武 洲,馮鵬發(fā),李 晶,厲學(xué)武,卜春陽
(金堆城鉬業(yè)股份有限公司技術(shù)中心,陜西 西安 710077)
鉬具有熔點(diǎn)高、彈性模量高、膨脹系數(shù)小、蒸氣壓低、導(dǎo)電導(dǎo)熱性良好及優(yōu)越的抗蝕性能,因此廣泛應(yīng)用于國防、航空航天、工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)等多個(gè)領(lǐng)域。鉬粉的物理、化學(xué)性能,在很大程度上決定了鉬金屬的加工性能,乃至最終的使用性能,所以,對(duì)鉬粉還原機(jī)理進(jìn)行研究對(duì)改善金屬鉬的加工性能及使用性能非常重要。
以六價(jià)鉬化合物(如ADM或MoO3)為前驅(qū)物,以氫氣為還原劑,采用兩步還原法制備鉬粉已經(jīng)有一個(gè)多世紀(jì)的歷史,目前仍然是鉬粉工業(yè)化生產(chǎn)最常用的方法。所謂兩步還原法是指先由ADM或MoO3等,在較低溫度下還原成MoO2,稱為一次還原,再經(jīng)MoO2氫還原成Mo粉稱為二次還原。目前定性的探討還原過程中溫度、氫氣流量、還原時(shí)間、料層厚度等諸多工藝因素對(duì)鉬粉特性(如氧含量和顆粒形貌等)的影響的文獻(xiàn)比較多,但是對(duì)其動(dòng)力學(xué)機(jī)理仍未形成權(quán)威性的結(jié)論。
本文就兩步還原法中二次還原即由MoO2氫還原成Mo粉過程中的動(dòng)力學(xué)機(jī)理進(jìn)行了分析研究,并就鉬粉還原過程中揮發(fā)性雜質(zhì)的分布現(xiàn)象進(jìn)行了相應(yīng)的解釋。
在工業(yè)生產(chǎn)中,由MoO2氫還原成Mo粉之后,往往需要對(duì)鉬粉進(jìn)行篩分,目前普通市售Mo粉普遍要求通過200目泰勒標(biāo)準(zhǔn)篩。在長期的生產(chǎn)過程中,經(jīng)常出現(xiàn)一種現(xiàn)象,篩上物中的雜質(zhì)含量往往遠(yuǎn)高于篩下產(chǎn)品,表1就是生產(chǎn)過程中隨機(jī)選取的2批鉬粉的篩上物和篩下物的化學(xué)成分。
表1 鉬粉200目篩上物與篩下物雜質(zhì)含量對(duì)比mg/kg
第1組鉬粉的還原設(shè)備為單管還原爐,5個(gè)溫區(qū)的溫度分別是:850℃、900℃、950℃、950℃、900℃,每個(gè)溫區(qū)的停留時(shí)間為120 min,料層厚度為30 mm,氫氣流量0.7 m3/h。
第2組鉬粉的還原設(shè)備為四管馬弗爐,5個(gè)溫區(qū)的溫度分別是:900℃、950℃、980℃、1 000℃、980℃,每個(gè)溫區(qū)的停留時(shí)間為80 min,料層厚度為25 mm,氫氣流量9.5 m3/h。
另外,不同爐型之間、不同鉬粉批次之間乃至不同操作時(shí)間之間,鉬粉的物理化學(xué)指標(biāo)均存在類似的現(xiàn)象。通常認(rèn)為鉬粉中雜質(zhì)含量比較均勻,如果不是特別添加,不應(yīng)出現(xiàn)雜質(zhì)偏聚。
MoO2氫還原成Mo粉的過程屬于典型的氣-固反應(yīng)。一般地,第1階段還原得到的MoO2為具有多孔結(jié)構(gòu)的團(tuán)聚態(tài)物質(zhì)(圖1),所以在第2階段還原時(shí),氣相物質(zhì)在其內(nèi)部的擴(kuò)散速度相當(dāng)快,氣相物質(zhì)的擴(kuò)散過程是決定最終鉬粉品質(zhì)的關(guān)鍵因素之一,因此適宜采用核收縮模型來對(duì)MoO2氫還原成Mo粉的過程進(jìn)行分析。
圖1 具有多孔結(jié)構(gòu)的MoO2
在MoO2氫還原成Mo粉的過程中,生成一種揮發(fā)性水合氧化鉬,MoO3oH2O或MoO2(OH)2,這種水合氧化鉬的揮發(fā)性遠(yuǎn)高于其他揮發(fā)性鉬化合物。正是揮發(fā)性水合氧化鉬的存在,引起了鉬的化學(xué)氣相遷移(CVT)。此過程所生成的揮發(fā)性物質(zhì)-水合氧化鉬,很容易與顆粒內(nèi)部擴(kuò)散出來的雜質(zhì)元素形成更加復(fù)雜的水合化合物,如鉬青銅HxMoO3、鎢青銅HxWO3、氫鉬青銅、鉀鉬青銅 KxMoO3、KxMo6O17等相,這些混合物以化學(xué)氣相遷移的方式,不斷沉積在顆粒表面,尤其是表面能較高的顆粒表面。小顆粒表面能較高,為保持穩(wěn)定往往團(tuán)聚成多孔大顆粒,宏觀上即表現(xiàn)為篩上物,這種結(jié)構(gòu)更容易吸附氣相水合物。根據(jù)MoO2氫還原的這些特點(diǎn)可以設(shè)計(jì)出其還原的模型,圖2是MoO2氫還原時(shí)的化學(xué)氣相遷移(CVT)模型。
圖2 MoO2氫還原時(shí)的化學(xué)氣相遷移(CVT)模型
