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置換化學(xué)鍍法制備銀包銅粉導(dǎo)電膠填料及其性能

2022-04-13 06:17:18孫志于曉輝婁鑫梨童夏燕趙健偉張洪文賀園園程娜
電鍍與涂飾 2022年5期
關(guān)鍵詞:導(dǎo)電膠銅粉鍍銀

孫志 ,于曉輝,婁鑫梨,童夏燕,趙健偉 ,張洪文,賀園園 ,程娜

(1.嘉興學(xué)院材料與紡織工程學(xué)院,浙江 嘉興 314001; 2.嘉興銳澤表面處理技術(shù)有限公司,浙江 嘉興 314031; 3.常州大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇 常州 213164)

導(dǎo)電粘接材料被廣泛應(yīng)用于各種高端電子產(chǎn)品,其主要由導(dǎo)電填料和膠體基質(zhì)組成。銀粉具有優(yōu)良的特性,是應(yīng)用最廣泛的導(dǎo)電填料。但隨著貴金屬價(jià)格的上漲,制備兼具銀的特性且價(jià)格低廉的銀包銅粉成為導(dǎo)電填料的重要研究方向[1-4]。

銀包銅粉的制備主要分為還原法和置換法2種[5]。還原法是在含銀離子的溶液中添加還原劑,促使銀離子還原并沉積在基底表面,其中銅顆粒只起支撐作用,不參與化學(xué)反應(yīng)。常用的還原劑有氨水[6]、抗壞血酸[7]、甲醛[8]、葡萄糖[9]、水合肼[10]等。還原法雖可以得到較高的含銀量,但難以獲得均勻分布的銀層。此外,容易在容器壁上沉積或獨(dú)立成核生長(zhǎng),因此銀的利用率不高。置換法是利用銅基材作為還原劑,通過犧牲部分 基材來沉積銀[11-12]。在置換反應(yīng)中,銅粉表面原子失電子轉(zhuǎn)變?yōu)殂~離子并進(jìn)入溶液中,銀離子得電子而被還原并沉積在銅粉表面。由于還原劑是銅粉,且銀離子存在于溶液中,因此該過程是固-液表面反應(yīng)。與傳統(tǒng)還原法相比,置換法更容易控制銀層的結(jié)晶方式和分布均勻性。然而,這種均勻性受顆粒尺寸和形狀的影響較大。顆粒尺寸增大不僅會(huì)使表面活性原子的占比發(fā)生變化,而且能在微米尺度內(nèi)形成銀-銅電偶,發(fā)生微原電池反應(yīng)。因此,合理控制工藝參數(shù),促進(jìn)銀在銅顆粒表面均勻沉積是采用置換法制備銀包銅粉的關(guān)鍵。

目前銀包銅粉的基礎(chǔ)研究以還原法為主。宋曰海等人[13]研究了還原劑(葡萄糖)、分散劑(聚乙烯吡咯烷酮)及配位劑(乙二胺四乙酸)用量對(duì)材料性能的影響,發(fā)現(xiàn)銀鍍層在一定程度上提高了導(dǎo)電性,但其包覆程度和抗氧化性不足。胡磊等人[14]利用二步還原法制備出鍍層平均厚度為336 nm的銀包銅粉,但是操作復(fù)雜,性能方面有待進(jìn)一步研究。國(guó)內(nèi)有關(guān)采用置換法制備銀包銅粉的報(bào)道較少,本課題組曾采用置換法制備了粒徑為1 μm[15]和5μm[16]的球狀鍍銀銅粉,具有良好的應(yīng)用價(jià)值。

為了進(jìn)一步改善導(dǎo)電膠的機(jī)械力學(xué)性能,需要較大粒徑的銅粉,從而提高顆粒表面粗糙度和降低顆粒與膠體基質(zhì)之間的孔隙率。但銅粉粒徑的增大,不僅改變了比表面積,而且有可能改變置換反應(yīng)的機(jī)理。本文以15 μm的銅粉為基材,通過置換化學(xué)鍍?cè)谄浔砻嬷苽溷y層,系統(tǒng)地研究了溫度對(duì)大顆粒銅粉置換化學(xué)鍍銀的影響,為導(dǎo)電膠黏劑的研發(fā)奠定基礎(chǔ)。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 主要試劑與儀器

