(中南大學 冶金科學與工程學院,湖南 長沙,410083)
粗鉍經(jīng)過吹煉得到精鉍[1],鉍吹煉過程中As,Sb,Pb和Bi等雜質(zhì)以氧化物揮發(fā)后形成精煉鉍煙塵[2?3],因為其中砷含量高而成為一種難處理、有毒危害固體廢棄物。利用高砷精煉鉍煙塵制備氯氧化銻不僅有利于消除危險性,而且得到資源化及產(chǎn)生經(jīng)濟效益。氯氧化銻是一種理想的銻系無機阻燃劑[4],廣泛用于各種熱塑性聚合物阻燃[5?6],同時也是生產(chǎn)銻白[7]、精銻產(chǎn)品[8]及其他銻系產(chǎn)品的原料。氯氧銻制備方法主要有三氯化銻水解法[9]、三氯化銻?乙醇法[10]、三氯化銻?三氧化二銻法[11?12]和氯化氫?三氧化二銻法[12]。由于 SbCl3溶液所含雜質(zhì)及對氯氧化銻雜質(zhì)含量要求不一樣,三氯化銻水解法又可分為一次水解法[13]、多次水解法、蒸餾?水解法[14]和蒸餾?精餾?水解法[15]。在此,本文作者采用高砷精煉鉍煙塵為原料經(jīng)過鹽酸浸出后加除雜劑水解制備高純氯氧化銻。
1.1.1 實驗步驟
將高砷精煉鉍煙塵加入鹽酸溶液中,啟動攪拌,加熱反應(yīng)一定時間后過濾得到酸浸液。在酸浸液中加入銻粉還原得到SbCl3溶液。
取一定量的 SbCl3溶液和水加入三頸瓶中,啟動攪拌,加熱反應(yīng)一定時間后過濾得到濾液和濾餅。鹽酸溶解濾餅,將溶解液和除雜劑一起加入三頸瓶中,攪拌反應(yīng)一定時間后進行水解,得到高純氯氧化銻。
1.1.2 工藝流程
根據(jù)實驗步驟,其工藝流程如圖1所示。
圖1 高砷精煉鉍煙塵制備氯氧化銻工藝流程圖Fig.1 Process of antimony oxychloride made from high-arsenic refined bismuth dust
1.2.1 成分分析
采用硫酸聯(lián)氨還原—硫酸鈰—溴酸鉀滴定法測定溶液中Sb和As的含量,采用X熒光分析(XRF)測定固體產(chǎn)物中Sb,As,Pb和Bi的含量。
1.2.2 結(jié)構(gòu)及形貌檢測
采用D/mac?rA型X線衍射儀分析水解產(chǎn)物的物相,用掃描電鏡(SEM)觀察產(chǎn)物表面形貌。
實驗將 2.5 kg高砷精煉鉍煙塵加入體積分數(shù)為50%的鹽酸溶液中,高砷精煉鉍煙塵成分及物相分析結(jié)果如表1所示。根據(jù)優(yōu)化實驗結(jié)果,在液固比為3:1、反應(yīng)時間為4 h、反應(yīng)溫度為80 ℃、鹽酸用量為1.2倍理論用量條件下進行反應(yīng),鹽酸浸出實驗結(jié)果如表2所示。
表1 高砷精煉鉍煙塵物相組成Table 1 Phase composition of high-arsenic refined bismuth dust
表2 鹽酸浸出分析結(jié)果Table 2 Analysis results of hydrochloric acid leaching
由表1可知:高精煉鉍煙塵中銻、砷質(zhì)量分數(shù)分別為57.48%和10.53%,銻主要以Sb2O3形式存在,砷主要以 As2O3和砷酸鹽形式存在,鉍主要以 Bi2O3形式存在。浸出過程發(fā)生的主要反應(yīng)如下:
由表2可知:浸出液中Sb,As,Bi和Pb的質(zhì)量濃度分別為102.36,17.49,9.01和1.7 g/L,Sb,As,Bi和 Pb浸出率分別為 99.50%,92.79%,95.12%和85.34%。
鹽酸浸出液中含有少量高價金屬離子Sb5+和Sb5+必須在SbCl3溶液水解前還原為Sb3+,否則會影響氯氧化銻產(chǎn)品質(zhì)量。當還原時間為2 h、還原溫度為60℃、銻粉用量為1.2倍理論用量時, Sb5+完全被還原,還原后溶液成分(質(zhì)量濃度)如表3所示。
