極,電解液為0.1 mol·L-1的Na2SO4溶液,構(gòu)建標(biāo)準(zhǔn)三電極體系,光源采用氙燈,開關(guān)切換時(shí)間間隔為30 s。

1.2 樣品制備

室溫下將2.4253 g的Bi(NO3)3·5H2O溶于20 mL稀硝酸溶液中,記為A液。將0.5850 g的NH4VO3溶于20 mL的NaOH溶液中,記為B液。將溶解好的B液倒入A液中,攪拌1 h。然后轉(zhuǎn)移至50 mL水熱釜中,置于180 ℃烘箱中反應(yīng)24 h,抽濾,在60 ℃烘箱中干燥后研磨得到純BiVO4粉末。

取0.5 g的BiVO4粉末,分散在40 mL濃度為3 mg·mL-1和6 mg·mL-1的 NaBH4溶液中。室溫下攪拌1 h,抽濾,用去離子水沖洗2~3次,在60 ℃烘箱中干燥,得到的氧缺陷樣品記為OVs-BiVO4-x,其中x分別為3和6。

1.3 光催化降解實(shí)驗(yàn)

采用羅丹明B(RhB)和亞甲基藍(lán)(MB)作為目標(biāo)污染物,探究氧空位對(duì)BiVO4的光催化性能影響。將0.05 g催化劑固體粉末分散在裝有100 mL濃度為10 mg·L-1的RhB(MB)溶液的石英反應(yīng)器中,在距離反應(yīng)器上方10 cm 處進(jìn)行光催化降解實(shí)驗(yàn),并使反應(yīng)溶液溫度始終保持在室溫。以氙燈為光源(λ>420 nm),每隔30 min取一次樣,然后離心后取上層清液用紫外分光光度計(jì)測(cè)量吸光度,RhB選用554 nm處,MB選用664 nm處。

2 結(jié)果與討論

2.1 XRD

圖1為BiVO4和OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品的XRD圖。由圖1可見,所有樣品的衍射峰都可以很好的與JCPDS No.14-0688[14]相對(duì)應(yīng),并未發(fā)現(xiàn)其它雜質(zhì)峰,說(shuō)明合成的樣品是純的單斜BiVO4。OVs-BiVO4-x樣品的衍射峰與原始BiVO4的衍射峰沒有明顯不同,說(shuō)明經(jīng)過NaBH4處理并不影響B(tài)iVO4的晶體結(jié)構(gòu)。在2θ=28.82°時(shí)峰值強(qiáng)度較高,對(duì)應(yīng)BiVO4的{112}晶面。

圖1 BiVO4和OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品的XRD圖

2.2 固體紫外-可見漫反射光譜分析

圖2為BiVO4和OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品的紫外可見漫反射光譜。

圖2 BiVO4和OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品的UV-vis DRS 光譜曲線

從圖2可以看出,所有樣品在可見光區(qū)都有強(qiáng)烈的吸收,說(shuō)明樣品都可以在可見光下進(jìn)行光催化反應(yīng)。帶有氧空位OVs-BiVO4-x樣品的吸收帶邊緣發(fā)生紅移,其中OVs-BiVO4-6的吸收邊緣最大,達(dá)到了550 nm??赡苁且?yàn)槿毕莸男纬刹东@了電子,導(dǎo)致單電荷的生成,增強(qiáng)了可見光的吸收[16]。

2.3 光電流分析

圖3為BiVO4和OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品的光電流響應(yīng)曲線。從圖3可以看出,OVs-BiVO4-3和OVs-BiVO4-6的光電流密度比BiVO4要高,OVs-BiVO4-6的光電流密度最大。說(shuō)明氧空位的存在可以提高樣品光生電子和空穴的分離效率,氧空位越多,提升效率越高。

圖3 BiVO4和OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品的光電流響應(yīng)曲線

2.4 光催化降解活性

在可見光下(λ>420 nm),選用RhB和MB作為目標(biāo)污染物進(jìn)行光催化降解實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)前先進(jìn)行30 min的暗反應(yīng)以達(dá)到吸附-脫附平衡,結(jié)果見圖4。

圖4 (a)、(b)分別為催化劑樣品對(duì)RhB和MB的光催化降解曲線;(c)、(d)分別為光催化降解RhB和MB的一級(jí)動(dòng)力學(xué)擬合

從圖4可以看出,經(jīng)過300 min的催化降解,BiVO4,OVs-BiVO4-3和OVs-BiVO4-6對(duì)RhB的降解率分別為27.3%,35.7%和41.6%,對(duì)MB的降解率分別為42.7%,48.2%和58.4%。通過k值的大小,得出光催化劑對(duì)RhB和MB的降解速率大小順序?yàn)镺Vs-BiVO4-6>OVs-BiVO4-3>BiVO4。說(shuō)明氧空位的存在能夠提高BiVO4的光催化降解速率,改善光催化性能。可能是因?yàn)檠蹩瘴蛔鳛楣馍娮拥牟东@位點(diǎn),能夠抑制光生載流子的復(fù)合,為光催化反應(yīng)提供更多的活性位點(diǎn)。從圖4c和d的線性擬合可以看出,所有樣品對(duì)RhB和MB的濃度隨著時(shí)間呈現(xiàn)出擬合度較高的相關(guān)性,表明光催化降解反應(yīng)是一級(jí)反應(yīng)。

3 結(jié) 論

利用簡(jiǎn)單的水熱法合成了BiVO4納米片,然后用NaBH4還原得到具有不同氧空位濃度的OVs-BiVO4-x(x=3,6)樣品。通過對(duì)樣品的表征發(fā)現(xiàn),具有氧空位的樣品可見光吸收明顯增強(qiáng)。光電流測(cè)試表明,經(jīng)過氧空位改性后的OVs-BiVO4-x與原始BiVO4相比光生載流子的分離效率明顯改善,這是因?yàn)檠蹩瘴坏囊氤蔀楣馍d流子的捕獲點(diǎn),促進(jìn)了光生載流子的分離。通過對(duì)污染物RhB和MB的降解發(fā)現(xiàn),含氧空位的光催化劑對(duì)RhB和MB的降解率達(dá)到了41.6%和58.4%,氧空位明顯提升BiVO4的光催化性能。

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