張 杭, 王 磊, 程 浩, 徐航勛
(中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)高分子科學(xué)與工程系,合肥微尺度物質(zhì)國家科學(xué)中心,中國科學(xué)院軟物質(zhì)化學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,合肥 230026)
隨著人類工業(yè)社會(huì)的發(fā)展,環(huán)境污染治理和資源保護(hù)問題日益受到關(guān)注[1,2]。其中,工業(yè)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的大量可溶性有機(jī)染料引起的水污染問題是環(huán)境污染的主要問題之一[3,4]。有機(jī)染料具有高毒性和強(qiáng)致癌性,因此對含有有機(jī)染料污染物的污水進(jìn)行降解處理是非常必要的[5,6]。目前, 從工業(yè)廢水中除去有機(jī)染料的主要技術(shù)包括化學(xué)氧化、電化學(xué)處理、膜分離、吸附、光催化、生物修復(fù)和微生物分解等[7,8]。其中,利用半導(dǎo)體材料在太陽光下對污水中有機(jī)染料進(jìn)行降解是最環(huán)保、最有效和最具可行性的方法之一[9-12]。太陽光是清潔能源,它主要包括紫外光(<400 nm),可見光(400~760 nm)以及近紅外光(760~3 000 nm)。其中紫外光約占6.8%,可見光約占38.9%。值得注意的是,約54.3%的太陽光位于近紅外范圍[13]。因此開發(fā)具有寬光吸收范圍的光催化劑應(yīng)用到光催化降解反應(yīng)中,對于實(shí)現(xiàn)太陽能的高效利用是非常有意義的。
共軛微孔聚合物(CMP)具有π-共軛骨架和固有微孔結(jié)構(gòu)等特性[14-17],在光催化水分解和有機(jī)污染物的光降解等領(lǐng)域得到了廣泛使用[18-20]。相比較于成本較高、結(jié)構(gòu)難以調(diào)控的無機(jī)半導(dǎo)體材料,CMP 半導(dǎo)體材料具有許多優(yōu)勢。例如,CMP 的光學(xué)和電子性質(zhì)可調(diào)控,成本低廉且易于合成,因此,CMP 半導(dǎo)體材料在光催化染料降解方面有著廣闊的應(yīng)用前景[18]。然而,目前所報(bào)道的CMP 光催化劑大部分只能在紫外和可見光下驅(qū)動(dòng)光催化降解反應(yīng),意味著超過一半的太陽能沒有被有效利用。這其中的主要問題是具有低帶隙(Eg<1.6 eV)又可以降解染料的聚合物半導(dǎo)體種類偏少。
最近,本課題組報(bào)道了一種帶隙僅為1.22 eV 的氮雜稠環(huán)共軛微孔聚合物半導(dǎo)體(aza-CMP),并利用aza-CMP 實(shí)現(xiàn)了在可見光以及近紅外區(qū)下進(jìn)行光催化水分解產(chǎn)氧反應(yīng)[21]。這項(xiàng)研究表明aza-CMP 是一種具有寬光吸收范圍的CMP 半導(dǎo)體材料,同時(shí)它的能帶結(jié)構(gòu)顯示其在光催化染料降解方面具有潛在應(yīng)用前景?;谠摴ぷ鞯膯l(fā),本文進(jìn)一步將具有低帶隙的aza-CMP 應(yīng)用于光催化降解染料,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明aza-CMP 對剛果紅(Congo Red,CR)、羅丹明B(Rhodamine B,RhB)和甲基橙(Methyl Orange,MO)等一些常見的有機(jī)染料都具有很強(qiáng)的光催化降解作用。在可見光照射下(760 nm>λ>420 nm),300 min 后,3 種染料降解率均接近100%,相比較其他傳統(tǒng)光催化劑如TiO2、石墨相碳化氮(g-C3N4)和銀負(fù)載二氧化鈦(Ag-TiO2)等顯示出更優(yōu)的性能。值得指出的是,即使在近紅外光照射下(λ>800 nm),aza-CMP 仍然能夠催化染料降解,而其他光催化劑TiO2、g-C3N4和Ag-TiO2在此光譜范圍內(nèi)無催化活性。同時(shí),循環(huán)測試表明aza-CMP 是一種非常穩(wěn)定的光催化劑,在多次循環(huán)后仍能保持其結(jié)構(gòu)和高催化活性。以上研究成果為共軛有機(jī)聚合物材料在光催化領(lǐng)域的應(yīng)用提供了新的思路和方法,為太陽能的有效利用提供合理途徑并有望應(yīng)用于光催化降解污染物的實(shí)際生產(chǎn)中。