濃硫酸、濃硝酸、NaOH、Na2CO3、異丙醇(C3H8O)和無水乙醇購自國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司,均為分析純;球形銅粉(純度99.9 %,密度8.96 g/cm3,平均粒徑15 μm)購自北京興榮源科技有限公司;環(huán)氧樹脂和固化劑購自南京昊卓材料科技有限公司;ZHL-02鍍銀液(銀含量22.5 g/L)由嘉興銳澤表面處理技術(shù)有限公司提供。

VHX900F型超景深顯微鏡,日本基恩士;Apero-2型掃描電子顯微鏡(SEM),北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司;D8-A25型X射線衍射儀(XRD),德國(guó)Bruker;Q50型熱重分析儀(TG),美國(guó)TA;MRX-TM300型自動(dòng)涂膜機(jī),樂克實(shí)驗(yàn)室設(shè)備(北京)有限公司;101-1HB型高溫干燥箱,北京市永光明醫(yī)療儀器有限公司;CHI630B電化學(xué)工作站,上海辰華儀器有限公司;DH7000型電化學(xué)工作站,江蘇東華測(cè)試技術(shù)股份有限公司;力學(xué)拉伸機(jī),深圳三思縱橫科技股份有限公司;UV-8000型分光光度計(jì),上海元析儀器有限公司。

1.2 鍍銀銅粉導(dǎo)電填料的制備

每次稱取5 g銅粉,用無水乙醇超聲清洗5 ~ 10 min后用去離子水清洗3次;在50 g/L NaOH + 50 g/L Na2CO3除油液中攪拌脫脂5 ~ 10 min后用去離子水清洗3遍;在室溫下用5%(體積分?jǐn)?shù))稀硫酸清除銅粉表面氧化物并活化最外層原子,再用去離子水沖洗銅粉直至溶液無色;將銅粉加入250 mL置換反應(yīng)液中,用磁力攪拌器攪拌4 h后靜置,固液分離完畢先用去離子水清洗,再用少量異丙醇浸潤(rùn),以待檢測(cè)。

1.3 性能測(cè)試和表征方法

1.3.1 銀包銅粉的性能

采用分光光度法測(cè)試鍍銀銅粉中銀的負(fù)載量。利用超景深光學(xué)顯微鏡和掃描電鏡觀察銅粉的顯微形貌。利用X射線衍射儀分析銀包銅粉的晶體結(jié)構(gòu),Cu靶,Kα輻射,掃描速率7°/min,掃描范圍為30° ~ 85°。采用熱重分析儀對(duì)銀包銅粉進(jìn)行TG分析,升溫速率為10 °C/min,溫度范圍為25 ~ 700 °C。

1.3.2 導(dǎo)電膠的性能

按質(zhì)量比為1∶1將環(huán)氧樹脂與固化劑均勻混合制得預(yù)交聯(lián)基質(zhì),向其中添加55%銀包銅粉,混合均勻得到導(dǎo)電膠。借助涂覆機(jī)以0.02 m/s的移動(dòng)速率將導(dǎo)電膠均勻涂覆在7.5 cm × 2.0 cm且貼有銅箔的長(zhǎng)方形玻璃片上,涂覆厚度為0.5 mm,在90 °C下固化30 min,用于電化學(xué)測(cè)試。

在鼓風(fēng)干燥箱中對(duì)導(dǎo)電膠開展高溫老化測(cè)試,溫度控制在100 °C,每隔2 h取出樣品測(cè)試其導(dǎo)電性。導(dǎo)電性測(cè)試采用循環(huán)電位掃描法(CV),在CHI660B電化學(xué)工作站上獲得電流對(duì)電位(I-U)的響應(yīng)曲線。其中參比電極和對(duì)電極與導(dǎo)電膠一端連接,工作電極連接另一端,與電化學(xué)工作站形成回路。初始電位為0.2 V, 負(fù)向掃描至-0.2 V后,再回掃至初始電位。根據(jù)I-U曲線采用式(1)和式(2)計(jì)算樣品的電阻(R)和體積電阻率(ρ)。

