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消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡

2022-07-10 09:27陸詠諍
光學(xué)儀器 2022年3期
關(guān)鍵詞:超構(gòu)色散色差

張 敏,陸詠諍,彭 嘉,文 靜

(上海理工大學(xué) 光電信息與計(jì)算機(jī)工程學(xué)院,上海 200093)

引 言

傳統(tǒng)光學(xué)器件因體積笨重等缺點(diǎn)無(wú)法滿足現(xiàn)代光學(xué)設(shè)備對(duì)光學(xué)系統(tǒng)集成化的要求,隨著超構(gòu)表面的迅速發(fā)展,新一代微型光學(xué)系統(tǒng)的出現(xiàn)成為可能。超構(gòu)表面是一種由人工設(shè)計(jì)的亞波長(zhǎng)微納結(jié)構(gòu)陣列,可對(duì)入射光的振幅、相位、偏振等進(jìn)行調(diào)控[1-3],已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了某些傳統(tǒng)光學(xué)器件的功能。例如光鑷[4-5]、光束分束器[6]、平面波片[7]、全息成像[8-12]和無(wú)衍射光束發(fā)生器[13-14]等。其中平面聚焦透鏡的色差問(wèn)題不可避免,因此,設(shè)計(jì)高效的在寬波段工作的超構(gòu)表面尤為重要。近年來(lái),許多研究工作致力于超構(gòu)表面的寬帶消色差,多個(gè)科研團(tuán)隊(duì)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)并報(bào)道了多種不同的消色差超構(gòu)表面及其調(diào)控機(jī)理[15-19],例如基于傳播相位和幾何相位相結(jié)合對(duì)光場(chǎng)進(jìn)行調(diào)控,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)消色差。傳統(tǒng)球面聚焦透鏡無(wú)法實(shí)現(xiàn)單透鏡消色差,只能通過(guò)級(jí)聯(lián)多個(gè)透鏡組合實(shí)現(xiàn)色差矯正。本文設(shè)計(jì)了一種基于光刻膠材料的Pancharatmane-Berry(PB)相位型超構(gòu)表面[20]與傳統(tǒng)微透鏡相結(jié)合的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡,通過(guò)FDTD Solutions軟件對(duì)該透鏡在780~980 nm工作波段進(jìn)行仿真模擬,探索其聚焦性能及消色差效果。

1 原理與設(shè)計(jì)

傳統(tǒng)透鏡的焦距取決于透鏡的曲率半徑和材料的折射率,當(dāng)半徑確定后,焦距隨折射率變化而變化。同一種材料,波長(zhǎng)越短折射率越大,焦距越短,這種成像色差異被稱為位置色差,也叫軸向色差,單透鏡本身不能消色差,所以傳統(tǒng)透鏡系統(tǒng)完全矯正色差需要不同材料的多個(gè)透鏡組合,且對(duì)材料要求苛刻,加工難度大。

超構(gòu)表面根據(jù)廣義斯涅耳定律[21],通過(guò)設(shè)計(jì)亞波長(zhǎng)單元結(jié)構(gòu)的幾何特征和空間排列,在兩種介質(zhì)的界面上引入一個(gè)突變的相位,產(chǎn)生相位梯度,通過(guò)控制界面上的相位梯度可以對(duì)出射光的角度進(jìn)行任意調(diào)控。PB相位型超構(gòu)表面基于以上原理,通過(guò)控制亞波長(zhǎng)單元結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)角度使入射的圓極化光產(chǎn)生一個(gè)額外的PB相位,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)出射光的調(diào)制。超構(gòu)表面因其結(jié)構(gòu)色散和相位響應(yīng)模式引起的光限制,色差同樣不可避免。寬帶消色差超構(gòu)表面的研究吸引了眾多相關(guān)科研工作者,在已報(bào)道的成果中,大多數(shù)調(diào)控機(jī)理都是通過(guò)對(duì)光場(chǎng)相位的控制實(shí)現(xiàn)超構(gòu)表面寬帶消色差。諸如通過(guò)算法優(yōu)化超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)參數(shù),耦合不同波長(zhǎng)響應(yīng)的納米天線,級(jí)聯(lián)針對(duì)不同波長(zhǎng)工作的超構(gòu)透鏡等,最值得一提的是,祝世寧院士與蔡定平教授通過(guò)結(jié)合波長(zhǎng)無(wú)關(guān)的幾何相位與波長(zhǎng)相關(guān)的傳播相位或共振相位,將波長(zhǎng)無(wú)關(guān)的相位作為基礎(chǔ)相位滿足超構(gòu)表面器件功能所需相位分布,波長(zhǎng)有關(guān)的相位作為補(bǔ)償相位矯正不同波長(zhǎng)之間的色差[15,17]。與上述原理不同,本文設(shè)計(jì)的超構(gòu)表面與球面透鏡相結(jié)合的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡利用兩者相反的色散機(jī)制實(shí)現(xiàn)寬帶消色差。