1,2,4,5-苯四胺四鹽酸鹽、RhB:純度95%,西格瑪奧德里奇(上海)貿(mào)易有限公司;N-甲基吡咯烷酮(NMP):高效液相色譜級,西格瑪奧德里奇(上海)貿(mào)易有限公司;1,3-二苯基異苯并呋喃(DPBF):純度97%,上海麥克林生化科技有限公司;MO:純度98%,梯希愛(上海) 化成工業(yè)發(fā)展有限公司;環(huán)己六酮八水化合物:純度95.0%,梯希愛(上海)化成工業(yè)發(fā)展有限公司;CR、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶酮(TEMP):純度98%,阿拉丁試劑(上海)有限公司。
使用瑞士Bruker 公司Avance III-400 型核磁共振儀測定固態(tài)13C-CP/MAS NMR 譜圖,四甲氧基硅烷(TMS)為內(nèi)標(biāo),CCl4為溶劑;使用美國熱電公司Thermo-Nicolet 6700 傅里葉變換紅外光譜(FT-IR)儀測定紅外光譜圖,樣品為溴化鉀粉末壓片,掃描范圍為4 000~400 cm-1;X 射線衍射(XRD)圖通過荷蘭PHILIPS 公司的X'Pert型號X 射線衍射儀測得,掃描速率為5°/min,掃描范圍為10°~60°;電子自旋共振(ESR)圖譜由日本電子株式會(huì)社JEOL 的JES-FA200 電子順磁共振波譜儀測得;使用FEI Sirion-200 場發(fā)射掃描電子顯微鏡和Hitachi H-7650 透射電子顯微鏡觀察樣品形貌;紫外測試使用日本島津UV 3600 紫外-可見光譜儀,掃描范圍為200~800 nm;使用美國麥克儀器公司Micromeritics ASAP 2020 型比表面積分析儀進(jìn)行氮?dú)馕?脫附曲線的測試以及孔徑分析;光催化降解實(shí)驗(yàn)所用的氙燈光源為北京泊菲萊公司PLS-SXE 300 型。
在氬氣氛圍下,將1,2,4,5-苯四胺四鹽酸鹽(1 g,3.52 mmoL)和環(huán)己烷六酮八水化合物(0.73 g,2.35 mmoL)加入到圓底燒瓶并置于冰浴中。將硫酸(2.5 mL)與脫氧N-甲基吡咯烷酮(80 mL)混合,混合溶液緩慢加入到上述圓底燒瓶中。反應(yīng)物在室溫下攪拌2 h 后使用油浴代替冰水浴,加熱至180 ℃并保持8 h。然后冷卻至室溫,加入水以淬滅反應(yīng)。使用聚四氟乙烯(0.5 mm)膜過濾并收集從溶液中沉淀的黑色固體產(chǎn)物。將得到的深色固體進(jìn)一步用甲醇和水索氏提取3 d,在120 ℃下真空干燥24 h,最終得到黑色粉末狀產(chǎn)物aza-CMP。
在可見光和近紅外光照射下進(jìn)行有機(jī)染料光降解反應(yīng)。CR,RhB 和MO 3 種染料的濃度分別為1×10-3,2.8×10-4mol/L 和4×10-4mol/L。在進(jìn)行光照之前,將染料溶液(30 mL)和30 mg aza-CMP 在黑暗中攪拌3 h 以達(dá)到吸附-解吸平衡。光催化實(shí)驗(yàn)的可見光波段為420 nm<λ<760 nm,光強(qiáng)為100 mW/cm2;近紅外光波段為λ>800 nm,光強(qiáng)為9.8 mW/cm2。在一定的時(shí)間間隔內(nèi),收集反應(yīng)懸浮液(2 mL)并離心以除去光催化劑,取上層清液進(jìn)行紫外光譜測試。使用P25 二氧化鈦(P25-TiO2)、g-C3N4和Ag-TiO2作為催化劑,測試條件與aza-CMP的測試條件相同,比較aza-CMP 與其他催化劑對污染物的降解性能。