式中U為電壓(單位:V),I為電流(單位:A),l為導(dǎo)電膠長(zhǎng)度(單位:m),A為導(dǎo)電膠的橫截面積(單位:m2)。

采用DH7000電化學(xué)工作站測(cè)量導(dǎo)電膠的阻抗譜,頻率從10 kHz到0.1 Hz,振幅為5 mV。

參考GB/T 7124-2008《膠黏劑 拉伸剪切強(qiáng)度的測(cè)定(剛性材料對(duì)剛性材料)》測(cè)試樣品的剪切性能。準(zhǔn)備若干塊100 mm × 25 mm的長(zhǎng)方形銅板,將導(dǎo)電填料質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15% ~ 75%的導(dǎo)電膠涂覆在銅板一端,涂覆區(qū)域?yàn)?0 mm × 25 mm,測(cè)試前將2塊銅板涂導(dǎo)電膠之處進(jìn)行粘合并固化,在拉伸試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行拉伸,載荷為8.5 MPa/min,每個(gè)條件測(cè)5個(gè)平行樣品,取平均值。

2 結(jié)果與討論

2.1 置換反應(yīng)的動(dòng)力學(xué)過程

置換液(即鍍銀液)的主要成分為有機(jī)配位劑和銀離子,兩者形成銀配位離子,但有機(jī)配位劑的配位能力有限,鍍液中仍有部分游離的銀離子存在。當(dāng)銅粉加入其中時(shí),較活潑的銅傾向于與銀離子發(fā)生置換反應(yīng):2Ag++ Cu → 2Ag + Cu2+。因此,可采用分光光度法測(cè)得溶液中Cu2+的濃度,進(jìn)而計(jì)算出沉積在銅粉表面的銀含量。整個(gè)反應(yīng)過程發(fā)生在顆粒表面,隨著銀層覆蓋度的增大,裸露的銅原子越來越少,沉積速率逐漸降低,直至反應(yīng)停止。該過程可用簡(jiǎn)化的一級(jí)表面動(dòng)力學(xué)方程[17]來表示,見式(3)。

其中ηt是t時(shí)刻銀包銅粉中銀的負(fù)載量,η∞是置換反應(yīng)無窮長(zhǎng)時(shí)間的飽和銀負(fù)載量,Krep為置換反應(yīng)的速率常數(shù)。

反應(yīng)速率與飽和銀負(fù)載量是評(píng)價(jià)銀包銅粉性能的關(guān)鍵指標(biāo)。圖1a示出了銀包銅粉中銀負(fù)載量隨置換反應(yīng)時(shí)間的變化,圖1b為其擬合曲線。

圖1 在不同溫度下置換鍍時(shí)銀包銅粉的銀負(fù)載量與反應(yīng)時(shí)間的關(guān)系曲線(a)及其擬合曲線(b) Figure 1 Curves showing the relationship between silver loading rate of Ag-coated copper particles and reaction time when replacement electroless plating at different temperatures (a) and corresponding fitted curves (b)

從1a可知,在反應(yīng)的前100 min內(nèi),銀的沉積速率先快速后緩慢增大,100 min后基本保持穩(wěn)定。銀飽和負(fù)載量在35% ~ 50%之間,受溫度的影響顯著。對(duì)比前期對(duì)5 μm粒徑銅粉的研究[16]可知,銅顆粒直徑對(duì)銀負(fù)載量也有顯著影響,直徑較大的銅顆粒的飽和銀負(fù)載量也較大。

由Arrhenius方程式的對(duì)數(shù)形式[見式(4)]可知,lnKrep與1/T呈線性關(guān)系,圖1b與之吻合。由圖1b也可算得該置換反應(yīng)的活化能為1.9 ×103J/mol,遠(yuǎn)低于直徑5 μm的銅粉置換鍍銀的活化能(4.10×104J/mol)[16]。

其中,Ea為置換反應(yīng)的活化能;A為指前因子,與置換體系有關(guān);8.314為摩爾氣體常數(shù)[單位:J/(mol·K-1)]。

綜上可知,粒徑較大的銅粉具有較高的銀負(fù)載量和較低的反應(yīng)活化能,說明粒徑較大的銅粉表面具有更多高活性位點(diǎn),銀離子更容易在其表面結(jié)晶成核。另外,較大粒徑的銅粉易于形成銀-銅電偶,其微原電池反應(yīng)也有利于降低反應(yīng)活化能,進(jìn)而提高銀的沉積量。

從圖2可以看出,反應(yīng)2 min后銅粉由初始的紅褐色逐漸變?yōu)殂y白色,隨反應(yīng)時(shí)間延長(zhǎng),銅粉的包覆程度提高,60 min時(shí)銅粉已被Ag層完全包覆,此后進(jìn)入Ag層加厚階段。以上情況與圖1a反映出的銀負(fù)載量的變化趨勢(shì)相同。