根據(jù)MoO2氫還原時(shí)的化學(xué)氣相遷移(CVT)模型,首先在MoO2晶粒表面形成Mo的晶核,隨著反應(yīng)的不斷進(jìn)行,在MoO2晶粒表面不斷形成氧化鉬的水合物,并且各種雜質(zhì)元素與氧化鉬共同形成的水合物不斷向Mo晶體沉積,這樣MoO2晶核不斷收縮,Mo的晶核不斷長大,最終形成為Mo晶體。
選取兩個(gè)未還原完全的二氧化鉬樣品,圖3所示是其不同部位宏觀照片,分別對(duì)淺色的鉬區(qū)域與深色區(qū)域進(jìn)行原子能譜分析。
圖4中左邊是圖3中深色區(qū)域的能譜分析,根據(jù)Mo和O的比例可以確定此部分顆粒為MoO2。圖4中右邊是圖3中淺色區(qū)域的能譜分析,這部分顆粒中O的含量已經(jīng)很小,接近普通鉬粉含氧的比例,可以確定此部分顆粒為Mo的顆粒。這說明MoO2氫還原時(shí)先生成了Mo的晶核,之后MoO2晶核開始收縮,Mo晶核長大,這與前面提出的MoO2氫還原模型的前2個(gè)階段非常吻合。
圖3 未還原完全的二氧化鉬
圖4 對(duì)圖3中不同部位的能譜分析
為了說明化學(xué)氣相遷移模型第3個(gè)階段的合理性,設(shè)計(jì)一個(gè)驗(yàn)證試驗(yàn)。取普通二氧化鉬與濃度為50%氫氧化鉀溶液在80℃的條件下混合2 h,之后過濾、烘干。將該二氧化鉬粉在單管爐中進(jìn)行還原,還原工藝為:溫度900℃,保溫時(shí)間1 h,氫氣流量0.4 m3/h。以鉬粉中的堿金屬雜質(zhì)作為研究對(duì)象,目的僅僅是為了證明化學(xué)氣相遷移模型的合理性,其他的金屬雜質(zhì)也應(yīng)該有類似的規(guī)律。驗(yàn)證樣品的XRD圖譜見圖5。
圖5 驗(yàn)證樣品的XRD圖譜
分析驗(yàn)證樣品的XRD圖譜,XRD圖峰多而雜亂,樣品除了MoO2外還存在著鉀鉬青銅水合物K2(Mo3O10)(H2O)3,多種Mo的不同形式的水合物,水合物揮發(fā)性非常強(qiáng),可經(jīng)揮發(fā)沉積而產(chǎn)生的雜質(zhì)相,從而證明了鉬粉還原過程中化學(xué)氣相遷移模型的合理性。
影響Mo粉中雜質(zhì)含量的因素很多,尤其是氧含量的變化,從以上還原模型中可以認(rèn)為各種不同形式的水合物無疑是重要的因素之一。在生產(chǎn)實(shí)踐中,應(yīng)盡可能利用化學(xué)氣相遷移的模型控制鉬粉的品質(zhì)。各種水合物的形成與水蒸氣含量密切相關(guān),而MoO2氫還原過程中,一方面來自于原料的吸附,一方面來自于MoO2氫還原反應(yīng)所生成的水,另一方面是氫氣的露點(diǎn)。氫氣露點(diǎn)越高,還原過程中水蒸氣分壓越高,所需要的還原溫度也越高,相應(yīng)的鉬粉顆粒在氣相遷移的充分作用下會(huì)長得較粗大。
表2是生產(chǎn)過程中同一批還原鉬粉的檢測(cè)結(jié)果,還原工藝是:5個(gè)溫區(qū)溫度為:850℃、900℃、950℃、950℃、900℃,每個(gè)溫區(qū)的停留時(shí)間為120 min,料層厚度為30 mm,氫氣流量0.7 m3/h。1~4號(hào)樣品是從表面已呈灰色的、認(rèn)為還原完全的鉬粉區(qū)域所取樣品;而5~7號(hào)樣品是包含有MoO2顏色的棕色區(qū)域,認(rèn)為是還未還原完全區(qū)域所取樣品。從表中可以清楚看出還原完全的鉬粉與不完全的雜質(zhì)含量有明顯的差異。還原完全的鉬粉經(jīng)化學(xué)氣相遷移,顆粒充分長大,而且經(jīng)還原后各種雜質(zhì)含量也較低。而沒有還原完的鉬粉,各種復(fù)雜水合物已經(jīng)形成,但是還未充分還原,顆粒也沒有充分長大,所以雜質(zhì)含量高,粒度偏小。
表2 生產(chǎn)中還原完全與不完全試樣雜質(zhì)含量對(duì)比
將表2中5、6、7號(hào)試樣經(jīng)1 100℃,保溫時(shí)間120 min,料層厚度為30 mm,氫氣流量0.7 m3/h的工藝進(jìn)行再次還原,其檢測(cè)結(jié)果見表3。
表3 還原不完全試樣再次還原結(jié)果
分析表3可以看出,經(jīng)再次高溫還原后,鉬粉顆粒長大,各種復(fù)雜水合物在高溫氫氣環(huán)境下被還原,所以各種雜質(zhì)含量也降到與同批還原粉相同的水平。
MoO2氫還原成Mo粉的過程中存在化學(xué)氣相遷移(CVT)現(xiàn)象,雜質(zhì)元素有向由多個(gè)微小顆粒團(tuán)聚而成的大顆粒富集的現(xiàn)象,生產(chǎn)中即表現(xiàn)為篩上物雜質(zhì)含量高于篩下物,但是如果還原充分則可以避免雜質(zhì)元素富集現(xiàn)象。
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