李助軍,包改磊,劉怡飛,張大童,李兆南,田燦鑫
(1.廣州鐵路職業(yè)技術(shù)學(xué)院,廣州 510430;2.華南理工大學(xué),廣州 510640; 3.嶺南師范學(xué)院,廣東 湛江 524048)
CrN 涂層具有良好的耐磨、抗氧化和耐腐蝕等性能,被廣泛應(yīng)用于刀具、模具及機(jī)械零配件的表面強(qiáng)化中[1-4]。隨著加工制造需求的不斷提升,二元CrN涂層很難滿足實(shí)際的應(yīng)用需求。CrN 在作為刀具涂層使用時(shí),硬度較低[5],尤其在作為汽車(chē)沖壓類(lèi)模具涂層使用時(shí),需要結(jié)合離子滲氮復(fù)合工藝,才能滿足工況的基本要求[6-7]。此外,CrN 在作為零配件涂層使用,特別是發(fā)動(dòng)機(jī)配件表面涂層時(shí),需要較厚的厚度(>25 μm)[8-10]。這些需求對(duì)CrN 涂層及其制備技術(shù)都提出了更高的要求。研究表明,通過(guò)添加新元素和納米多層化處理,可有效提高CrN 涂層的硬度,降低摩擦系數(shù),提高耐磨性能。
W 元素?fù)诫sCrN 涂層,可有效改善CrN 涂層的機(jī)械及摩擦學(xué)性能。Lin[11]通過(guò)離子束輔助沉積制備CrWN 涂層,W 含量4.4%和7.1%的CrWN 涂層硬度最高,表面最平滑,適合于玻璃成形模具。王莉[12]采用離子束輔助沉積技術(shù)制備各種W 含量的CrWN涂層,9.96%W 的CrWN 涂層固溶強(qiáng)化作用最顯著,硬度最高。Wu[13]通過(guò)直流磁控反應(yīng)復(fù)合濺射技術(shù)制備了各種W 含量(13%~40.5%)的CrWN 涂層,結(jié)果顯示,W 元素能有效抑制CrN 晶粒長(zhǎng)大,同時(shí)形成了WN 第二相,這是CrWN 涂層硬度提高到25 GPa的主要原因。W 的自潤(rùn)滑效果使CrWN 涂層摩擦系數(shù)低于0.3,磨損量低于4×10-6mm3/(N·m)。Chang[14]采用反應(yīng)直流磁控濺射技術(shù),制備了各種W 含量的CrWN 涂層,40%~60% W 的CrWN 涂層中形成了CrN和W2N 兩項(xiàng)混合結(jié)構(gòu),使CrWN 涂層硬度高達(dá)27 GPa,但CrWN 涂層附著力很低(小于25 N)。由此可見(jiàn),W 含量對(duì)CrWN 涂層的機(jī)械和摩擦學(xué)性能起著至關(guān)重要的作用。
CrN 涂層結(jié)合MoN 涂層形成納米多層涂層也可有效提升涂層的硬度及耐磨性能。Pogrebnjak[15]通過(guò)電弧離子鍍技術(shù)制備了8~19 μm 厚的CrN/MoN 納米多層涂層,在低偏壓(-20 V)下制備的涂層的調(diào)制周期從微米尺度逐漸過(guò)渡到納米尺度,硬度逐漸提高到40 GPa,不斷增多的界面有效阻止了位錯(cuò)的滑移和晶粒尺寸的增長(zhǎng),使涂層硬度得到提升。TIAN 等人[16-17,19]采用電弧離子鍍技術(shù)制備了2~3 μm 厚的納米多層CrN/Mo2N 涂層,研究表明,含Mo、W 涂層在摩擦過(guò)程中,原位生成了MoO3、WO3潤(rùn)滑相,有效地改善了含Mo、W 涂層的磨損系數(shù)(低于0.3)和磨損速率(6.8×10-7mm3/(N·m))。
采用CrW 合金靶,利用電弧離子鍍技術(shù)把含W的CrWN 涂層與MoN 涂層有效復(fù)合,形成納米多層涂層的研究尚未見(jiàn)報(bào)道。因此,本文采用電磁永磁共控的陰極電弧離子鍍技術(shù),通過(guò)CrW 合金靶(Cr、W 原子數(shù)量比為95∶5(下同),低W 含量降低CrW合金靶脆裂風(fēng)險(xiǎn),并有利于弧斑的穩(wěn)定運(yùn)行和膜層中元素的均勻分布)與純Mo 金屬靶材,在氮?dú)鈿夥障轮苽銫rWN/MoN 納米多層涂層,系統(tǒng)研究納米調(diào)制周期對(duì)CrWN/MoN 納米復(fù)合涂層的結(jié)構(gòu)、力學(xué)及摩擦學(xué)性能的影響,以期獲得機(jī)械性能和摩擦學(xué)性能更為優(yōu)良的納米多層CrWN/MoN 涂層。
