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泥塑文物表面有機(jī)污物的激光去除與損傷研究

2022-05-06 06:31侯宵飛
電焊機(jī) 2022年4期
關(guān)鍵詞:污物基體泥塑

朱 明,石 坤,吳 斌,侯宵飛,石 玗

1.蘭州理工大學(xué) 省部共建有色金屬先進(jìn)加工與再利用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,甘肅 蘭州 730050 2.蘭州理工大學(xué) 有色金屬合金及加工教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,甘肅 蘭州 730050

0 前言

大量泥塑文物在露天保存過(guò)程中,易受到各類污物的腐蝕與破壞,造成珍貴文物的永久型損壞,因此需要定期、無(wú)損的清洗與維護(hù),延長(zhǎng)文物的保存壽命。以甘肅西部敦煌研究院保護(hù)的天梯山石窟為例(見圖1),高28 m的大型佛像在露天保護(hù)過(guò)程中,大量鳥糞類有機(jī)污物沉積在佛像表面,其中含有的尿酸鹽、銨、氮、磷酸、草酸、碳酸鹽、硝酸鉀等成分會(huì)對(duì)文物表面產(chǎn)生不同程度的腐蝕損傷行為,并且鳥糞類沉積物在長(zhǎng)期日照風(fēng)化和擴(kuò)散作用的影響下,會(huì)形成硬度約為2~3級(jí)、密度約為1.65~1.71 g/cm3的斜方晶系高硬沉積層[1-3]。目前,應(yīng)用于泥塑文物清洗的方法主要有水蒸汽清洗法、化學(xué)清洗法、粒子噴射清洗法、激光清洗方法等。但是,常規(guī)的化學(xué)清洗或機(jī)械摩擦清洗易對(duì)文物基體造成不可逆的損傷,并不適用于珍貴文物表面有機(jī)污物的頻繁清洗[4-5]。

圖1 天梯山石窟佛像及其表面鳥類排泄物Fig.1 Buddha statues in Tiantishan Grottoes and bird excrement on the surface of Buddha statue

目前,激光清洗已在金屬文物的表面清洗領(lǐng)域得到了一些典型應(yīng)用[6-12]。例如J.F.Asums等[13-14]和張秉堅(jiān)等[15]研究了文物表面污物的清洗技術(shù)及其清洗效果,得出激光清洗精度高,效果遠(yuǎn)好于以往清洗技術(shù)。蔣德賓等[16]使用激光清洗技術(shù)去除青銅器表面的污物及有害物質(zhì)中發(fā)現(xiàn)青銅器表面的污染物被有效去除并且會(huì)形成一道可以有效保護(hù)青銅器本身的致密薄膜。S.Siano等[17-18]對(duì)金屬類文物進(jìn)行系統(tǒng)性清洗試驗(yàn),結(jié)果表明調(diào)Q激光器能有效去除銀幣表面的銀鹽與鍍金青銅表面的硬殼。由于泥塑類文物的清洗難度相較于金屬類文物更高,基材易受到損傷,因此相關(guān)研究較少,還需要針對(duì)清洗機(jī)理和損傷行為等開展研究。

文中通過(guò)分析激光熱源特性對(duì)鳥糞類有機(jī)污物的熱作用模式,研究不同去除模式的能量閾值及對(duì)基材的損傷行為,提出最優(yōu)的激光清洗模式與工藝過(guò)程,為泥塑文物保護(hù)過(guò)程中的激光清洗工藝提供理論依據(jù)與參考。

1 試驗(yàn)材料及方法

1.1 試驗(yàn)材料

試驗(yàn)選用敦煌佛像制土和甘肅當(dāng)?shù)伉B類排泄物,模擬泥塑文物表面有機(jī)污物制樣,有機(jī)污物層厚約8 mm,樣品尺寸為Φ40 mm×20 mm,如圖2所示。

