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透鏡列陣光學(xué)系統(tǒng)的小尺度不均勻性

2015-04-21 12:24鄭建洲曹曉君關(guān)壽華穆婷婷
關(guān)鍵詞:列陣靶面斑紋

鄭建洲,曹曉君,關(guān)壽華,穆婷婷

(大連民族學(xué)院物理與材料工程學(xué)院,遼寧大連116605)

采用列陣空間束勻滑技術(shù)[1-2],可有效地消除入射激光束近場分布不均勻?qū)Π忻孑椪盏挠绊?,能夠控制靶面輻照光?qiáng)的包絡(luò)分布,得到接近平頂分布的焦斑,并能有效地抑制旁瓣產(chǎn)生,使靶面的相對光強(qiáng)包絡(luò)分布對入射激光場的近場分布不敏感。但是,由于列陣均勻輻照光學(xué)系統(tǒng)的各個子束間的干涉,必然在焦斑光強(qiáng)包絡(luò)上產(chǎn)生空間高頻成分的多光束干涉效應(yīng)的微米量級的小尺度強(qiáng)度調(diào)制[3-4]。即使使用最佳的包絡(luò)分布輻照靶面,由于空間高頻成分的存在,整體的不均勻性仍難以控制在1%的范圍內(nèi)。雖然這種小尺度的不均勻性可以被等離子體內(nèi)的橫向熱傳導(dǎo)效應(yīng)平滑掉,但是,在直接驅(qū)動中,輻照加熱初期的小尺度不均勻性會直接烙印在靶面,引起流體力學(xué)不穩(wěn)定性,在內(nèi)爆過程中被進(jìn)一步放大后,將影響靶丸的對稱壓縮,使靶丸變形甚至破裂,而靶丸變形會使實(shí)現(xiàn)點(diǎn)火所需的激光能量增大[5];在間接驅(qū)動中,小尺度不均勻性在等離子體中會引起光學(xué)成絲,進(jìn)而會引起SRS、SBS等非線性效應(yīng),這不但會降低X射線的轉(zhuǎn)換效率,而且非線性效應(yīng)會產(chǎn)生超熱電子,使靶芯預(yù)熱,從而影響靶丸壓縮[6]。因此,無論是直接驅(qū)動還是間接驅(qū)動,都必須消除小尺度的干涉斑紋引起的不均勻性。

為了能夠更有效地發(fā)揮列陣光學(xué)系統(tǒng)在實(shí)現(xiàn)靶面均勻輻照的作用,有必要對透鏡列正光學(xué)系統(tǒng)的小尺度不均勻性的變化規(guī)律和減小的方法進(jìn)行研究。本文應(yīng)用波動光學(xué)推導(dǎo)出了LA系統(tǒng)靶面光強(qiáng)分布公式和表征小尺度不均勻性的多光束干涉條紋間距公式,并通過衍射積分理論數(shù)值計(jì)算證明了該公式。有研究表明,用離焦打靶的方法可以有效地改善LA的大尺度幅照均勻性[3],而我們通過理論和數(shù)值計(jì)算研究發(fā)現(xiàn),對LA系統(tǒng)適當(dāng)離焦時還可以有效地改善小尺度不均勻性。

1 透鏡列陣光學(xué)系統(tǒng)的理論分析

透鏡列陣系統(tǒng)的原理結(jié)構(gòu)如圖1,(其中L為主聚焦透鏡,LA為透鏡列陣,l為綜合焦斑寬度)。透鏡元的個數(shù)為N×N個(取N為奇數(shù)),透鏡元口徑為d,并且D=Nd,焦距為fe,其中透鏡列陣由N×N相同的、正方形透鏡元組合而成,置于靶鏡之前。入射到透鏡列陣上的激光束被分成多個子束,在系統(tǒng)的組合焦面聚焦后對準(zhǔn)近場(聚焦透鏡后焦面)的靶面實(shí)現(xiàn)均勻輻照。

圖1 透鏡列陣均勻輻照原理圖

由幾何光學(xué)可得焦斑寬度為

對于圖1所示的透鏡列陣,從透鏡列陣輸出面至靶面的傳輸矩陣為

式中,x',y'和x,y分別為輸入面和輸出面的坐標(biāo),E0(x',y')為經(jīng)LA后的光場分布(包括入射光束的振幅和位相起伏及可變焦LA引入的隨機(jī)相移)。式(4)中已假設(shè)入射光場為完全相干且偏振方向完全一致,主聚焦透鏡為一理想透鏡,LA靠近主聚焦透鏡,且主聚焦透鏡孔徑很大,不會引起附加的衍射。