表3 SbCl3溶液主要成分(質(zhì)量濃度)Table 3 Basic compositions of antimony trichloride solution g/L
由表3可知:精煉鉍煙塵鹽酸浸出液經(jīng)過銻粉還原,溶液中Sb濃度增加,其反應(yīng)如下:
2.3.1 水解溫度對Sb3+水解率的影響
取SbCl3溶液100 mL,當稀釋比10:1,水解時間為 30 min時,水解溫度對 Sb3+水解率的影響如圖 2所示。
圖2 水解溫度對Sb3+水解率的影響Fig.2 Effect of hydrolysis temperature on hydrolysis rate of Sb3+
由圖2可知:水解溫度對Sb3+水解率影響較小;隨著水解溫度的升高,Sb3+水解率約減??;當水解溫度從20 ℃增加到80 ℃時,Sb3+水解率從98.40%降至96.91%。一般升高溫度有利于水解反應(yīng)進行,但SbCl3溶液稀釋10倍后,溶液pH為0.15,Sb3+迅速水解生成Sb4O5Cl2,而Sb4O5Cl2的溶解度隨溫度升高而升高,溫度升高使少量的Sb4O5Cl2返溶。因此,適宜的水解溫度為20 ℃。
2.3.2 水解時間對Sb3+水解率的影響
當其他條件不變,水解溫度為20 ℃時,水解時間對Sb3+水解率的影響如圖3所示。
圖3 水解時間對Sb3+水解率的影響Fig.3 Effect of hydrolysis time on hydrolysis rate of Sb3+
由圖3可知:水解時間對Sb3+水解率影響不大,當水解時間從10 min增加到50 min時,Sb3+水解率從97.45%增加到98.94%;當反應(yīng)時間為10 min時,水解反應(yīng)不充分,Sb3+水解率較低,Sb3+水解速度快;隨著水解時間的增加, Sb3+水解率增加不大。因此,控制水解時間為40 min。
2.3.3 稀釋比對Sb3+水解率的影響
當其他條件不變,水解時間為40 min,稀釋比(即水與SbCl3溶液的體積比)對Sb3+水解率的影響如圖4所示。
圖4 稀釋比對Sb3+水解率的影響Fig.4 Effect of volume ratio of water to SbCl3 solution on hydrolysis rate of Sb3+
由圖4可知:稀釋比對Sb3+水解率影響較大,Sb3+水解率隨稀釋比增加而增加,當稀釋比為3時,Sb3+水解率為88.99%;當稀釋比為10時,溶液pH為0.15,Sb3+水解率為98.25%。考慮Sb3+水解率及廢水排放量,確定適宜的稀釋比為10。
水解所得產(chǎn)物成分如表4所示,XRD分析結(jié)果如圖5所示。
表4 一次水解產(chǎn)物主要成分(質(zhì)量分數(shù))Table 4 Basic compositions of once hydrolysate %
圖5 不同水解產(chǎn)物的XRD圖譜Fig.5 XRD patterns of different hydrolysates
由表4可知:一次水解所得產(chǎn)物中As,Pb和Bi主要雜質(zhì)得到有效去除,但As,Pb和Bi含量分別達到2.017%,1.085%和0.505%,雜質(zhì)含量較高。由圖5可知:一次水解產(chǎn)物為Sb4O5Cl2。
2.4.1 氯氧化銻鹽酸溶解后二次水解除雜
實驗將一次水解產(chǎn)物Sb4O5Cl2用鹽酸溶解后進行二次水解,二次水解產(chǎn)物成分如表4所示,XRD分析結(jié)果如圖5所示。
由表4和表5可知:與一次水解產(chǎn)物相比,二次水解產(chǎn)物中As,Pb和Bi雜質(zhì)含量急劇減少,但雜質(zhì)含量仍然較高,需進一步除雜。由圖5可知:二次水解產(chǎn)物為Sb4O5Cl2。