圖2 在40 °C下置換鍍不同時(shí)間所得的銀包銅粉的形貌(500×) Figure 2 Morphologies of Ag-coated Cu particles obtained by replacement electroless plating for different time at 40 °C (500×)

Cu在硝酸中會(huì)失電子而還原為Cu2+,使溶液呈藍(lán)色。為了驗(yàn)證銅粉被銀層包覆的情況,取40 °C下置換鍍銀不同時(shí)間的銀包銅粉,分別在體積分?jǐn)?shù)為20%的硝酸中浸泡20 min,再根據(jù)溶液顏色的深淺來判斷銅粉被銀層包覆的程度。如圖3所示,隨置換反應(yīng)時(shí)間延長(zhǎng),浸泡銀包銅粉后的硝酸溶液顏色變淺,將施鍍1 h以上所得銀包銅粉浸泡其中時(shí)幾乎沒有變化,說明置換反應(yīng)1 h后銅粉已完全被銀層包覆。

圖3 體積分?jǐn)?shù)為20%的硝酸中浸泡了在40 °C下置換鍍不同時(shí)間所得銀包銅粉20 min后的顏色 Figure 3 Color of 20vol.% nitric acid solution in which Ag-coated Cu particles obtained by replacement electroless plating at 40 °C for different time were immersed for 20 min

2.2 銀包銅粉的性能

2.2.1 形貌

良好的分散性是保證銀包銅粉導(dǎo)電膠性能穩(wěn)定的關(guān)鍵。從圖4可以看出,在不同溫度下置換鍍銀約4 h后,銅粉都被銀完全包覆,沒有褐色的基底銅裸露現(xiàn)象,并且都保持了良好的分散性,說明置換鍍銀并沒有對(duì)銅粉的分散性產(chǎn)生負(fù)面影響。這一點(diǎn)與利用還原法制備銀包銅粉時(shí)明顯不同[18]。

圖4 在不同溫度下置換鍍銀4 h所得的銀包銅粉的形貌(500×) Figure 4 Morphologies of Ag-coated Cu particles obtained by replacement electroless plating at different temperatures for 4 h (500×)

如圖5所示,在觀察的視野內(nèi)僅有單一的銅顆粒,初始銅粉表面較光滑,沒有明顯的沿晶面生長(zhǎng)的結(jié)晶特征。在不同溫度下置換鍍銀約4 h后顆粒表面有眾多細(xì)小的層狀結(jié)構(gòu)出現(xiàn),呈現(xiàn)出明顯的晶體沿特定晶面生長(zhǎng)的特點(diǎn)而非顆粒間的團(tuán)聚。這意味著鍍銀層結(jié)晶狀態(tài)良好,預(yù)示了銀包銅粉具有更優(yōu)良的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性。

圖5 銅粉及其在不同溫度下置換鍍4 h所得的銀包銅粉的顯微形貌 Figure 5 Micromorphologies of Cu particles and Ag-coated Cu particles obtained by replacement electroless plating at different temperatures for 4 h

2.2.2 晶相結(jié)構(gòu)

圖6給出了在不同溫度下制備的銀包銅粉的XRD譜圖,其中包含了銅基底和銀層的衍射峰。雖然本工藝制備的銀包銅粉的銀層平均厚度在1.0 μm以上(根據(jù)銀負(fù)載量和銅顆粒直徑計(jì)算得到),但鍍層厚度小于3 μm時(shí)無法遮蔽基底銅的衍射峰[11]。銀包銅粉在2θ為38.1°、44.1°、65.2°和77.3°處的特征峰分別對(duì)應(yīng)Ag的面心立方(111)、(200)、(220)和(311)面,其中(111)面的峰強(qiáng)明顯高于另外3個(gè)晶面。

圖6 不同溫度下置換鍍4 h所得銀包銅粉的XRD譜圖 Figure 6 XRD patterns of Ag-plated Cu particles obtained by replacement electroless plating at different temperatures for 4 h

根據(jù)圖6,分別采用式(5)[15]和式(6)計(jì)算得到不同晶面的晶粒尺寸和織構(gòu)系數(shù)(TChkl)。

式中,DV為與直于晶面的晶粒尺寸,下標(biāo)V代表體積權(quán)重;θ為布拉格角;βc為衍射峰的半峰寬;κ為常數(shù)(取0.9);λ為入射線波長(zhǎng)(取1.54 ?);Ihkl,0是無擇優(yōu)取向的標(biāo)準(zhǔn)樣品(hkl)晶面衍射峰的強(qiáng)度,Ihkl是測(cè)試樣品的(hkl)晶面衍射峰的強(qiáng)度[19]。