(*表示復(fù)數(shù)共軛)。

根據(jù)物理光學(xué)得出透鏡列陣x方向的多光束干涉主極大的距離為

2 斑紋的統(tǒng)計(jì)分析

激光通過透鏡列陣后在遠(yuǎn)場或準(zhǔn)遠(yuǎn)場的斑紋是子束隨機(jī)相干的結(jié)果,斑紋的光強(qiáng)分布顯得有些混亂無序。對這種不規(guī)則的圖樣,考慮其強(qiáng)度分布時只能用概率論與統(tǒng)計(jì)學(xué)的方法來分析計(jì)算。采用光強(qiáng)幾率密度分布和平均光強(qiáng)對比度作為表示干涉斑紋統(tǒng)計(jì)性質(zhì)的量。

2.1 單一斑紋

當(dāng)透鏡列陣元數(shù)目非常大時,對于透鏡列陣元產(chǎn)生的干涉斑紋,光強(qiáng)分布的幾率密度函數(shù)為負(fù)指數(shù)分布函數(shù)[7],

斑紋的不均勻度由強(qiáng)度分布的標(biāo)準(zhǔn)偏差除以平均值來定義:

對于相干激光經(jīng)過透鏡列陣后產(chǎn)生的斑紋,由式(7)可得,因而,代入式(8)可得此斑紋的不均勻度為1,達(dá)到最大值。

2.2 多斑紋疊加

強(qiáng)度分布不相關(guān)的多個斑紋獨(dú)立疊加(按光強(qiáng)疊加)時,光強(qiáng)幾率密度分布不同于單個斑紋的幾率密度分布。若各斑紋具有相同的統(tǒng)計(jì)性質(zhì)并且平均強(qiáng)度相等,則N個斑紋非相干疊加后的光強(qiáng)幾率密度分布為[7]

在這種情況下,零強(qiáng)度的幾率密度大為降低,實(shí)際上幾乎沒有零強(qiáng)度。

獨(dú)立疊加斑紋數(shù)N增大時,按式(9)計(jì)算光強(qiáng)幾率密度(ˉI~PN(I))分布變化的情況如圖2??梢姡S著斑紋數(shù)N的增加,暗的和亮的幾率密度都減小了,幾率密度的峰值移向平均強(qiáng)度,最后強(qiáng)度分布集中在平均強(qiáng)度附近非常窄的范圍內(nèi)。由此表明,斑紋的不均勻度降低,使斑紋得到勻滑。

圖2 干涉斑紋按光強(qiáng)疊加后的光強(qiáng)幾率密度分布

將式(9)代入式(8),可得N個斑紋疊加時斑紋的平均光強(qiáng)不均勻度為

即不均勻度反比于疊加斑紋數(shù)N的平方根。

增大獨(dú)立疊加斑紋數(shù)可降低斑紋的不均勻度,使斑紋得到勻滑,這就是消除小尺度不均勻性、實(shí)現(xiàn)光斑勻滑的機(jī)理。增加靶面疊加的光斑數(shù)有兩種方法。一種方法是讓多個獨(dú)立且不相關(guān)(相互交錯)的光斑同時疊加在靶面上,使光斑即時得到勻滑;另一種方法是在內(nèi)爆流體動力學(xué)響應(yīng)時間內(nèi)讓斑紋快速變化,從時間累計(jì)的效果上得到多個獨(dú)立斑紋的疊加,從而使光斑得到勻滑。這兩種方法同時采用更可加快光斑的勻滑。

2.3 適當(dāng)離焦

將靶面放置適當(dāng)?shù)碾x焦位置上,使各單元衍射分布不完全重疊,彼此稍微錯開[7],在有效的抑制單元衍射效應(yīng)引起的大尺度不均勻性的同時,也可使條紋各主極大之間的次極大增長到與主極大相當(dāng)?shù)膹?qiáng)度,減小干涉條紋間隔不均勻性,從而改善系統(tǒng)的小尺度不均勻性。計(jì)算離焦時,在系統(tǒng)焦斑的位置要加上一小的改變量Δz,這里Δz是離焦量,即靶面離開最佳重疊位置的距離。

3 數(shù)值模擬

用GLAD光學(xué)軟件,建模計(jì)算了靶面上正方形透鏡列陣的三維、二維和一維光強(qiáng)分布、光斑尺寸以及干涉斑紋的小尺度間隔。計(jì)算參數(shù):光波波長 λ =0.632 8 μm ,D=133 mm,LA系統(tǒng)單元為7×7,聚焦透鏡焦距為f=500 mm,透鏡列陣焦距為fe=11 875 mm。正方形透鏡列陣元的邊長為d=19 mm。離焦量分別為Δz=0 mm和Δz=2 mm時,三維光強(qiáng)分布計(jì)算結(jié)果如圖3。計(jì)算得出遠(yuǎn)場光斑尺度為800 μm。