采用電磁永磁共控的陰極電弧離子鍍技術(shù),制備不同調(diào)制周期的納米多層CrWN/MoN 涂層。試驗(yàn)采用的襯底材料為硅片和YT15 硬質(zhì)合金試塊,分別用于結(jié)構(gòu)和性能測(cè)試。將襯底材料鏡面拋光,酒精超聲清洗并烘干。將試片裝夾在襯底架上,抽真空并加熱,溫度400 ℃,本底真空度到7×10-3Pa 后,依次對(duì)基底進(jìn)行Ar 和金屬M(fèi)o 離子刻蝕??涛g結(jié)束后,在1.5 Pa氮?dú)鈿夥铡?120 V 偏壓、125 A 弧電流條件下,在基體表面沉積200 nm 左右MoN 過(guò)渡層,然后開(kāi)始沉積CrWN/MoN 納米多層涂層,所用靶材為CrW 合金靶和Mo 純金屬靶,沉積時(shí)間為180 min。CrWN/MoN納米復(fù)合涂層具體的沉積工藝參數(shù)見(jiàn)表1。
表1 CrWN/MoN 納米多層涂層沉積參數(shù) Tab.1 Deposition parameters of the CrWN/MoN nano- multilayer coatings
采用日本Smart Lab X 射線衍射儀(XRD),通過(guò)掠入射模式測(cè)定涂層的晶體結(jié)構(gòu)。采用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(Nova Nano 430, FEI, USA)和場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡(Tecnai G2 F20 S-TWIN, FEI)觀察涂層的形貌和微觀結(jié)構(gòu)。采用安捷倫 Agilent Nano Indenter G200 納米壓痕儀對(duì)復(fù)合涂層的硬度和彈性模量進(jìn)行測(cè)試,載荷30 mN,每個(gè)樣品隨機(jī)取6 個(gè)點(diǎn),并取平均值。室溫下使用布魯克公司生產(chǎn)的UMT-Tribo Lab 球盤(pán)旋轉(zhuǎn)摩擦磨損試驗(yàn)儀對(duì)涂層樣品的摩擦性能進(jìn)行測(cè)試,載荷15 N,采用直徑6 mm 的Si3N4陶瓷球作為對(duì)磨材料,圓形磨痕直徑為4 mm,轉(zhuǎn)速200 r/min,對(duì)磨時(shí)間40 min。采用TALYSURF CLI 1000 表面輪廓儀測(cè)量磨痕截面深度,并計(jì)算其磨損率,每個(gè)磨損軌道取4 個(gè)截面測(cè)量,求平均值。
不同納米調(diào)制周期CrWN/MoN 納米多層涂層的XRD 譜如圖1 所示。從圖中可以看出,CrWN/MoN納米多層涂層由面心立方CrWN 和六方δ-MoN 兩相組成。CrWN 和MoN 兩種異質(zhì)層交替構(gòu)成的納米多層涂層沒(méi)有完全對(duì)應(yīng)的CrWN 和δ-MoN 的衍射峰,其衍射峰是CrWN 和δ-MoN 晶相的重疊峰。調(diào)制周期為45 nm 的CrWN/MoN 納米多層涂層出現(xiàn)了明顯的δ-MoN(202)峰。隨著調(diào)制周期減小,涂層衍射峰強(qiáng)度逐漸減弱,δ-MoN(202)衍射峰消失。這是因?yàn)殡S著多層涂層調(diào)制周期逐漸減小,單層膜越來(lái)越薄,有效抑制了涂層中晶粒的生長(zhǎng)[20]。圖中分別給出了CrN(PDF#65-2899)和δ-MoN(PDF#25-1367)標(biāo)準(zhǔn)PDF卡片所對(duì)應(yīng)的衍射峰位置。與面心立方CrN 相比,單層CrWN 衍射峰向小角度偏移,這是由于W 原子置換了CrN 中的Cr 原子,形成具有面心立方CrN 結(jié)構(gòu)的CrWN 置換固溶體,導(dǎo)致晶格畸變,晶格常數(shù)增大所致[12]。