如圖1(a)所示,超構(gòu)表面上的單元結(jié)構(gòu)可以充當(dāng)相移器的作用,在滿足奈奎斯特采樣定理的基礎(chǔ)上,用離散相位分布來(lái)代替?zhèn)鹘y(tǒng)透鏡的連續(xù)相位分布。如圖1(b)所示,以超構(gòu)表面圓心為原點(diǎn)O(0,0,0),超構(gòu)表面所在平面上任意一納米鰭所在位置為P(x,y,0),設(shè)計(jì)焦距為f,P點(diǎn)到設(shè)計(jì)波前的距離為L(zhǎng),則

假設(shè)O點(diǎn)設(shè)計(jì)相位為0,P點(diǎn)設(shè)計(jì)相位為φ(x,y),則超構(gòu)表面的相位輪廓為

式中:λ為設(shè)計(jì)波長(zhǎng);f為設(shè)計(jì)焦距。通過(guò)給定坐標(biāo)(x,y)上的納米鰭一個(gè)旋轉(zhuǎn)角度 θrot(x,y) ,實(shí)現(xiàn)目標(biāo)相位輪廓,得到PB相位型超構(gòu)表面。這種方法利用單個(gè)納米鰭的形狀特征產(chǎn)生雙折射,從而可以充當(dāng)半波片的功能將空間變化的相位輪廓φ(x,y)施加給透射光,φ(x,y)= 2 θrot(x,y) 。由式(2)可知,在超構(gòu)表面工作范圍內(nèi),超構(gòu)表面的結(jié)構(gòu)色散滿足

圖1 超構(gòu)表面Fig.1 Metalens

式中 λd是工作波長(zhǎng)。由式(3)可知,超構(gòu)表面的色散與傳統(tǒng)曲面透鏡的色散相反,波長(zhǎng)越短,焦距越長(zhǎng)。因此,超構(gòu)表面的這種色散又稱為“異常色散”或“負(fù)色散”,理論上利用超構(gòu)表面的負(fù)色散和傳統(tǒng)折射光學(xué)器件的正色散相抵消,可以完全矯正光學(xué)系統(tǒng)的色差。

本文設(shè)計(jì)了由超構(gòu)表面作為第一透鏡,傳統(tǒng)球面透鏡作為第二透鏡的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡,復(fù)合透鏡示意圖如圖2(a)所示。目前最先進(jìn)的超構(gòu)表面需要通過(guò)一系列高難度的加工程序進(jìn)行制造,通常包括介質(zhì)的沉積、刻蝕等,如TiO2、GaN、Si等介質(zhì)超表面。最近有一種安全且高效的超表面制造方法被提出,它是通過(guò)電子束曝光負(fù)性光刻膠,準(zhǔn)確打印程序中已經(jīng)設(shè)計(jì)好的3D圖案,固化,顯影,從而形成設(shè)計(jì)好的幾何形體。本文設(shè)計(jì)的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡中,第一透鏡和第二透鏡材料都選用光刻膠材料,其折射率參數(shù)如圖2(b)所示[22-23]。

圖2 消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡Fig.2 Achromatic metalens compund lens

超構(gòu)表面的單元結(jié)構(gòu)如圖3(a)所示,它是由二氧化硅基底上的光刻膠材料聚合而成的納米鰭。單個(gè)納米鰭結(jié)構(gòu)長(zhǎng)(l)、寬(w)、高(h)和旋轉(zhuǎn)角度 θrot分別為620 nm、280 nm、5 000 nm和 θrot(x,y) ,單元周期P為980 nm。偏振轉(zhuǎn)換效率定義為與入射圓極化光極化相反的出射光功率與總?cè)肷鋱A極化光功率的比值,如圖3(b)所示,旋轉(zhuǎn)角度為零的單個(gè)結(jié)構(gòu)偏振轉(zhuǎn)換效率高達(dá)95%。

2 仿真與結(jié)果分析

遵循上述原理,本文設(shè)計(jì)了基于光刻膠材料的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡,并利用時(shí)域有限差分?jǐn)?shù)值模擬軟件FDTD Solutions進(jìn)行模擬,該透鏡組工作波長(zhǎng)為780~980 nm,數(shù)值孔徑NA= 0.5。

