汪前程 黃文濤 李再?gòu)?qiáng) 張偉奇
(深圳市祺鑫天正環(huán)??萍加邢薰?,廣東 深圳 518000)
印制電路板企業(yè)產(chǎn)生大量的高含銅量蝕刻廢液,通過(guò)電解可以高效分離蝕刻廢液中的銅離子,得到可直接回收的高純度電解銅,同時(shí)蝕刻廢液經(jīng)電解后具有蝕刻能力的組分大部分未被破壞,經(jīng)簡(jiǎn)單調(diào)配后可返回至蝕刻線再利用。該工藝實(shí)現(xiàn)了經(jīng)濟(jì)效益的最大化和清潔生產(chǎn),已經(jīng)在線路板生產(chǎn)企業(yè)中大規(guī)模應(yīng)用。
產(chǎn)出單位重量電解銅的電耗,是影響生產(chǎn)成本的決定性因素。本文將對(duì)酸性蝕刻液回收銅的最佳電解條件進(jìn)行分析確認(rèn),并對(duì)電解設(shè)備的優(yōu)化做簡(jiǎn)要的說(shuō)明,從而盡可能的提高電解銅的電流效率、降低電損耗。
整流器:15A 5V;電解槽:長(zhǎng)40 cm,寬12 cm,深12 cm;
循環(huán)泵:流量12 L/min;陽(yáng)極板:10 cm×10 cm鈦板,表面覆蓋二氧化銥涂層;
陰極板:10 cm×10 cm鈦板,無(wú)涂層;分析天平:佑科 精確度0.001 g;
計(jì)時(shí)器:秒表;覆銅板:生益科技板材;氯化銅;氯化銨;鹽酸;蝕刻添加劑。
1.2.1 蝕刻速率的測(cè)定
蝕刻廢液對(duì)銅有較強(qiáng)的蝕刻能力,不能直接電解回收銅,需對(duì)蝕刻廢液進(jìn)行稀釋以得到蝕刻能力較弱的電解液,電解液中銅離子濃度是影響蝕刻能力的主要因素,因此有必要先初步測(cè)定含不同濃度銅離子的電解液的蝕刻速率[1]。
測(cè)定方法:常溫下,以低銅子液([Cu2+]=12 g/L,[Cl-]120 g/L,酸度2 mol/L)按一定比例稀釋蝕刻廢液([Cu2+]=143 g/L,[Cl-]=261 g/L,酸度2 mol/L)得到銅離子濃度為20 g/L、40 g/L、60 g/L、80 g/L、100 g/L的電解液。以50 mm×50 mm的雙面覆銅板在燒杯中進(jìn)行蝕刻速率的測(cè)試。
m1——蝕刻前覆銅板的質(zhì)量(g);
m2——蝕刻后覆銅板的質(zhì)量(g);
ρ——銅的密度8.92 g/cm3
S——覆銅板的單面面積(cm2)
t——蝕刻時(shí)間(min)
1.2.2 電流密度上限的確定
陰極電流密度小,銅層沉積速度慢,甚至不能沉積,但電流密度過(guò)大時(shí),會(huì)形成粗糙、疏松、顏色發(fā)暗的不合格沉積層。
穩(wěn)定電流,以固定面積S的鈦板作為陰極板進(jìn)行電沉積,通過(guò)不斷調(diào)整電流,可以確定獲得合格沉積層的最大電流Imax,則
1.2.3 電流效率的測(cè)定
銅離子在陰極放電析出的同時(shí),已經(jīng)析出的金屬銅層部分會(huì)被電解液反蝕。另外,陰極極化作用強(qiáng)時(shí)還會(huì)發(fā)生一定的析氫副反應(yīng),所以銅實(shí)際沉積的重量小于析出的重量。正常電解時(shí),析氫反應(yīng)可忽略不計(jì)。
將陰極板背向陽(yáng)極的一面粘貼膠布進(jìn)行絕緣,在不同銅離子濃度的電解液中,分別以最大電流密度進(jìn)行電解,測(cè)量陰極板面積以及電解前后的重量,并記錄電流和時(shí)間。電解前后陰極板的重量差 △m即為銅實(shí)際沉積的重量,通過(guò)電流I和時(shí)間t可以計(jì)算出銅的析出的理論重量m,則
M——銅的相對(duì)原子量
e——電子的電荷量,常數(shù)
N——阿伏伽德羅常數(shù)
1.2.4 沉積速率的測(cè)定
利用測(cè)定電流效率的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),可計(jì)算出沉積速率,即單位時(shí)間內(nèi)銅層沉積的厚度。
ρ——金屬銅的密度
S——陰極板的面積
1.2.5 電解液流速、溫度對(duì)電沉積的影響
將蝕刻廢液銅離子濃度調(diào)整為40 g/L,其它條件相同的情況下,通過(guò)改變電解液循環(huán)流動(dòng)的速度或者溫度,分別對(duì)比陰極電流效率。
隨著銅離子濃度的升高,蝕刻液蝕刻速率如圖1中所示。
圖1 銅離子濃度對(duì)蝕刻速率的影響
