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PCB電鍍銅知識(2):電鍍銅填孔

2023-11-02 08:29:18陳苑明肖龍輝黎欽源
印制電路信息 2023年10期
關(guān)鍵詞:型孔干膜抗蝕

陳苑明 肖龍輝 何 為 黎欽源

(1.電子科技大學(xué) 材料與能源學(xué)院,四川 成都 610054;2.珠海方正科技高密電子有限公司,廣東 珠海 519175;3.廣州廣合科技股份有限公司,廣東 廣州 510730)

0 引言

本文主要介紹印制電路板(printed circuit board,PCB)的電鍍銅相關(guān)知識,重點介紹微孔內(nèi)電鍍銅填孔。銅具有良好的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性及較好的力學(xué)性能,且與其他金屬可以形成金屬間的鍵合作用,從而獲得結(jié)合力強的界面,因此電鍍銅被廣泛應(yīng)用于PCB 制造中。為了強化PCB 層與層之間的連接,增加孔上可連接或安裝面積,通過采用孔內(nèi)電鍍銅填孔技術(shù),包括盲孔和通孔等鍍銅進(jìn)行填孔。

1 盲孔鍍銅填充

盲孔是一種特殊結(jié)構(gòu)的溝槽,其填充體系和機理都與通孔電鍍有一定區(qū)別。盲孔填充主要采用高銅低酸的鍍液體系,而且在填充過程中只有一面孔口與鍍液接觸,填充過程中很容易出現(xiàn)空洞等缺陷。

盲孔的填充需要在保證面銅厚度變化不大的前提條件下,實現(xiàn)對孔內(nèi)的充分填充,因此相同條件下,與通孔電鍍相比,盲孔填充的難度更高,如圖1和圖2[1]所示。

圖1 盲孔填充示意

圖2 盲孔填銅在初始時刻的x-y 方向電流密度模擬結(jié)果[1]

盲孔填充主要分為3 種形式,分別是亞等角填充、等角填充和超等角填充。與通孔電鍍類似,盲孔填充中同樣存在孔底電流密度低于孔面電流密度的現(xiàn)象,如圖3(a)所示,導(dǎo)致當(dāng)孔面銅沉積速率較大、孔壁和孔底還來不及沉積銅時,即亞等角填充,此時盲孔的孔口就會被封住形成空洞,如圖3(b)所示;如孔口和孔內(nèi)的沉積速率接近,即等角填充,此時孔內(nèi)可能會出現(xiàn)縫隙,如圖3(c)所示。這2 種填充模式都會嚴(yán)重影響電子電路互連的可靠性和電氣性能。超等角填充能夠?qū)崿F(xiàn)盲孔自下而上的均勻填充,能夠得到無孔隙、空洞且填充均勻致密的高質(zhì)量填充。因此,在盲孔填充的過程中,要盡可能使其填充模式接近超等角填充,這樣才能實現(xiàn)良好的電氣互連功能。然而,盲孔填充也會出現(xiàn)凸起缺陷,如圖3(d)所示。這一般是由于不斷沉積的微孔內(nèi)表面導(dǎo)致加速劑吸附密度提升,因此要把控盲孔填充的時間和添加劑中加速劑的濃度,如圖4(a)[2]和4(b)[3]所示。

圖3 盲孔的理想填充以及3種常見的缺陷

圖4 2種盲孔填充缺陷的金相切片[2-3]

對于盲孔填充的性能表征,用盲孔的凹陷度(dimpled)和填孔性能(filling performance,F(xiàn)P)fFP來表示,如圖5所示。

圖5 凹陷度和填孔性能計算示意

式中:h2為從盲孔的孔底到面板鍍銅層的厚度;h1為盲孔的孔底到鍍銅層最凹處的厚度。

凹陷度值越低、FP 值越高,則盲孔的填充效果越好。一般來說,凹陷度值<15 μm,F(xiàn)P 值>80%,才能滿足PCB盲孔互連可靠性的要求。

2 通孔鍍銅填充

通孔填充的機理與盲孔類似,如圖6 所示[4]。在沒有電鍍添加劑作用時,在鍍液傳質(zhì)和電流密度不均勻分布的影響下,銅會優(yōu)先沉積在孔口處,這種沉積模式會導(dǎo)致孔口提前封口而在孔內(nèi)留下空洞缺陷。在電鍍添加劑的作用下,就會發(fā)生如圖6 所示的沉積過程,即銅會優(yōu)先沉積在通孔中間,然后形成上下2 個盲孔,相當(dāng)于同時進(jìn)行了2個盲孔的填充,即進(jìn)行自下而上的超等角填充,進(jìn)而實現(xiàn)通孔的填充。通孔填充的金相切片如圖7所示[5]。

圖6 通孔填充中銅層生長過程示意

3 X型孔鍍銅填充

X 型孔是采用激光對鉆的方式,即在板材兩面分別進(jìn)行激光鉆孔進(jìn)而鉆通形成的通孔,如圖8所示。

圖8 X型孔填充示意

X 型孔填充模式與通孔填充類似,填充X 型孔經(jīng)常會出現(xiàn)3 種缺陷,分別是空洞缺陷、凹陷缺陷和凸起缺陷,如圖9所示。

圖9 X型孔填充的三種缺陷示意

對于空洞缺陷,要求空洞面積不超過20%的孔徑面積;對于凹陷缺陷,一般要求凹陷深度不超過10 μm;對于凸起缺陷,一般要求凸起高度不超過5 μm。X 型孔填充的金相切片圖如圖10所示。

圖10 X型孔填充金相切片圖

4 抗蝕干膜電鍍填充

抗蝕干膜電鍍填充是PCB 電鍍高制程層間互連銅的核心技術(shù),工藝過程包括種子層濺射、抗蝕干膜顯影、電鍍填充等步驟,如圖11 所示。目前能實現(xiàn)最小的銅柱直徑達(dá)40 μm。

圖11 抗蝕干膜電鍍填充互連構(gòu)建方法

5 結(jié)語

電鍍銅技術(shù)是PCB互連可靠實現(xiàn)的重要保障,導(dǎo)電薄膜的形成可為電鍍銅提供層間電流導(dǎo)電媒介。PCB 電鍍銅類型包括通孔電鍍以及盲孔、通孔、X 型孔、抗蝕干膜的填孔電鍍。本文可為PCB 制造從業(yè)者普及導(dǎo)電薄膜形成與電鍍銅基礎(chǔ)理論的相關(guān)知識,提升其對電鍍銅技術(shù)的認(rèn)識水平。

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