由表1可知,不同溫度下所得銀包銅粉上Ag的(111)、(200)、(220)和(311)面的平均晶粒尺寸分別為(65 ± 5) nm、(34 ± 8) nm、(35 ± 11) nm和(22 ± 9) nm。與前期研究的5 μm銅粉置換鍍銀[16]對(duì)比可知,其與直于(111)面的晶粒更大,但與直于(200)、(220)和(311)面的晶粒更小。

表1 銀包銅粉上銀鍍層的晶體結(jié)構(gòu)參數(shù) Table 1 Crystal structure parameters of silver coating on Ag-coated particles

當(dāng)某晶面的織構(gòu)系數(shù)大于1.0時(shí),表明該晶面在鍍層中的占比高,而織構(gòu)系數(shù)最大的晶面為擇優(yōu)取向面。對(duì)比可知,(111)面的織構(gòu)系數(shù)均小于1,且隨溫度升高而減??;(200)面的織構(gòu)系數(shù)均大于1,受溫度的影響明顯,溫度高于45 °C時(shí)(200)面具有明顯的擇優(yōu)取向。以上情況與5 μm銅粉置換鍍銀時(shí)不同??梢姴煌姐~粉表面置換鍍銀層的晶面擇優(yōu)取向不同。

2.2.3 抗氧化性

從圖7可知,銅粉由室溫升至250 °C的過程中質(zhì)量沒有增大,繼續(xù)升溫到700 °C時(shí)質(zhì)量增加了10.5%。與不同溫度下置換鍍所得銀包銅粉的TG曲線存在顯著差異。對(duì)于銀包銅粉而言,在200 °C之前,主要是最外層的銀緩慢氧化成Ag2O,增重率小于0.6%。隨溫度繼續(xù)升高,Ag2O緩慢分解為Ag和O2,TG曲線略降。升溫至700 °C 后,增重率小于2%,仍然遠(yuǎn)低于銅粉的增重率。這表明置換鍍銀顯著提高了材料的抗氧化性,并且隨置換鍍銀溫度的升高,抗氧化性的改善效果略有提高。

圖7 銅粉(a)及其在不同溫度下置換鍍4 h所得的銀包銅粉(b)的熱重分析曲線 Figure 7 Thermogravimetric analysis curves for Cu particles (a) and Ag-coated Cu particles (b) obtained by replacement electroless plating at different temperatures for 4 h

2.3 銀包銅粉應(yīng)用于導(dǎo)電膠時(shí)的性能

2.3.1 導(dǎo)電性

Ag與Cu均屬于IB族金屬元素,都是面心立方結(jié)構(gòu),兩者可形成固溶體。當(dāng)工作環(huán)境溫度較高時(shí),銅與銀界面的Cu會(huì)加速擴(kuò)散到銀層中,形成一定厚度的Cu-Ag合金。圖8給出了以不同溫度下置換鍍銀所得銀包銅粉制備的導(dǎo)電膠在100 °C下加速老化過程中的電阻變化。從中可知導(dǎo)電膠的初始電阻在0.35 ~ 0.50 Ω范圍內(nèi),并且在老化的前40 h內(nèi)基本保持不變??梢姼邷仉m然加快了銅原子的熱運(yùn)動(dòng),提高了Cu原子向表面擴(kuò)散的能力,但是在Cu到達(dá)銀表面之前,對(duì)樣品導(dǎo)電性起主要貢獻(xiàn)的還是表面銀鍍層,因此其間Cu原子擴(kuò)散對(duì)樣品電阻的影響不大。隨著老化時(shí)間繼續(xù)延長(zhǎng),電阻略增,但增幅小于0.1 Ω,該過程主要對(duì)應(yīng)Cu原子擴(kuò)散至Ag層表面形成Cu-Ag合金。隨著合金的面積逐漸增大,電阻增大,直至整個(gè)顆粒表面合金化電阻達(dá)到穩(wěn)定。與較低溫度下置換鍍銀所得的銀包銅粉導(dǎo)電膠相比,以45 ~ 60 °C下所得的銀包銅粉制成的導(dǎo)電膠的電阻增幅略大,主要原因是高溫下置換鍍銀所得的銀包銅粉雖然已被Ag層完全包覆,但在小范圍內(nèi)存在一定的厚度不均勻問題,銀層較薄之處合金化程度更大。

