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摻鉍BaF2晶體的制備及其近紅外發(fā)光研究*

2010-09-08 06:05:02周朋蘇良碧李紅軍喻軍3鄭麗和楊秋紅徐軍
物理學(xué)報 2010年4期
關(guān)鍵詞:射線晶體紅外

周朋蘇良碧李紅軍喻軍3)鄭麗和楊秋紅徐軍

1)(上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院電子信息材料系,上海200072)

2)(中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所透明與光功能無機材料重點實驗室,上海201800)

3)(寧波大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院光電子功能材料研究所,寧波315211)

(2009年6月25日收到;2009年7月20日收到修改稿)

摻鉍BaF2晶體的制備及其近紅外發(fā)光研究*

周朋1)2)蘇良碧2)?李紅軍2)喻軍2)3)鄭麗和2)楊秋紅1)徐軍2)

1)(上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院電子信息材料系,上海200072)

2)(中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所透明與光功能無機材料重點實驗室,上海201800)

3)(寧波大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院光電子功能材料研究所,寧波315211)

(2009年6月25日收到;2009年7月20日收到修改稿)

通過溫度梯度法制備了Bi2O3:BaF2以及BiF3:BaF2晶體.在Bi2O3:BaF2晶體中觀察到了發(fā)光峰位于961nm,半高寬202nm的超寬帶紅外發(fā)光.在BiF3:BaF2晶體中檢測到Bi2+和Bi3+可見區(qū)的發(fā)光,但是沒有觀察到紅外發(fā)光.通過γ射線輻照實現(xiàn)了BiF3:BaF2晶體的近紅外發(fā)光,發(fā)光峰位于1135nm,半高寬192nm.討論了Bi2O3和BiF3摻雜BaF2晶體的紅外發(fā)光的機理.

近紅外發(fā)光,鉍,氟化鋇晶體,γ輻照

PACC:7830G,4255Q,6180E

1. 引言

近年來,摻鉺光纖放大器(EDFA)的發(fā)展[1—6]促進了光通信的變革和發(fā)展.可以直接放大光信號而不用通過光→電→光的轉(zhuǎn)換過程的鉺光纖放大器,已被廣泛應(yīng)用在目前的光通信系統(tǒng).但是,高效率并且工作帶寬可以涵蓋所有的石英玻璃纖維的窗口如800—900nm,1240—1340nm和1500—1650nm的光放大器尚未發(fā)明出來.因此,擴大響應(yīng)帶寬和激光源的帶寬,以契合更高效、更大的容量和更快的比特率的波分復(fù)用技術(shù)(WDM)傳輸網(wǎng)絡(luò)的需要已成為一個關(guān)鍵的、有吸引力的未來光通信的發(fā)展方向.由于稀土離子的4f軌道中的對環(huán)境變化不敏感的f-f躍遷的帶寬很難達到100nm,稀土離子摻雜光纖放大器很難實現(xiàn)上述目標[7].

2001年,日本學(xué)者Fujimoto[8,9]首次發(fā)現(xiàn)了摻Bi離子玻璃在紅外波段1000—1500nm具有寬帶發(fā)光(FWHM>200nm)和光放大,引起了人們的關(guān)注,鉍摻雜玻璃與光纖的研究已成為一個新的研究熱點.但是至今關(guān)于Bi離子在單晶體中實現(xiàn)近紅外發(fā)光的報道還很少.2008年,Okhrimchuk等[10]在摻Bi的RbPb2Cl5晶體中發(fā)現(xiàn)了寬帶近紅外發(fā)光,它的發(fā)射光譜峰值波長位于1.0—1.2μm.最近,阮健等[11]采用Bi金屬為原料在BaF2晶體中實現(xiàn)了寬帶近紅外發(fā)光.

本文報道了分別采用Bi2O3和BiF3作原料時Bi離子在BaF2晶體中的近紅外發(fā)光現(xiàn)象,并探討了近紅外發(fā)光的機理.

2. 實驗

采用Bi2O3和BaF2作初始原料,在Bi2O3摻雜的BaF2晶體中二者摩爾比為3∶194.在BiF3摻雜的BaF2晶體中,則采用Bi2O3,PbF2和BaF2作初始原料,三者摩爾比為3∶9∶194.稱量好的原料均勻混合并且經(jīng)低溫干燥,然后根據(jù)坩堝尺寸壓制成塊.