aza-CMP 的化學(xué)結(jié)構(gòu)式見圖1(a)。aza-CMP 固態(tài)核磁共振碳譜見圖1(b),譜圖顯示在aza-CMP 結(jié)構(gòu)中存在3 種化學(xué)環(huán)境的碳原子,其中化學(xué)位移140 附近的峰歸屬于化學(xué)鍵C―N 中的碳原子,130 附近的峰可歸屬于化學(xué)鍵C=N 中的碳原子,而110 附近的峰歸屬于化學(xué)鍵C=C 中的碳原子。與此同時(shí),傅里葉變換紅外光譜進(jìn)一步確定了aza-CMP 的結(jié)構(gòu)(圖1(c)),其中1 428 cm-1處的吸收峰歸屬于氮雜稠環(huán)(C―C=N―C)中C―C 鍵的振動(dòng),而在1 220 cm-1左右的吸收峰對應(yīng)的是C―C=N―C 中的C=N 鍵振動(dòng)。氮?dú)馕?脫附曲線見圖1(d),aza-CMP 的比表面積為220 m2/g,微孔孔容為0.185 cm3/g。與此同時(shí),通過非定域密度函數(shù)理論(NLDFT)方法模擬得到的aza-CMP 孔徑分布曲線(圖1(e))顯示其平均孔徑約為1.45 nm,表明aza-CMP 具有微孔聚合物特征。對于半導(dǎo)體催化劑而言,能帶結(jié)構(gòu)位置的確認(rèn)至關(guān)重要。在我們前期工作的基礎(chǔ)上[21],得到了aza-CMP 的能帶結(jié)構(gòu)示意圖(圖1(f))。aza-CMP 的能帶位置表明它具有1.22 eV的帶隙,并且價(jià)帶的位置很低,表明其具有寬的光吸收范圍以及較強(qiáng)的光氧化能力[22,23],展現(xiàn)出在光催化降解染料應(yīng)用方面的潛力。
由于高分子納米片層與層之間存在強(qiáng)相互作用,高度共軛的aza-CMP 易于堆疊形成聚集的多層結(jié)構(gòu)。由圖2(a)所示aza-CMP 的SEM 圖像可以看出,aza-CMP 表現(xiàn)為不規(guī)則的片狀形態(tài)聚集體,其尺寸達(dá)幾微米。圖2(b)所示的TEM 圖像同樣顯示aza-CMP 具有不規(guī)則堆疊的多層結(jié)構(gòu)。與此同時(shí),高分辨透射電鏡以及對應(yīng)的選定區(qū)域電子衍射圖案均表明aza-CMP 是無定形結(jié)構(gòu)(圖2(c)),這也與粉末X 射線衍射(PXRD)表征的結(jié)果(圖2(d))相一致,譜圖中僅在270左右出現(xiàn)一個(gè)較強(qiáng)的由aza-CMP 層間堆疊導(dǎo)致的衍射峰[24]。
圖1 aza-CMP 的(a)化學(xué)結(jié)構(gòu)式,(b)固態(tài)核磁共振碳譜,(c)紅外光譜圖,(d)氮?dú)馕?解吸等溫曲線,(e)通過NLDFT 方法獲得的相應(yīng)孔徑分布,(f)能帶結(jié)構(gòu)示意圖Fig. 1 (a) Chemical structure, (b) solid-state 13C-CP/MAS NMR spectrum, (c) FT-IR spectrum, (d) N2 adsorption-desorption isotherms, (e)corresponding pore size distribution obtained by the NLDFT method, (f) electronic band structure of aza-CMP
圖2 aza-CMP 的(a)掃描電鏡圖,(b)透射電鏡圖,(c)高分辨電鏡圖和相應(yīng)的電子衍射圖,(d) X 射線衍射譜圖Fig. 2 (a) SEM and (b) TEM images, (c) high-resolution TEM image and the corresponding SAED pattern, (d) XRD pattern of aza-CMP
aza-CMP 在可見光照射下對CR、RhB 和MO 的降解性能測試結(jié)果如圖3(a,b)所示,在光照300 min 后對CR 和RhB 均能夠達(dá)到接近100%的降解,體現(xiàn)出aza-CMP 對于CR 和RhB 優(yōu)異的光降解活性。與此同時(shí),當(dāng)P25-TiO2、Ag-TiO2和g-C3N4作為光催化劑時(shí),在300 min 時(shí)對CR 和RhB 的最大降解效率僅為10%和60%左右,其降解速率明顯低于aza-CMP 的相應(yīng)值。當(dāng)aza-CMP 作為光催化劑時(shí),在300 min 內(nèi)MO 的降解效率可以高達(dá)85%,而其他3 種光催化劑僅能實(shí)現(xiàn)最大約15%的降解效率(圖3(c))。與此同時(shí),aza-CMP 降解反應(yīng)速率常數(shù)(k)要遠(yuǎn)高于其他3 種光催化劑,證明aza-CMP 具有更優(yōu)異的光催化降解染料性能(圖3(d))。