從圖1中可以隨著銅離子濃度的上升,蝕刻液的蝕刻速率呈上升趨勢(shì),而通過(guò)理論計(jì)算可知,陰極電流密度為10 A/dm2,假設(shè)電流效率100%,銅層的析出速度也僅為2.2 μm/min,遠(yuǎn)小于電解液的蝕刻速度,因此銅離子濃度越低越有利于陰極銅的析出。從實(shí)際的電解實(shí)驗(yàn)來(lái)看,當(dāng)蝕刻液銅離子濃度為20 g/L,電流密度為3 A/dm2時(shí),陰極可以得到合格的銅層,說(shuō)明電解過(guò)程中蝕刻速率會(huì)受到抑制。如果銅離子濃度過(guò)高,電解時(shí)陰極板可能沒(méi)有銅層沉積,或者沉積速率慢,嚴(yán)重降低電流效率,因此需要嚴(yán)格控制電解液中銅離子濃度。
從表1可以看到,其它條件不變時(shí),電解液銅離子濃度越高,電流密度上限越高。正常電解過(guò)程中,陰極的析氫副反應(yīng)可以忽略不計(jì),當(dāng)銅離子濃度一定時(shí),電流密度越大,電流效率越高。所以后面對(duì)于不同銅離子濃度的電解液,都是在相應(yīng)的最大電流密度下進(jìn)行電流效率和沉積速率的測(cè)試。
表1 不同銅離子濃度下最大電流密度
從表2及圖2中可以看到,以相應(yīng)的最大電流密度進(jìn)行電解,銅離子濃度越高,則電流效率越低,銅沉積速率越快。也就是說(shuō),對(duì)于實(shí)際生產(chǎn)中,其它電解條件不變,只通過(guò)調(diào)整銅離子濃度及電流密度,噸銅電耗更低和出銅速度更快,不能同時(shí)滿足。
陰極銅的析出速率和電量成正比,假設(shè)比例系數(shù)為常數(shù)a,則噸銅電耗可表示如下:
U——槽電壓
I——電流
η——電流效率
由于電解系統(tǒng)不是一個(gè)純電阻電路,電流大小和槽電壓大小并不是成線性關(guān)系。槽電壓可以表示為:
U=E理+E液+E接+△E超;
陽(yáng)極析氯陰極析銅,理論電壓E理=φ陽(yáng)-φ陰,為定值;
E液表示槽液的電壓降,與電流密度成正比;
E接表示導(dǎo)線接觸電位、極板電阻等,與電流密度成正比;
表2 電流密度對(duì)電流效率、沉積速度的影響
圖2 電流密度上限對(duì)電流效率和沉積速率的影響
△E超表示極化超電壓。
根據(jù)Tafel公式表示如式(1)。
可知,超電壓與電流密度的對(duì)數(shù)呈線性關(guān)系,也就是說(shuō),當(dāng)電流密度變化時(shí),超電壓的變化幅度很小。
酸性蝕刻電解液含有高濃度的Cl-、H+、NH4+、Cu2+等,導(dǎo)電性很好,保證導(dǎo)線、極板導(dǎo)電良好的情況下,提高電流密度,會(huì)明顯提高陰極銅沉積電流效率η,但槽電壓U只會(huì)小幅度上升。所以,以電流密度上限進(jìn)行電解,會(huì)使噸銅的電耗降到最低。
另一方面,銅離子濃度決定電流密度上限和電流效率。銅離子濃度低,電流效率高但沉積速度慢;銅離子濃度高,電流效率低但沉積速度快,所以需要把銅離子控制在一個(gè)合理范圍,實(shí)現(xiàn)電流效率和沉積速度的平衡。
陰極銅的析出速率僅取決于電流密度,不受電解液流速和溫度的影響。
反蝕過(guò)程可簡(jiǎn)單描述為兩個(gè)步驟:①Cu→Cu+;②Cu+→Cu2+,溫度升高,兩個(gè)步驟的反應(yīng)都會(huì)加快。
步驟①Cu→Cu+在溶液和陰極界面進(jìn)行,當(dāng)流速加快時(shí),減弱了Cu+在界面的富集,減弱了濃差極化作用,促進(jìn)反應(yīng)右移,從而使反蝕速率加快。所以,當(dāng)溫度升高或者電解液流速加快,都會(huì)加速已析出的銅層反蝕,最終降低了電解銅的沉積速度(見(jiàn)表3所示)。
表3 電解液流速、溫度對(duì)電流效率影響
(1)當(dāng)銅離子濃度一定時(shí),用最大電流密度進(jìn)行電解,電流效率最高,噸銅電耗最低;
(2)實(shí)際生產(chǎn)中,銅離子濃度過(guò)高,會(huì)使電流效率降低導(dǎo)致噸銅電耗偏高;銅離子濃度過(guò)低,則電流密度上限低,出銅速率慢。銅離子濃度控制在40~50 g/L,并用6~7.5 A/dm2的電流密度電解,出銅速度快且噸銅電耗較低;
(3)在控制好銅離子濃度和電流密度的同時(shí),盡量降低電解液溫度、減緩電解液循環(huán)流速,可以抑制電解液對(duì)金屬銅的反蝕,從而提高陰極電流效率和的銅的沉積速率。