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中電科二所研制出山西省首片碳化硅芯片

2022-03-08 18:57
科學導報 2022年12期
關(guān)鍵詞:襯底碳化硅單晶

科學導報訊 記者王小靜 2月28日,記者從中國電子科技集團公司第二研究所獲悉,該所成功研制出山西省首片碳化硅芯片。

據(jù)了解,作為新一代雷達、衛(wèi)星通訊、高壓輸變電、軌道交通、電動汽車、通訊基站等重要領(lǐng)域的核心材料,碳化硅在航天、軍工、核能等極端環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域有著不可替代的優(yōu)勢。因碳化硅具備高禁帶寬度、高熱導率、高擊穿場強、高電子飽和漂移速率等優(yōu)點,更適合開發(fā)具有耐高溫、高功率、高壓、高頻以及抗輻射等優(yōu)勢的功率半導體器件,可有效突破傳統(tǒng)硅基材料的物理極限,已成為我國重點發(fā)展的戰(zhàn)略性先進半導體。

事實上,碳化硅單晶的制備一直是全球性難題,而高穩(wěn)定性的長晶工藝技術(shù)是其核心。如今,這一“心臟技術(shù)”只有少數(shù)發(fā)達國家掌握在手,極少數(shù)企業(yè)能夠?qū)崿F(xiàn)商業(yè)化量產(chǎn)。自2007年,中國電科二所便著手布局碳化硅單晶襯底材料的研制規(guī)劃,依靠自身在電子專用設(shè)備研發(fā)領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢,潛心鉆研著碳化硅單晶生長爐的研制。經(jīng)過多年的不懈努力,全面掌握了高純碳化硅粉料制備工藝、4英寸高純半絕緣碳化硅單晶襯底的制備工藝,形成了從碳化硅粉料制備、晶體生長、晶片加工、外延驗證等整套碳化硅材料研制線,在國內(nèi)最早實現(xiàn)了高純碳化硅材料、高純半絕緣芯片量產(chǎn)。

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