表5 二次水解產(chǎn)物主要成分(質(zhì)量分數(shù))Table 5 Basic composition of twice hydrolysate %
2.4.2 二次水解時除雜劑對氯氧化銻質(zhì)量的影響
取一次水解氯氧化銻50 g,加入100 mL濃鹽酸和100 mL水溶解,然后加入除雜劑A反應(yīng)1 h后進行二次水解,除雜劑A用量(m)對產(chǎn)物Sb4O5Cl2中雜質(zhì)As,Pb和Bi質(zhì)量分數(shù)的影響如圖6所示。
圖6 除雜劑A用量對產(chǎn)物中As,Pb和Bi含量的影響Fig.6 Effect of A impurity remover amount on contents of As,Pb and Bi in Sb4O5Cl
由圖6可知:二次水解前加入除雜劑A能有效降低產(chǎn)物Sb4O5Cl2中雜質(zhì)含量,隨著除雜劑A用量的增加,產(chǎn)物Sb4O5Cl2中As,Pb和Bi含量減小。除雜劑A為一種螯合劑,對許多金屬有很強的絡(luò)合能力,在強酸性溶液中,As,Bi和 Pb分別以 AsO+,BiO+和Pb2+存在,除雜劑A與它們形成具有五節(jié)環(huán)結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定絡(luò)合物而留在溶液中;隨著溶液 pH的增大,Sb3+水解生成氯氧化銻沉淀,從而達到Sb與雜質(zhì)的分離。因此,確定適宜的除雜劑A用量為5.0 g(即氯氧化銻與除雜劑A質(zhì)量比為10:1),所得產(chǎn)物中Sb的質(zhì)量分數(shù)為75.71%,而雜質(zhì)As,Pb和Bi的質(zhì)量分數(shù)分別為0.081 9%,0.039 2%和0.118 7%。
除雜后二次水解產(chǎn)物XRD實驗結(jié)果如圖5所示,除雜后二次水解產(chǎn)物仍為Sb4O5Cl2。
對一次水解氯氧化銻、二次水解氯氧化銻及除雜后二次水解氯氧化銻進行 SEM 分析,其形貌比較如圖7所示。
由圖7可知:一次水解產(chǎn)物為片層狀顆粒,二次水解產(chǎn)物為顆粒粒徑均勻、分散性較好的橢球粒子,除雜后二次水解產(chǎn)物為粒徑均勻、分散性好的菱形顆粒。經(jīng)過二次水解和除雜,不僅形貌發(fā)生變化,而且分散性變好。
圖7 不同水解產(chǎn)物的SEM像Fig.7 SEM images of different hydrolysates
(1) 用鹽酸浸出銻、砷質(zhì)量分數(shù)分別為57.48%和10.53%高砷精煉鉍煙塵,當固液比為 1:3、反應(yīng)時間為4 h、反應(yīng)溫度為80 ℃、鹽酸用量為1.2倍理論用量時,Sb,As和 Bi和 Pb浸出率分別為 99.50%,92.79%,95.12%和85.34%。在酸浸液中加入銻粉還原后,在水解溫度為20 ℃、水解時間為45 min、稀釋比為10條件下水解,Sb3+水解率達到98.25%。
(2) 將一次水解產(chǎn)物用鹽酸溶解,按氯氧化銻與除雜劑A質(zhì)量比10:1加入除雜劑A,反應(yīng)1 h后進行二次水解。除雜后二次水解產(chǎn)物中 Sb含量達到75.71%,而As,Pb和Bi雜質(zhì)含量分別為0.081 9%,0.039 2%和0.118 7%。
(3) XRD結(jié)果證實水解產(chǎn)物均為Sb4O5Cl2。SEM掃描電鏡結(jié)果表明各水解產(chǎn)物形貌差異較大,一次水解產(chǎn)物為片層狀顆粒,二次水解產(chǎn)物為均勻、分散性較好的橢球粒子,除雜后二次水解產(chǎn)物為粒徑均勻、分散性好的菱形顆粒。
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