圖2 所示為CrWN/MoN 納米多層涂層的表面形貌。由圖可知,隨著調(diào)制周期逐漸減小,涂層表面大顆粒數(shù)量減少,尺寸逐漸減小,且小尺寸顆粒數(shù)量也有減少的趨勢(shì)。這是因?yàn)橛深w粒剝落引起的大尺寸淺坑數(shù)量逐漸減少,小坑洞增多,隨著調(diào)制周期厚度的減小,對(duì)膜層中大顆粒數(shù)量有一定的抑制作用。調(diào)制周期為8 nm 的CrWN/MoN 涂層表面顆粒數(shù)量最少,坑洞數(shù)量也較少。與常規(guī)電弧離子鍍膜層表面相比[21],采用永磁電磁共控的電弧離子鍍技術(shù)制備的CrWN/ MoN 納米多層涂層表面大顆粒得到了有效的抑制。電/永磁相結(jié)合,優(yōu)化了靶材表面區(qū)域磁場(chǎng),進(jìn)一步約束了靶材表面的電子,同時(shí)加快電子在靶面的運(yùn)動(dòng),促進(jìn)弧斑在靶面的快速湮滅與再生,有效抑制了大熔滴的崩發(fā),膜層表面更光滑。常規(guī)電弧離子鍍技術(shù)下很難穩(wěn)弧的Mo 元素,在電磁、永磁共同作用下,降低了引弧難度,在125 A 弧電流下實(shí)現(xiàn)了Mo 靶的穩(wěn)定運(yùn)行,也沒(méi)有因弧電流增大,產(chǎn)生大顆粒惡化的問(wèn)題。
不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層的截面SEM 形貌如圖3 所示。由圖可知,所制備的不同調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米復(fù)合涂層的總厚度變化不大,在3.2~3.6 μm 之間。這是因?yàn)橥繉映练e過(guò)程中,在保持沉積氣壓、基片偏壓、靶材電流不變的情況下,涂層的厚度主要與沉積時(shí)間有關(guān),因此涂層的厚度沒(méi)有發(fā)生明顯變化。CrWN/MoN 納米多層涂層結(jié)構(gòu)致密,沒(méi)有明顯的柱狀結(jié)構(gòu)。
為深入了解CrWN/MoN 涂層的微觀結(jié)構(gòu),對(duì)不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層截面進(jìn)行TEM 分析觀察,如圖4 所示。通過(guò)調(diào)整襯底轉(zhuǎn)速得到的CrWN/MoN 多層膜具有較好的納米級(jí)多層結(jié) 構(gòu),從圖中可以清晰地看到CrWN/MoN 涂層的納米多層周期結(jié)構(gòu)(白色區(qū)域?yàn)镃rWN 層,灰黑色區(qū)域?yàn)镸oN 層,層與層之間的界面比較模糊)。從調(diào)制周期45 nm 的CrWN/MoN 納米多層涂層中明顯看到,在白色CrWN 層中有一黑色薄層,據(jù)參考文獻(xiàn)[22]報(bào)道,黑色薄層可能為MoN 層。
圖5 為不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層的納米壓痕硬度和彈性模量變化曲線。各調(diào)制周期厚度的CrWN/MoN 納米多層涂層的硬度(30 GPa) 與彈性模量(300 GPa)變化不大。與單層δ-MoN 和CrWN 涂層的硬度(20~22 GPa)相比,CrWN/MoN納米多層涂層的硬度有明顯提升。由SEM(圖3)和TEM(圖4)截面形貌圖可以看到,在不同襯底轉(zhuǎn)速下制備的不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層沒(méi)有明顯的柱狀晶,涂層微觀結(jié)構(gòu)更致密。這是因?yàn)槎鄬咏Y(jié)構(gòu)有效抑制了位錯(cuò)的產(chǎn)生與運(yùn)動(dòng),多因素協(xié)同作用促進(jìn)了涂層硬度的提升。涂層結(jié)晶變差(圖1),CrWN 與MoN 層界面模糊(圖4),對(duì)CrWN/MoN納米多層涂層硬度有一定的影響。調(diào)制周期13 nm 的CrWN/MoN 納米多層涂層硬度有所降低,其主要原因需要進(jìn)一步的探究。