Bi2O3摻雜的BaF2晶體的生長:晶體生長采用溫度梯度法(TGT)[12].坩堝底部加籽晶[111]定向生長BaF2.將壓制成塊的粉體原料裝入爐內(nèi),然后抽真空至10-3Pa時運行生長程序.升溫過程在300℃下保溫一段時間,確保去除水分,然后充入高純Ar氣,再升溫到熔化溫度,保溫2 h后按一定程序降溫生長.

BiF3摻雜的BaF2晶體的生長過程如下:升溫過程在300℃和800℃下分別保溫一段時間,前者確保去除水分,后者充分發(fā)揮PbF2的氟化作用;氟化完全后充入高純Ar氣,再升溫到熔化溫度,保溫2 h后按一定程序降溫生長.其他程序與生長Bi2O3: BaF2相同.

輻照實驗采用輻照源為60Co的γ射線對晶體進行輻照.輻照劑量為10 kGy,劑量率為100 Gy/h.

通過Jasco V-570 UV/VIS/NIR型分光光度計測量吸收光譜.使用Fluorolog-3(Jobin Yvon,F(xiàn)rance)型熒光光度計,采用450 W功率的Xe燈以及808nm和980nm的LD抽運源激發(fā),測量可見發(fā)光和紅外發(fā)光.采用Tektronix TDS3052數(shù)字示波器記錄熒光強度隨時間的衰減曲線.所有的測量都是在室溫下進行.

3. 結(jié)果與討論

圖1是室溫下測得的空白BaF2晶體,Bi2O3: BaF2晶體,BiF3:BaF2晶體和經(jīng)γ射線輻照的BiF3: BaF2晶體的吸收光譜.在Bi2O3:BaF2晶體中觀察到峰位在241,429,523,647和875nm處的吸收峰.在BiF3:BaF2晶體中觀測到峰值在370和617nm處的吸收峰.以上吸收峰的位置與文獻[13]中報道的500,700,800nm和1000nm附近有出入,可能與玻璃和晶體的結(jié)構(gòu)不同有關(guān).經(jīng)γ射線輻照的BiF3:BaF2晶體的吸收峰出現(xiàn)在394,429,478,614,700,800nm處.

圖2是摻Bi2O3的BaF2晶體在808nm抽運源下的發(fā)射光譜.在850—1250nm出現(xiàn)一個半高寬超過200nm的熒光帶.在純BaF2以及BiF3:BaF2晶體中沒有觀察到紅外發(fā)光現(xiàn)象.

為了進一步研究摻Bi的BaF2晶體近紅外發(fā)光機理,觀測了BiF3:BaF2晶體在可見光區(qū)的發(fā)射及其對應(yīng)的激發(fā)光譜.圖3是BiF3:BaF2晶體在可見光區(qū)的發(fā)射及其對應(yīng)的激發(fā)光譜.當(dāng)采用369nm以及446nm波長的光激發(fā)時,分別觀察到峰值位于416和508nm的可見波段發(fā)光.416nm附近波段的發(fā)光根據(jù)Blasse和Bril[14]的結(jié)論,歸屬于Bi3+的發(fā)光,508nm附近波段的發(fā)光與Bi2+有關(guān)[15].但是在BiF3:BaF2晶體中沒有觀察到近紅外發(fā)光,因此,排除了Bi3+,Bi2+作為紅外發(fā)光中心的可能.

圖4是γ射線輻照的BiF3:BaF2晶體分別在808和980nm抽運源下的發(fā)射光譜.在850—1500nm出現(xiàn)一個半高寬為192nm的熒光帶,980nm抽運源下的熒光壽命為6.6 μs.