為了獲得紅外波段超構(gòu)表面的優(yōu)化參數(shù),采用平面內(nèi)周期邊界條件進(jìn)行時(shí)域有限差分方法(FDTD)模擬,分析了單個(gè)結(jié)構(gòu)單元的偏振轉(zhuǎn)換效率與納米鰭參數(shù)(長(zhǎng)l、寬w、高h(yuǎn))與晶格常數(shù)P的函數(shù)。如圖4所示,設(shè)定長(zhǎng)620 nm,寬280 nm,周期980 nm的情況下改變納米鰭的高度,在設(shè)計(jì)波段內(nèi),超構(gòu)表面的聚焦效率隨納米鰭的高度增加而增大。因此,本實(shí)驗(yàn)應(yīng)在滿足工藝參數(shù)的條件下,在可獲得的最大高寬比(h/w)范圍內(nèi)盡可能最大化納米鰭的高度H?,F(xiàn)有資料數(shù)據(jù)表明,可獲得的單元結(jié)構(gòu)最大高寬比可達(dá)20[23],本文設(shè)計(jì)中的結(jié)構(gòu)單元最大高寬比為18。

基于PB相位原理,采用上述單元結(jié)構(gòu)參數(shù)設(shè)計(jì)模擬了直徑40 μm,設(shè)計(jì)波長(zhǎng)980 nm的紅外超構(gòu)表面作為第一透鏡,仿真結(jié)果表明在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)附近超構(gòu)表面擁有穩(wěn)定高效率的良好聚焦效果。在此基礎(chǔ)上通過(guò)FDTD Solutions數(shù)值仿真軟件改變球面透鏡的曲率R及中心高度d(見(jiàn)圖2(a)),分析消色差結(jié)果優(yōu)化得到微球面透鏡的曲率半徑為39.2 μm,中心高度為5.4 μm。

仿真實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在設(shè)計(jì)波段內(nèi),消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡能矯正色差。非消色差超構(gòu)表面和消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡在XZ平面上的歸一化光場(chǎng)分布如圖5所示。圖5(a)為設(shè)計(jì)波長(zhǎng)為980 nm,NA= 0.2的非消色差超構(gòu)表面在工作波長(zhǎng)為780~980 nm時(shí)XZ平面的光場(chǎng)分布,其焦點(diǎn)在84~103 μm范圍內(nèi)波動(dòng)。圖5(b)為NA= 0.2的超構(gòu)透鏡添加了第二透鏡微球面透鏡后的超構(gòu)表面復(fù)合透鏡NA= 0.5,在同一工作波段焦距范圍為40~40.7 μm。

如圖6(a)所示,消色差超構(gòu)表面復(fù)合微透鏡在工作波長(zhǎng)為780 nm至880 nm時(shí)焦距變化僅0.7 μm,而設(shè)計(jì)參數(shù)相同的非消色差超構(gòu)表面在同一工作波段的焦距變化為19 μm,遠(yuǎn)大于消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡。如圖6(b)所示,從模擬結(jié)果中得到了NA= 0.5的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡在設(shè)計(jì)波段內(nèi)焦平面的聚焦光場(chǎng)半高全寬(FWHM),λ= 980 nm時(shí)聚焦光場(chǎng)FWHM為1.08 μm,接近衍射極限0.98 μm(d=λ/(2NA))。

圖5 XZ平面光場(chǎng)分布Fig.5 XZ plane optical field distribution

圖6 焦距變化和焦平面聚焦光場(chǎng)半高全寬Fig.6 The focal length change and the FWHM of focused light field from focal plane

圖7 聚焦效率Fig.7 Focusing efficiency

如圖7所示,本文對(duì)比了非消色差超構(gòu)表面和消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡的聚焦效率的模擬結(jié)果。圖7(a)為非消色差超構(gòu)表面在入射波長(zhǎng)為780~980 nm范圍內(nèi)的聚焦效率,峰值效率為55%,圖7(b)為消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡在同一工作波段內(nèi)的聚焦效率,峰值效率為48%。由模擬結(jié)果可知,相對(duì)非消色差超構(gòu)表面,消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡的聚焦效率未有顯著降低,在工作波段內(nèi)依然具有穩(wěn)定且較高的效率。

3 結(jié) 論

本文在新型超構(gòu)表面材料光刻膠超構(gòu)表面優(yōu)越聚焦性能的基礎(chǔ)上,探討了由該材料設(shè)計(jì)組成的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡在近紅外波段的消色差效果。通過(guò)FDTD算法對(duì)工作波段為780~980 nm,NA= 0.5的消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡的優(yōu)異消色差性能進(jìn)行了驗(yàn)證,仿真實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡能夠很好地矯正光學(xué)系統(tǒng)的軸向色差。相對(duì)傳統(tǒng)的超構(gòu)表面消色差通過(guò)相位補(bǔ)償來(lái)消色差的方法,這種消色差設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單且高效,將為特定波段內(nèi)的消色差成像提供一定的借鑒意義,為未來(lái)超構(gòu)表面的研究拓展出了更廣闊的發(fā)展空間。

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