圖2 制備試樣Fig.2 Prepared sample

1.2 試驗(yàn)方法

選用HY-TS20A脈沖光纖激光器,光源類型為高斯光源,激光器參數(shù)為:激光器波長(zhǎng)1 064 nm;激光功率調(diào)節(jié)范圍0~20 W;激光脈沖寬度調(diào)節(jié)范圍1~350 ns;脈沖頻率調(diào)節(jié)范圍10~2 000 kHz;最小光斑直徑30 μm;焦距210 mm;輸出光束質(zhì)量M2≤1.3;工作時(shí)電力需求為220V±22V/50 Hz/12 A;設(shè)備冷卻方式采用高精度恒溫(閉環(huán)風(fēng)冷);工作溫度范圍0~40℃。實(shí)驗(yàn)中激光器參數(shù)為:激光能量密度0.212~0.398 J/cm2,脈沖頻率 30 kHz,脈沖寬度300 ns,光斑直徑400 μm。采用上述激光參數(shù)作用到試樣表面的有機(jī)污物層,使用OLYMPUS i-speed3型高速攝像機(jī)和工業(yè)顯微鏡高清鏡頭采集激光清洗過(guò)程。為了更好地觀察成形過(guò)程,便于后期圖像處理分析,選用波長(zhǎng)532 nm的窄帶濾光片濾除強(qiáng)光,并用HSX-F300型氙燈作為輔助光源。實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)如圖3所示。

圖3 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)示意Fig.3 Experimental system diagram

2 試驗(yàn)結(jié)果與分析

2.1 有機(jī)污物層燒蝕去除過(guò)程分析

當(dāng)激光能量密度為0.265 J/cm2時(shí),高速攝像采集系統(tǒng)拍攝到有機(jī)污物層出現(xiàn)燒蝕去除過(guò)程,選取一段有機(jī)污物層燒蝕去除的高速攝像視頻進(jìn)行分幀處理,處理完成圖片如圖4所示。圖4a是激光開始作用到有機(jī)污物層,隨著激光的繼續(xù)作用,有機(jī)污物層在激光作用區(qū)域上方出現(xiàn)了大量的白煙(見圖4b),有機(jī)污物層在激光的繼續(xù)作用下出現(xiàn)燃燒火焰(見圖4c)。圖4d是有機(jī)污物層在激光作用下出現(xiàn)燒蝕去除后的形貌,激光作用區(qū)域有機(jī)污物層被燒蝕發(fā)黑而被去除。

圖4 有機(jī)污物層燒蝕去除過(guò)程Fig.4 Ablation process of organic fouling layer

對(duì)于激光清洗有機(jī)污物層過(guò)程出現(xiàn)燒蝕去除分析如下:當(dāng)脈沖激光作用到泥塑表面有機(jī)污物層時(shí),激光作用區(qū)域有機(jī)污物層會(huì)瞬間吸收激光能量,有機(jī)污物層接收的激光能量將轉(zhuǎn)化為熱能,有機(jī)污物層溫度將會(huì)快速升高,達(dá)到其燃點(diǎn),所產(chǎn)生的熱效應(yīng)會(huì)破壞有機(jī)污物層自身結(jié)構(gòu),將其從泥塑表面去除,示意圖如圖5所示。

圖5 激光作用到有機(jī)污物層上燒蝕效應(yīng)示意圖Fig.5 Schematic diagram of ablation effect of laser on organic dirt layer

以上研究表明,激光清洗泥塑文物表面有機(jī)污物層時(shí),當(dāng)激光能量密度達(dá)到0.265 J/cm2時(shí),會(huì)產(chǎn)生燒蝕去除現(xiàn)象,去除過(guò)程出現(xiàn)燃燒現(xiàn)象并伴隨大量煙塵產(chǎn)生,激光清洗結(jié)束后,泥塑文物表面激光作用區(qū)域出現(xiàn)燒蝕后的黑斑。

2.2 有機(jī)污物層振動(dòng)去除過(guò)程分析

當(dāng)激光能量密度為0.371 J/cm2時(shí),通過(guò)高速攝像采集系統(tǒng)拍攝到清洗過(guò)程中有機(jī)污物出現(xiàn)振動(dòng)去除現(xiàn)象,同樣進(jìn)行分幀處理,處理完成圖片如圖6所示。圖6a是激光光束作用到有機(jī)污物層,有機(jī)污物層出現(xiàn)開裂現(xiàn)象;由圖6b、6c可以看到,有機(jī)污物層在激光繼續(xù)作用下出現(xiàn)顆粒狀飛濺。圖6d是有機(jī)污物層激光作用區(qū)域噴濺去除后的形貌。

圖6 有機(jī)污物層噴濺去除過(guò)程Fig.6 Splash removal of organic dirt layer

激光清洗泥塑文物表面有機(jī)污物層時(shí),有機(jī)污物層出現(xiàn)振動(dòng)去除現(xiàn)象的原因如下:實(shí)驗(yàn)中采用納秒脈沖激光,當(dāng)單個(gè)脈沖作用到有機(jī)污物層表面時(shí),有機(jī)污物層和泥塑文物基底吸收激光的能量,但是由于作用時(shí)間極短,有機(jī)污物層和泥塑文物基底層的加熱和冷卻過(guò)程都是瞬時(shí)完成,產(chǎn)生的熱膨脹作用會(huì)使有機(jī)污物層和泥塑文物基底界面處產(chǎn)生較大的應(yīng)力梯度,從而引起振動(dòng)波,在界面處形成的熱應(yīng)力大于有機(jī)污物層與泥塑文物基底表面的粘合力,最終導(dǎo)致有機(jī)污物層從泥塑文物基底上被剝落掉,產(chǎn)生開裂和噴濺去除現(xiàn)象。有機(jī)污物層振動(dòng)去除效應(yīng)如圖7所示。

