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科研裝備研制項(xiàng)目——“高離化率磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”通過(guò)中科院驗(yàn)收

2016-11-10 08:01中科院寧波材料所
表面工程與再制造 2016年4期
關(guān)鍵詞:磁控濺射鍍膜陰極

科研裝備研制項(xiàng)目——“高離化率磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”通過(guò)中科院驗(yàn)收

2016年6月30日,中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所承擔(dān)的中國(guó)科學(xué)院科研裝備研制項(xiàng)目—— “高離化率磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”順利通過(guò)了中國(guó)科學(xué)院條件保障與財(cái)務(wù)局組織的驗(yàn)收。驗(yàn)收專(zhuān)家組由來(lái)自蘇州納米所、物理研究所、合肥強(qiáng)磁場(chǎng)科學(xué)中心、中國(guó)計(jì)量大學(xué)、蘇州大學(xué)、金屬研究所、蘭州化物所、上海硅酸鹽所等有關(guān)單位的專(zhuān)家組成。中國(guó)科學(xué)院條件保障與財(cái)務(wù)局副局長(zhǎng)曹凝、科技條件處副處長(zhǎng)姜言彬出席了驗(yàn)收會(huì)。

上午,測(cè)試專(zhuān)家組聽(tīng)取了項(xiàng)目組測(cè)試說(shuō)明,審議和確認(rèn)了測(cè)試大綱,根據(jù)實(shí)施方案規(guī)定的要求從研制裝備的運(yùn)行、使用情況、技術(shù)測(cè)試實(shí)驗(yàn)結(jié)果等角度對(duì)各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)逐一進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試,形成技術(shù)測(cè)試報(bào)告。

下午,驗(yàn)收專(zhuān)家組聽(tīng)取了項(xiàng)目組工作報(bào)告、財(cái)務(wù)報(bào)告、使用報(bào)告和測(cè)試專(zhuān)家組的測(cè)試報(bào)告,現(xiàn)場(chǎng)查看了裝備的運(yùn)行情況,查閱了文件檔案及相關(guān)財(cái)務(wù)賬目。驗(yàn)收專(zhuān)家組認(rèn)為,項(xiàng)目承擔(dān)單位完成了實(shí)施方案規(guī)定的研制任務(wù),達(dá)到了研制目標(biāo),同意項(xiàng)目通過(guò)驗(yàn)收。

“高離化率磁控濺射(HIPIMS)復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”項(xiàng)目通過(guò)對(duì)高功率磁控管模塊、受控陰極電弧源模塊、HIPIMS電源、關(guān)鍵子系統(tǒng)、PLC控制等的設(shè)計(jì)優(yōu)化和適配加工,研制出了一套具有核心專(zhuān)利技術(shù)的高功率脈沖磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置,該裝備具有離化率高、放電穩(wěn)定、繞射性好、大面積均勻、運(yùn)行可靠的特點(diǎn)。利用該裝置,不僅實(shí)現(xiàn)了以TiAlSiN與DLC為主的兩類(lèi)目標(biāo)硬質(zhì)涂層材料高質(zhì)量制備;且光譜與探針原位診斷表明,HIPIMS技術(shù)實(shí)現(xiàn)了金屬Ti的離化率達(dá)80%,等離子體密度達(dá)1019/m3。另外,該裝置具有良好功能拓展性,能實(shí)現(xiàn)CrB2超硬涂層和高純MAX相防護(hù)涂層的設(shè)計(jì)與制備。

(中科院寧波材料所)

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