基于實(shí)際應(yīng)用的需求,我們也設(shè)計(jì)了一種簡單的流動(dòng)反應(yīng)裝置用于染料降解(圖3(e))。通過將一定量的aza-CMP(~50 mg)置于石英管中,并從上部加入CR 溶液,在流動(dòng)相中進(jìn)行光催化降解反應(yīng)。在可見光照射下,通過aza-CMP 后的CR 溶液轉(zhuǎn)變?yōu)闊o色,收集得到的溶液紫外光譜測試顯示CR 被完全降解。而當(dāng)?shù)攘康墓枘z作為對比樣品時(shí),通過后的溶液依舊有顏色,而且紫外光譜也顯示CR 沒有被降解。以上結(jié)果說明了CR 在這個(gè)連續(xù)裝置中通過aza-CMP 時(shí)得到了完全的光降解而非物理吸附過程,進(jìn)一步表明aza-CMP 光催化染料降解應(yīng)用的優(yōu)異性能,并展現(xiàn)潛在的工業(yè)應(yīng)用價(jià)值。
圖3 (a, b,c)光催化降解染料的曲線(760 nm>λ>420 nm); (d)由圖(a~c)計(jì)算得到的污染物的降解速率常數(shù)k;(e)通過流動(dòng)裝置光催化降解CRFig. 3 (a, b, c) Photocatalytic degradation curves (760 nm>λ >420 nm) using various photocatalysts; (d) Degradation rate constants k calculated from Fig.(a—c); (e) Photocatalytic degradation of CR using a flow device
此外,考慮到aza-CMP 在近紅外光區(qū)依舊具有光吸收特性,我們也深入研究了其在近紅外光照射下對有機(jī)染料的降解活性(圖4(a,b,c))。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示在光照300 min 后,aza-CMP 對3 種染料的降解率均能達(dá)到60%左右。與此同時(shí),其他常見的可見光催化劑如P25-TiO2,Ag-TiO2和g-C3N4對染料基本沒有降解性能。通過計(jì)算得到的反應(yīng)速率常數(shù)k 更能明顯看出,aza-CMP 在近紅外光照下仍表現(xiàn)出較高的光催化染料降解活性。
對于光催化劑的實(shí)際應(yīng)用而言,催化反應(yīng)的循環(huán)穩(wěn)定性至關(guān)重要。如圖5(a)所示, 在5 次循環(huán)過程中aza-CMP 仍能保持對CR 的降解速率,說明其具有良好的催化穩(wěn)定性。與此同時(shí),進(jìn)一步比較光催化反應(yīng)前后aza-CMP 的化學(xué)結(jié)構(gòu),固體核磁譜圖表明催化前后沒有出現(xiàn)明顯的變化(圖5(b)),同時(shí)紅外光譜以及X 射線衍射譜圖(圖5(c,d))也顯示其結(jié)構(gòu)未發(fā)生明顯變化,以上結(jié)果均說明aza-CMP 具有優(yōu)異的光催化穩(wěn)定性。
鑒于aza-CMP 表現(xiàn)出優(yōu)異的光催化染料降解性能,本文進(jìn)一步對其催化降解機(jī)理進(jìn)行了探究。對于光催化降解反應(yīng)而言,催化降解反應(yīng)的活性物質(zhì)通常有羥基自由基(·OH)、超氧自由基(·-O2)、單線態(tài)氧(1O2)和光生空穴(h+)等[25-28]。首先,aza-CMP 的能帶結(jié)構(gòu)顯示其不能產(chǎn)生·OH 以及·-O2自由基,故排除了兩者作為降解活性來源的可能性。接著,本文利用DPBF 在光照下發(fā)生氧化降解實(shí)驗(yàn)來驗(yàn)證1O2是否存在[29]。如圖6(a,b)所示,DPBF 空白試驗(yàn)對照中光照90 min 后的降解效率僅為10% 左右。而當(dāng)aza-CMP 存在時(shí),DPBF 在光照90 min 后的降解效率升高至70%左右,說明aza-CMP 能夠在光照條件下產(chǎn)生1O2。與此同時(shí),進(jìn)一步利用ESR 光譜檢測活性氧元素,結(jié)果如圖6(c)所示。當(dāng)使用TEMP 作為自由基捕捉劑時(shí),光照時(shí)會(huì)產(chǎn)生典型的1O2信號且隨著光照時(shí)間的延長信號增大[28]。這一結(jié)果與以上DPBF 降解實(shí)驗(yàn)結(jié)果相一致,說明aza-CMP 能夠在光照條件下產(chǎn)生1O2。另一方面,當(dāng)添加甲醇和異丙醇作為空穴犧牲劑時(shí),aza-CMP 對于CR的降解能力大大降低(圖6(d))[28],說明光生空穴的消耗降低了aza-CMP的降解性能。以上結(jié)果表明aza-CMP 在光照條件下產(chǎn)生的1O2和光生空穴是催化降解染料的活性物質(zhì)。
