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Ni摻雜ZnO催化劑的制備及其光催化活性

2021-03-29 10:47
印染助劑 2021年3期
關(guān)鍵詞:光生空穴催化活性

(煙臺工程職業(yè)技術(shù)學(xué)院,山東煙臺 264006)

有機偶氮染料結(jié)構(gòu)性能穩(wěn)定,難以被生物降解,嚴(yán)重影響水生動植物的正常生長,污染水體。另外,偶氮染料具有致癌致畸性,威脅人體健康[1-2]。工業(yè)上常用的偶氮染料廢水處理方法有絮凝沉淀法、吸附法、膜分離法和微生物降解法等。這些方法廣泛應(yīng)用于實際染料廢水的處理并取得了較好的效果,但仍存在降解不徹底、成本高、易產(chǎn)生二次污染等缺點,因此迫切需要開發(fā)新的印染廢水處理技術(shù)[3-6]。半導(dǎo)體光催化技術(shù)為染料廢水的治理提供了新的途徑,利用太陽光直接將有機染料降解為H2O 和CO2等小分子無機物,具有反應(yīng)徹底、適用性廣、無二次污染等優(yōu)點,是理想的印染廢水處理方法[7]。半導(dǎo)體在光照下產(chǎn)生光生電子-空穴對,可與其他分子相互作用,降低光生電子-空穴對的復(fù)合概率,使更多光生電子和光生空穴參與有機物的降解反應(yīng),提高光催化活性。過渡金屬離子摻雜不僅可以提高金屬氧化物半導(dǎo)體的吸光度,還可以有效減少光生電子-空穴對的復(fù)合概率,提高光催化活性[8-9]。納米ZnO 比表面積大、光催化性能好、無毒無害,廣泛應(yīng)用于光催化殺菌、環(huán)境凈化、有機污染物降解等[10]。

本研究采用沉淀法制備Ni 摻雜ZnO 催化劑,以亞甲基藍溶液為模擬染料廢水,研究Ni 摻雜比對ZnO 光催化性能的影響。

1 實驗

1.1 試劑與儀器

試劑:Zn(NO3)2·6H2O、Ni(NO3)2·6H2O、NaOH、無水乙醇(分析純,國藥集團化學(xué)試劑有限公司),Tween 80(分析純,杭州弗德生物科技有限公司)。

儀器:D/Max 2550 VB/PC 型X 射線衍射儀(美國Rigaku 公司),JSM7500 掃描電子顯微鏡(日本JEOL公司),RF-5301PC 型熒光分光光譜儀、UV-2250 型紫外-可見漫反射光譜儀(日本島津公司)。

1.2 Ni摻雜ZnO 催化劑的制備

將40 mmol Zn(NO3)2·6H2O 和2 mmol Tween 80 加入50 mL 去離子水中,再加入一定量Ni(NO3)2·6H2O[Ni 0%、2%、4%、6%、8%(對Zn 物質(zhì)的量)],用NaOH溶液調(diào)節(jié)pH 為12,沉淀經(jīng)過濾、去離子水清洗、無水乙醇清洗后60 ℃干燥24 h,500 ℃退火2 h,得到不同Ni 摻雜比的ZnO 催化劑,依次記為ZnO、2%Ni-ZnO、4%Ni-ZnO、6%Ni-ZnO、8%Ni-ZnO。

1.3 光催化實驗

用自制光催化反應(yīng)裝置測試100 mg 不同Ni摻雜比ZnO 催化劑的光催化活性。以80 mL 1.0×10-5mol/L的亞甲基藍溶液為模擬染料廢水,30 W 紫外燈為光源,光源距離反應(yīng)器10 cm。在指定時間取5 mL 反應(yīng)溶液,離心分離后取上清液測試吸光度,亞甲基藍的降解率按下式計算:

其中,A0為初始時刻亞甲基藍在最大吸收波長處的吸光度;A為指定時間亞甲基藍在最大吸收波長處的吸光度。

2 結(jié)果與討論

2.1 表征

2.1.1 光吸收

由圖1 可以看出,ZnO 吸光度最低,隨著Ni 摻雜比的增加,吸光度增大,表明Ni 摻雜可以提高ZnO 吸收紫外光的能力。另外,隨著Ni 摻雜比的增加,ZnO的吸收邊界先紅移后藍移,表明Ni 摻雜能夠改變ZnO 的吸收邊界。

圖1 不同Ni摻雜比ZnO 的漫反射吸收譜

根據(jù)漫反射吸收譜計算得到不同Ni 摻雜比ZnO催化劑的禁帶寬度,結(jié)果見表1。

表1 不同Ni摻雜比ZnO 催化劑的禁帶寬度

Ni 摻雜比從0%增至6%時,禁帶寬度由3.28 eV減小為3.16 eV,進一步增加Ni 摻雜比,禁帶寬度增大為3.24 eV,可能是由Ni 替代Zn 后引起的晶格應(yīng)變以及過渡金屬離子的定域自旋引起[11]。