圖3 不同離焦量時單色激光通過硬邊透鏡列陣系統(tǒng)后的焦斑三維光強(qiáng)分布

靶面上的光強(qiáng)分布邊緣的強(qiáng)度起伏是由于單個列陣元邊緣的衍射效應(yīng)產(chǎn)生的,而光強(qiáng)的中間許多高頻調(diào)制的條紋實(shí)際是各個列陣單元的子束產(chǎn)生的多光束干涉的結(jié)果,x,y方向的不均勻度分別為σx=8.1%,σy=9.3%。這里焦斑強(qiáng)度分布的不均勻性主要來自衍射引起的包絡(luò)起伏(導(dǎo)致大尺度不均勻性)。

當(dāng)離焦量Δz=0 mm時單色激光只通過硬邊透鏡列陣系統(tǒng)后的焦斑二維和一維光強(qiáng)分布如圖4。

圖4 離焦量Δz=0 mm時,單色激光只通過硬邊透鏡列陣系統(tǒng)后的焦斑二維、一維光強(qiáng)分布

沿x方向焦斑中心處放大后計(jì)算LA系統(tǒng)焦斑上干涉條紋的結(jié)果如圖5。

圖5 LA系統(tǒng)焦斑上沿x方向焦斑中心處干涉條紋放大后的結(jié)果

這一結(jié)果與根據(jù)物理光學(xué)的公式得出透鏡列陣x方向的多光束干涉主極大的距離符合得非常好。

當(dāng)離焦量Δz=2 mm時單色激光通過硬邊透鏡列陣系統(tǒng)后的二維和一維光強(qiáng)分布如圖6。

圖6 離焦量Δz=2 mm時,單色激光只通過硬邊透鏡列陣后的焦斑二維、一維光強(qiáng)分布

通過適當(dāng)離焦,使各單元衍射分布不完全重疊,彼此稍微錯開,可降低焦斑邊緣的衍射起伏,使光強(qiáng)邊緣的大尺度衍射起伏在一定程度上得到抑制,同時多光束干涉產(chǎn)生的高頻調(diào)制的條紋變得更加密集,小尺度不均勻性還可以通過靶面材料的橫向熱傳導(dǎo)效應(yīng)消除。當(dāng)Δz=2 mm時,均勻性最好,不均勻性為σx=5.73%,能量利用率達(dá)到95.1%,大大減少了條紋小尺度的不均勻性。

考慮靶面材料的橫向熱傳導(dǎo)效應(yīng)時,數(shù)值計(jì)算時可等效為再通過20 μm勻滑后的效果,如圖7。不均勻性為σx=4.8%,能量利用率達(dá)到η=88.4%。

4 結(jié)語

通過理論分析和數(shù)值計(jì)算研究了透鏡列陣光學(xué)系統(tǒng)焦斑的輻照均勻性以及小尺度不均勻性的規(guī)律。推導(dǎo)出LA系統(tǒng)靶面遠(yuǎn)場光強(qiáng)分布的解析式和小尺度不均勻性的間隔公式。透鏡列陣將入射激光分割成很多子光束,它們的準(zhǔn)近場衍射光斑在靶面疊加起來,焦斑具有比較陡峭的包絡(luò),而且沒有一般遠(yuǎn)場焦斑的旁瓣。由于各個子束存在多光束干涉,在焦斑內(nèi)存在細(xì)密的干涉條紋,在焦斑的邊緣處還有衍射調(diào)制的較大起伏。通過適當(dāng)離焦時,使各單元衍射分布不完全重疊,彼此稍微錯開,可降低焦斑邊緣的衍射起伏,使光強(qiáng)邊緣的大尺度衍射起伏在一定程度上得到抑制,同時多光束干涉產(chǎn)生的高頻調(diào)制的條紋變得更加密集,小尺度不均勻性也得到很大改善。若將橫向熱傳導(dǎo)平滑效應(yīng)也考慮在內(nèi),多光束干涉所引起的細(xì)密條紋可進(jìn)一步消除。在激光聚變中,這種適當(dāng)離焦的方法用于靶面輻照初期的光斑勻滑更有意義。

[1]DENG X,LIANG X,CHENG Z,et al.Uniform illumination of large targets using a lens array [J].Appl.Opt.,1986,25(2):377-381.

[2]鄭建洲,于清旭,盧永軍.焦斑可調(diào)的透鏡陣列均勻輻照光學(xué)系統(tǒng)[J].中國激光,2007,34(3):331-336.

[3]鄭建洲,于清旭,關(guān)壽華.正交光楔列陣光學(xué)系統(tǒng)小尺度不均勻性的研究[J].光學(xué)精密工程,2009,17(1):1195-1201.

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[5]ROTHENBERG J E,WEBER S V.The impact of beam smoothing method on direct drive target performance for the NIF[J].Proc.of SPIE,1997,3047:736-745.

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[7]丹尼蒂J C.激光斑紋及有關(guān)現(xiàn)象[M].黃樂天,王天及,譯.北京:科學(xué)出版社,1981.

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