圖4 (a,b,c)光催化降解染料的曲線(λ>800 nm);(d)由圖(a~c)計(jì)算得到的污染物的降解速率常數(shù)kFig. 4 (a, b, c) Photocatalytic degradation curves (λ>800 nm) using various photocatalysts; (d) Degradation rate constants k calculated from Fig.(a—c)
圖5 (a)可見光下aza-CMP 光催化CR 降解的循環(huán)性能圖;(b) aza-CMP 在光催化前后的固體核磁共振譜圖; aza-CMP 在光催化前后的(c)紅外光譜圖和(d)X 射線衍射譜圖Fig. 5 (a) Photocatalytic degradation of CR for consecutive cycles using aza-CMP as the photocatalyst under visible light irradiation;(b) Solid-state 13 C-CP/MAS NMR spectra of aza-CMP; (c) FT-IR spectra and (d) XRD patterns of aza-CMP before and after photocatalysis
圖6 (a) aza-CMP 在氧氣氛圍下光降解DPBF 的紫外光譜圖;(b) aza-CMP 降解DPBF 的曲線;(c)利用TEMP 捕捉單線態(tài)氧的電子順磁共振譜圖;(d)添加空穴犧牲劑的條件下,aza-CMP 光降解剛果紅的光催化降解曲線Fig. 6 (a)UV-Vis spectra of aza-CMP photodegradation DPBF in oxygen atmosphere; (b) Curves for degradation of DPBF using aza-CMP;(c) ESR spectra of 1O2 captured by TEMP spin probes ; (d)aza-CMP photocatalytic degradation curves of CR in the presence of hole scavengers
為了進(jìn)一步確定aza-CMP 光催化降解染料的機(jī)理以及可能的反應(yīng)中間體產(chǎn)物,我們重點(diǎn)研究了CR 的光降解過程。圖7(a)為光降解過程中CR 溶液的LC-MS 分析得到的降解產(chǎn)物質(zhì)譜圖[30-32]。通過對降解產(chǎn)物進(jìn)行進(jìn)一步的分析比對,得到了CR 光降解過程可能的路線圖(圖7(b))。降解過程主要分為3 步:(1)C―N鍵以及C―S 鍵斷裂形成一些分子量較大的中間體(反應(yīng)①);(2),N=N 鍵被進(jìn)一步氧化斷裂,形成一些萘基小分子(反應(yīng)②);(3)隨著降解反應(yīng)進(jìn)一步進(jìn)行,苯環(huán)被氧化,得到一些小分子量的單體(反應(yīng)③和④)。
(1)鑒于低帶隙aza-CMP 的能帶結(jié)構(gòu),成功將其用于可見光和近紅外光下驅(qū)動(dòng)光催化有機(jī)染料降解反應(yīng)。
(2)在可見光照射300 min 的降解效率均接近100%,紅外光照射300 min 的降解效率均接近60%,性能遠(yuǎn)高于其他常見的光催化劑。
(3)aza-CMP 是一種非常穩(wěn)定的光催化劑,在多次循環(huán)反應(yīng)后仍能保持其結(jié)構(gòu)和高活性。
(4)aza-CMP 在光催化降解過程中的主要活性物質(zhì)是光生空穴和產(chǎn)生的1O2。
圖7 (a)CR 降解產(chǎn)物質(zhì)譜圖;(b)可能的CR 光催化降解路線Fig. 7 (a) LC-MS spectra of photodegraded CR solution ; (b) Proposed degradation pathways of CR