圖8 不同溫度下制備的銀包銅粉作為填料時(shí) 導(dǎo)電膠在100 °C下加速老化時(shí)的電阻變化 Figure 8 Variation of electric resistance of conductive adhesives using Ag-coated Cu particles obtained at different temperatures as filler during being aged at 100 °C

導(dǎo)電膠在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用不僅需要考察其導(dǎo)電性,還要關(guān)注導(dǎo)電性的頻率特征。這在設(shè)計(jì)包含信號(hào)傳輸?shù)碾娮赢a(chǎn)品中格外重要。為此,采用交流阻抗法考察導(dǎo)電膠的頻響特征。圖9給出了在不同溫度下置換鍍銀所得引爆銅粉導(dǎo)電膠在0.1 ~ 10 kHz范圍內(nèi)的交流阻抗譜。從中可以看出4個(gè)樣品阻抗實(shí)部和虛部的數(shù)值都很小,說明它們?cè)跍y(cè)試的頻率范圍內(nèi)均表現(xiàn)出良好的導(dǎo)體特征。4個(gè)樣品的電化學(xué)阻抗譜圖均與直于實(shí)軸,表明其等效電路為電阻和電容串聯(lián)。但虛部的數(shù)值比實(shí)部低了近1個(gè)數(shù)量級(jí),說明容抗作用幾乎可以忽略。

圖9 不同溫度下制備的銀包銅粉作為填料時(shí) 導(dǎo)電膠的電化學(xué)阻抗譜圖 Figure 9 Electrochemical impedance spectra for conductive adhesives using Ag-coated Cu particles obtained at different temperatures as filler

2.3.2 剪切強(qiáng)度

電子產(chǎn)品對(duì)剪切強(qiáng)度也有明確要求,例如部分LED封裝要求導(dǎo)電膠的剪切強(qiáng)度大于15 MPa。為進(jìn)一步探索導(dǎo)電膠中填料的含量對(duì)剪切強(qiáng)度的影響,以在40 °C下置換鍍銀約4 h所得的銀包銅粉為導(dǎo)電填料,測(cè)試了其質(zhì)量分?jǐn)?shù)在15% ~ 75%范圍內(nèi)變化時(shí)導(dǎo)電膠的剪切強(qiáng)度,結(jié)果見圖10。隨導(dǎo)電填料質(zhì)量分?jǐn)?shù)增大,導(dǎo)電膠的剪切強(qiáng)度整體呈先增大后減小的變化趨勢(shì),在55% ~ 65%時(shí)剪切強(qiáng)度大于15 MPa,滿足一般電子工業(yè)的要求。

圖10 銀包銅粉質(zhì)量分?jǐn)?shù)不同時(shí)導(dǎo)電膠的剪切強(qiáng)度 Figure 10 Shear strengths of conductive adhesives with different mass fractions Ag-coated Cu particles

3 結(jié)論

(1) 利用置換反應(yīng)在直徑為15 μm的銅粉表面沉積銀,該置換反應(yīng)的活化能為1.9 × 103J/mol。所得銀包銅粉呈銀白色,銀層包覆完整,具有良好的分散性。

(2) 以銀包銅粉作為導(dǎo)電填料制備的導(dǎo)電膠具有良好的導(dǎo)電性、抗氧化性和剪切強(qiáng)度。銀包銅粉質(zhì)量分?jǐn)?shù)為55%時(shí),導(dǎo)電膠的抗氧化性良好;銀包銅粉質(zhì)量分?jǐn)?shù)為55% ~ 65%時(shí),導(dǎo)電膠的剪切強(qiáng)度大于15 MPa,滿足電子工業(yè)的一般要求。

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基于銅粉的室溫氣固反應(yīng)自生長(zhǎng)刺球狀半導(dǎo)體Cu2S納米線陣列
樹枝狀鍍銀銅粉的制備及在導(dǎo)電橡膠中的應(yīng)用
酚醛樹脂/鍍銀碳纖維導(dǎo)熱復(fù)合材料的制備與性能
鍍銀漂洗水零排放工藝探究
河南科技(2014年5期)2014-02-27 14:08:24
關(guān)于納米粉體復(fù)合鍍銀合金在高壓開關(guān)電接觸部位的應(yīng)用
河南科技(2014年4期)2014-02-27 14:07:08
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