圖7 有機(jī)污物層振動(dòng)效應(yīng)示意圖Fig.7 Schematic diagram of vibration effect of organic dirt layer

綜上所述,激光清洗泥塑文物表面有機(jī)污物過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)燒蝕去除現(xiàn)象和振動(dòng)去除現(xiàn)象,當(dāng)激光能量密度達(dá)到0.265 J/cm2時(shí),出現(xiàn)燒蝕去除現(xiàn)象,當(dāng)激光能量密度達(dá)到0.371 J/cm2時(shí),振動(dòng)去除現(xiàn)象更加明顯。對(duì)于激光清洗泥塑文物表面有機(jī)污物過(guò)程中無(wú)論出現(xiàn)燒蝕去除還是振動(dòng)去除,都有一定的效果。因此可以采用不同的去除形式相結(jié)合的方法,達(dá)到最佳的清洗效果。

2.3 激光清洗有機(jī)污物層對(duì)泥塑基體損傷行為分析

采用激光清洗技術(shù)清除文物表面的有機(jī)污物層,必須考慮這項(xiàng)技術(shù)在清除過(guò)程中是否會(huì)對(duì)文物本體造成損傷,這是文物保護(hù)的首要和關(guān)鍵問(wèn)題。泥塑表面有機(jī)污物層去除時(shí),難以動(dòng)態(tài)實(shí)時(shí)把控去除過(guò)程,實(shí)現(xiàn)基體無(wú)損,這將導(dǎo)致泥塑表面有機(jī)污物層逐漸被去除后,激光直接作用到泥塑基體表面,從而損傷基體。為了清晰觀察到激光對(duì)于泥塑基體的損傷形式,試驗(yàn)中將激光光束直接作用到未覆蓋有機(jī)污物層的泥塑基體表面,觀察泥塑基體損傷情況。

通過(guò)實(shí)驗(yàn)結(jié)果觀察到當(dāng)激光能量密度達(dá)到0.265 J/cm2時(shí),泥塑基體主要出現(xiàn)灼燒損傷;而當(dāng)激光能量密度達(dá)到0.371 J/cm2時(shí),泥塑基體主要出現(xiàn)凹坑損傷,如圖8所示。因此激光清洗過(guò)程中需要改變激光能量密度來(lái)控制熱輸入進(jìn)而避免基材的損傷。

圖8 泥塑基體損傷形式Fig.8 Clay Sculpture matrix damage form

3 結(jié)論

針對(duì)泥塑文物表面有機(jī)污物的激光清洗實(shí)驗(yàn),采用激光參數(shù)為波長(zhǎng)1 064 nm,脈沖頻率30 kHz,脈沖寬度300 ns,光斑直徑400 μm,激光能量密度為0.212~0.398 J/cm2,得到以下結(jié)論:

(1)納秒脈沖激光作用到泥塑文物表面有機(jī)污物層時(shí),主要出現(xiàn)燒蝕去除效應(yīng)和振動(dòng)去除效應(yīng)。有機(jī)污物層去除后泥塑基體主要出現(xiàn)凹坑損傷和灼燒損傷。

(2)有機(jī)污物層在激光能量密度為0.265 J/cm2時(shí)出現(xiàn)分解燃燒去除,去除過(guò)程中產(chǎn)生大量白煙。在激光能量密度為0.371 J/cm2時(shí)有機(jī)污物層出現(xiàn)噴濺去除,過(guò)程中出現(xiàn)開裂現(xiàn)象,并伴隨著顆粒狀飛濺,有機(jī)污物層逐漸被去除。

(3)實(shí)驗(yàn)中表明,激光清洗泥塑文物表面有機(jī)污物過(guò)程中,采用靜態(tài)工藝參數(shù)很難實(shí)現(xiàn)泥塑文物表面有機(jī)污物完全去除且基材無(wú)損,因此后續(xù)研究需要通過(guò)對(duì)清洗過(guò)程激光能量密度調(diào)控來(lái)控制熱輸入,從而保證基材無(wú)損。

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