圖1 BaF2晶體,摻Bi2O3的BaF2晶體,BiF3:BaF2晶體和經(jīng)γ射線輻照的BiF3:BaF2晶體在200—1400nm波長范圍內(nèi)的吸收光譜

圖2 摻Bi2O3的BaF2晶體在808nm抽運源下的發(fā)射光譜

圖3 BiF3:BaF2晶體在可見光區(qū)的發(fā)射及其對應(yīng)的激發(fā)光譜

圖4 γ射線輻照的BiF3:BaF2晶體分別在808nm和980nm抽運源下的發(fā)射光譜,內(nèi)插圖是980nm抽運源下的熒光壽命譜線

我們認為前文所述的兩種Bi摻雜BaF2晶體中的紅外發(fā)光均來源于Bi+.眾所周知,在1400℃左右高溫下,作為鉍原料的Bi2O3容易分解,熔體中存在著Bi3+與低價Bi2+,Bi+之間的動態(tài)平衡,從而在Bi2O3:BaF2晶體中生成Bi+[16].

而在BiF3:BaF2晶體生長過程中,作為原料的Bi2O3和PbF2在800℃時發(fā)生反應(yīng),生成了BiF3,而BiF3不分解,因此也就沒有以Bi+為發(fā)光中心的紅外發(fā)光現(xiàn)象.但是在Bi3+取代BaF2晶格中的Ba2+的過程中,由于電荷平衡的原因,同時產(chǎn)生了Fi-(i=1,2,3)間隙.在γ射線輻照的影響下,F(xiàn)i-間隙所帶的一個電子從Fi-間隙中游離出來成為自由電子.晶格中的高價態(tài)Bi離子俘獲了這些自由電子,從而實現(xiàn)價態(tài)的降低,產(chǎn)生Bi+和Bi2+:

4. 結(jié)論

在Bi2O3:BaF2晶體和經(jīng)輻照處理的BiF3:BaF2晶體中,分別在850—1250nm和850—1500nm的范圍內(nèi)觀察到了超寬帶紅外發(fā)光,發(fā)光峰分別位于961和1135nm.而在未經(jīng)輻照的BiF3:BaF2晶體中雖然觀察到可見區(qū)對應(yīng)于Bi3+和Bi2+的發(fā)光,但是沒有觀察到紅外發(fā)光現(xiàn)象.采用γ射線輻照可以實現(xiàn)BiF3:BaF2晶體的近紅外寬帶發(fā)光.認為兩種不同Bi:BaF2晶體中的紅外發(fā)光均來源于低價態(tài)離子Bi+,排除了來自Bi3+和Bi2+的可能性.

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PACC:7830G,4255Q,6180E

*Project supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant No.60778036)and the Nataral Science Foundation of Shanghai Committee of Science and Technology,China(Grant No.08ZR1421700).

?Corresponding author.E-mail:su_lb@163.com

Preparation and near-infrared luminescence properties of Bi-doped BaF2crystal*

Zhou Peng1)2)Su Liang-Bi2)?Li Hong-Jun2)Yu Jun2)3)Zheng Li-He2)Yang Qiu-Hong1)Xu Jun2)
1)(Department of Electronic Information Materials,School of Materials Science and Engineering,Shanghai University,Shanghai200072,China)
2)(Key Laboratory of Transparent and Opto-Functional Inorganic Materials,Shanghai Institute of Ceramics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai201800,China)
3)(School of Information Science and Engineering,Ningbo University,Ningbo315211,China)
(Received 25 June 2009;revised manuscript received 20 July 2009)

Bi2O3:BaF2and BiF3:BaF2crystals were prepared by TGT(temperature gradient method).Near-infrared broadband luminescence was observed in as-grown Bi2O3:BaF2crystal.The emission band peaks at 961nm in the range of 850—1250nm,with FWHM about 202nm.The luminescence of Bi2+and Bi3+ions in the visible region was observed in BiF3: BaF2crystal,but there was no near-infrared emission.Then the BiF3:BaF2crystal was exposed to γ-rays in order to reduce valence states of Bi ions.Near-infrared broadband luminescence was observed in γ-irradiated BiF3:BaF2crystal. The emission band peaks at 1135nm in the range of 850—1500nm,with FWHM about 192nm.The mechanisms of nearinfrared luminescence in Bi2O3:BaF2crystals and γ-irradiated BiF3:BaF2crystals were discussed.

near-infrared luminescence,bismuth,BaF2crystal,γ-irradiation

book=45,ebook=45

*國家自然科學(xué)基金(批準號:60778036)和上海市科技委員會自然科學(xué)基金(批準號:08ZR1421700)資助的課題.

?通訊聯(lián)系人.E-mail:su_lb@163.com

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