圖6 所示為不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層的摩擦系數(shù)曲線。涂層與對(duì)磨材料之間磨合時(shí)間短,大調(diào)制周期的涂層的摩擦系數(shù)隨磨損時(shí)間的延長(zhǎng)而逐漸增大。隨著調(diào)制周期逐漸減小,CrWN/MoN 納米多層涂層的摩擦系數(shù)逐漸減小。調(diào)制周期8 nm 的CrWN/MoN 納米多層涂層摩擦系數(shù)隨磨損時(shí)間變化相對(duì)平穩(wěn)。插圖是不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層的磨損率,隨著納米調(diào)制周期減小,層間界面數(shù)量增多,涂層的磨損率逐漸降低[15]。8 nm 調(diào)制周期厚度的CrWN/MoN 納米多層涂層硬度最高,其平均摩擦系數(shù)和磨損率最低,分別為0.29 和3.3×10-7mm3/(N·m)。與CrN 的摩擦系數(shù)(0.6~ 0.7)和磨損率(3.3×10-6mm3/(N·m))以及CrWN 的摩擦系數(shù)(~0.5)和磨損率(5×10-7mm3/(N·m))相比,CrWN/MoN 納米多層涂層的減摩耐磨性能有明顯的提升。
圖7 所示為不同納米調(diào)制周期的CrWN/MoN 納米多層涂層的磨損形貌。圖7a—d 分別為納米調(diào)制周期45、25、13、8 nm 的CrWN/MoN 納米多層涂層的磨損形貌??梢钥闯觯繉幽p輕微,磨損軌跡平滑,邊緣沒(méi)有明顯的磨屑堆積,但有明顯的坑洞和較淺的犁溝,且磨損軌跡寬度隨調(diào)制周期減小而變窄。在摩擦過(guò)程中,大顆粒脫落,形成坑洞,且大顆粒脫落后混入摩擦副接觸面之間,被破碎成小顆粒磨料,在后 續(xù)摩擦中充當(dāng)推擠或切削作用,形成犁溝。由圖7a標(biāo)記A 處和圖7c 標(biāo)記的B 處可以看到,脫落大顆粒被摩擦副壓至塑性變形的碎屑。CrN 在干摩擦狀態(tài)下的主要磨損機(jī)制是磨粒磨損和粘附磨損[23-24],磨損軌跡邊緣有大量的磨屑及較深的犁溝。W 摻雜 CrN與MoN 形成的CrWN/MoN 納米調(diào)制周期多層涂層,在摩擦過(guò)程中發(fā)生摩擦化學(xué)反應(yīng),生成 WO3[25]、MoO3[26]潤(rùn)滑薄層,起到固態(tài)潤(rùn)滑劑的作用,使涂層耐磨性能顯著提升,降低了磨粒磨損對(duì)涂層的破壞程度,只有較淺的犁溝出現(xiàn)。同時(shí)納米多層結(jié)構(gòu)提升了涂層的硬度,對(duì)涂層耐磨性也有促進(jìn)作用。
1)采用多弧離子鍍技術(shù),以CrW 合金(95∶5)和Mo 純金屬為靶材,通過(guò)改變襯底轉(zhuǎn)速,在氮?dú)鈿夥障轮苽淞思{米調(diào)制周期的CrWN/MoN 多層涂層。較CrN 或CrWN 單層涂層而言,CrWN/MoN 多層涂層有更高的硬度和更好的耐磨性。
2)CrWN/MoN 納米多層涂層主要包含面心立方CrWN 和六方δ-MoN 兩種晶相。隨著調(diào)制周期逐漸減小,涂層表面大顆粒和淺坑尺寸逐漸減小,且數(shù)量變少,涂層表面質(zhì)量得到改善。
3)調(diào)制周期對(duì)CrWN/MoN 納米多層涂層的硬度和摩擦系數(shù)影響顯著。8 nm 調(diào)制周期厚度的CrWN/ MoN 納米多層涂層的硬度值最大,為30.2 GPa,摩擦系數(shù)低于0.3,磨損率最低,為3.3×10-7mm3/(N·m)。