2.1.2 XRD

由圖2 可以看出,對照標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)庫,未摻雜ZnO在2θ=31.9°、34.5°、36.2°、47.5°、56.6°、63.1°和68.2°處均存在衍射峰,分別對應(yīng)六方鉛鋅礦ZnO 的(100)、(002)、(101)、(102)、(110)、(103)和(112)晶面。Ni 摻雜ZnO 的XRD 圖譜中除ZnO 特征峰以外,在2θ=44.1°處出現(xiàn)新的特征峰,對應(yīng)NiO 的(200)晶面,表明Ni 已成功摻雜到ZnO 中。

圖2 不同Ni摻雜比ZnO 的XRD 譜圖

結(jié)合XRD 譜圖由Scherrer 公式計算不同Ni 摻雜比ZnO 晶粒尺寸,結(jié)果如表2 所示。未摻雜Ni 的ZnO的晶粒最大,平均粒徑為45 nm,隨著Ni 摻雜比的增加,晶粒尺寸先減小后增大,當(dāng)Ni 摻雜比為6%時,ZnO 的晶粒最小,平均粒徑為28 nm。

表2 不同Ni摻雜比ZnO 催化劑的晶粒尺寸

2.1.3 PL 譜

由圖3 可看出,未摻雜和Ni 摻雜ZnO 在392 nm附近都有一個較弱的峰,對應(yīng)ZnO 的紫外發(fā)射;在418 nm 處觀察到強的紫色發(fā)射;在444、459 nm 處觀察到深能級藍色發(fā)射;在507、528 和542 nm 處的峰對應(yīng)綠色發(fā)射[12]。隨著Ni 摻雜比增加,PL 光譜強度先減小后增大,Ni摻雜比為6%時,PL 光譜強度最低,表明6%Ni-ZnO 催化劑的光生電子-空穴對復(fù)合概率最低,更多光生電子和光生空穴參與光催化反應(yīng)。

圖3 不同Ni摻雜比ZnO 的PL 譜

2.1.4 SEM

由圖4 可以看出,純ZnO 呈片狀,2%Ni-ZnO 和4%Ni-ZnO 分別為長條狀和短棒狀,6%Ni-ZnO 和8%Ni-ZnO 分別為較小的片狀和近似球形顆粒狀,表明Ni摻雜能明顯改變ZnO 催化劑的表觀形貌。

圖4 不同Ni摻雜比ZnO 的SEM 圖

2.2 光催化活性

由圖5 可看出,無催化劑時亞甲基藍的降解率基本為0%,表明亞甲基藍在光照下不分解。無光照下降解率略有增加,可能是由于部分亞甲基藍被吸附于催化劑表面,溶液中亞甲基藍濃度降低。隨著光照時間延長,不同Ni 摻雜比ZnO 對亞甲基藍的降解率出現(xiàn)不同程度的提高,120 min 后基本保持穩(wěn)定。Ni摻雜ZnO 對亞甲基藍的降解率明顯高于純ZnO,隨著Ni 摻雜比增加,降解率先升高后降低,當(dāng)Ni 摻雜比為6%時降解率最高。在相同光催化條件下,ZnO 對亞甲基藍的降解率隨光照時間延長緩慢增大,120 min 后降解率為44.8%;6%Ni-ZnO 對亞甲基藍的降解率隨著光照時間延長增大較快,120 min 后降解率達到94.4%。原因:(1)Ni 摻雜后,ZnO 的光吸收增加,產(chǎn)生更多光生電子-空穴對參與光催化反應(yīng),光催化活性提高;(2)在光照條件下,ZnO 和Ni 摻雜ZnO 均產(chǎn)生大量光生電子-空穴對,但ZnO 產(chǎn)生的光生電子-空穴對容易復(fù)合,可參與光催化反應(yīng)的光生電子-空穴對較少,Ni 摻雜后,ZnO 的費米能級向負(fù)電位方向移動,使界面電荷轉(zhuǎn)移過程更有效,光生電子-空穴對復(fù)合概率降低,可參與光催化反應(yīng)的光生電子-空穴對增加,光催化活性增強,Ni 摻雜比較高時,晶體內(nèi)部缺陷增多,可能成為光生電子-空穴對的復(fù)合中心,增加復(fù)合概率,減少參與光催化反應(yīng)的光生電子-空穴對,光催化活性降低。

圖5 不同Ni摻雜比ZnO 催化劑光催化亞甲基藍的降解率

2.3 催化劑的穩(wěn)定性

為研究Ni 摻雜ZnO 的穩(wěn)定性,每次反應(yīng)完成后對溶液進行過濾,收集光催化降解后的6%Ni-ZnO,用去離子水洗凈后60 ℃干燥24 h,作為下次反應(yīng)的催化劑。由圖6 可知,重復(fù)10 次后,6%Ni-ZnO 對亞甲基藍的降解效果略降低,但仍保持較高水平,說明Ni摻雜ZnO 具有較好的穩(wěn)定性,可重復(fù)使用。

圖6 催化劑重復(fù)使用后亞甲基藍的降解率

3 結(jié)論

采用沉淀法制備不同Ni 摻雜比的ZnO。隨著Ni摻雜比增加,ZnO 的禁帶寬度先減小后增大。Ni 摻雜到ZnO 中能顯著提高其光催化活性,6%Ni-ZnO 具有最高的光催化活性,120 min 后對亞甲基藍的降解率達到94.4%。Ni摻雜ZnO 催化劑具有較好的穩(wěn)定性。

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