戴利華 尋瑞平 戴 勇 張華勇
(江門(mén)崇達(dá)電路技術(shù)有限公司,廣東省智能工控印制電路板工程技術(shù)研究中心,廣東 江門(mén) 529000)
印制電路板(PCB)行業(yè)是電子信息產(chǎn)品制造的基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè),也是全球電子元件細(xì)分產(chǎn)業(yè)中產(chǎn)值最大的產(chǎn)業(yè)。PCB應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,小到手機(jī)、家電,大到航天、深??碧降却笮驮O(shè)備,只要存在電子元器件,它們之間的支撐、互聯(lián)就要用到PCB。據(jù)Strategy Analytics于2020年3月2日發(fā)布全球智能手機(jī)出貨量預(yù)測(cè)報(bào)告顯示,由于新冠肺炎導(dǎo)致購(gòu)物者擱置其消費(fèi)計(jì)劃,該季度對(duì)智能手機(jī)的需求猛跌,這是智能手機(jī)行業(yè)有史以來(lái)最差的季度表現(xiàn)。令人欣慰的是,2020年第一季度全球5G智能手機(jī)出貨量增至2410萬(wàn)部,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)2019年全年的1870萬(wàn)部,5G智能手機(jī)市場(chǎng)已經(jīng)顯示了強(qiáng)勁的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),5G手機(jī)換機(jī)潮將勢(shì)不可擋地到來(lái)。
可見(jiàn),PCB企業(yè)即時(shí)錯(cuò)過(guò)了十年前4G智能手機(jī)的黃金潮流,在如今5G手機(jī)換機(jī)來(lái)臨之際,布局手機(jī)類HDI(高密度互連)板仍然大有可為。本研究選取一款用于智能手機(jī)的HDI板產(chǎn)品,就其制作流程以及關(guān)鍵管控做了詳細(xì)闡述,希望能夠?yàn)闃I(yè)界同行提供一定的參考。
本研究產(chǎn)品案例為一款用于智能手機(jī)的8層2+4+2HDI板,其產(chǎn)品關(guān)鍵指標(biāo)參數(shù)見(jiàn)表1,壓合結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖1,成品外觀見(jiàn)圖2。
本2+4+2 HDI板產(chǎn)品,需要經(jīng)過(guò)3次壓合,第一次將L3-L6進(jìn)行壓合,然后鉆通孔,通過(guò)沉銅、板電使其形成電氣導(dǎo)通。第二次是將前面壓合的L3-L6子板與銅箔壓合,經(jīng)激光鉆孔、填孔電鍍形成高密度互連,經(jīng)微蝕減銅、內(nèi)層圖形形成L2-L8子板;最后再將L2-L8子板與銅箔壓合,得到完整的PCB板。具體流程如下。
表1 產(chǎn)品關(guān)鍵指標(biāo)參數(shù)
圖1 產(chǎn)品壓合結(jié)構(gòu)圖
圖2 產(chǎn)品成品外觀
(1)L3-L6層的生產(chǎn)流程:開(kāi)料→內(nèi)層圖形→內(nèi)層蝕刻→內(nèi)層AOI→棕化→壓合1→內(nèi)層鉆孔→內(nèi)層沉銅→內(nèi)層板電→內(nèi)層圖形2→內(nèi)層AOI2→棕化2
(2)L2-7層的生產(chǎn)流程:壓合2→內(nèi)層鉆靶位孔→LDD棕化→激光鉆孔→內(nèi)層沉銅2→填孔電鍍→微蝕減銅→內(nèi)層圖形3→內(nèi)層真空蝕刻→內(nèi)層AOI3→棕化3
(3)L1-L8層的生產(chǎn)流程:壓合3→鉆靶位孔→LDD(激光直接成孔)棕化2→激光鉆孔2→外層鉆孔→退棕化→外層沉銅→整板填孔電鍍→外層圖形→外層真空蝕刻→阻抗測(cè)試→外層AOI→阻焊塞孔→絲印阻焊/字符→絲印選化金油墨→沉鎳金→退膜→成型→回流焊→測(cè)試→FQC1→抗氧化→FQC2→FQA→包裝
產(chǎn)品主要特點(diǎn)是銅厚薄、線路精細(xì),整體制作難點(diǎn)如表2所示。
表3所示為產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)產(chǎn)品阻抗線寬和阻抗值的測(cè)量結(jié)果。結(jié)果顯示各層阻抗線寬都控制在設(shè)定范圍內(nèi),沒(méi)有出現(xiàn)超差現(xiàn)象;阻抗值都控制在±10%的設(shè)定范圍內(nèi),表現(xiàn)合格。
產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中使用CMI銅厚測(cè)量?jī)x采用均勻9點(diǎn)法對(duì)各層銅厚進(jìn)行測(cè)量分析,測(cè)試板數(shù)量為4塊,評(píng)估電鍍面均勻性,銅厚測(cè)量位置示意圖如圖3,測(cè)量結(jié)果如圖4。結(jié)果顯示銅厚整體測(cè)量結(jié)果均在設(shè)定范圍之內(nèi),測(cè)試結(jié)果為可接受,出現(xiàn)一個(gè)位置R值有超限現(xiàn)象。
對(duì)鉆孔面板和底板進(jìn)行孔位精度Cpk分析,按照公差±50 μm計(jì)算Cpk值,測(cè)試結(jié)果見(jiàn)圖5和表4。面板取最小孔徑0.2 mm,鉆孔數(shù)量145692,計(jì)算Cpk值為3.568,底板取最小孔徑0.2 mm,鉆孔數(shù)量145693,計(jì)算Cpk值為2.375,均滿足>1.33的標(biāo)準(zhǔn),鉆孔精度合格。
成品板打切片進(jìn)行回流焊和熱應(yīng)力測(cè)試,檢驗(yàn)產(chǎn)品的可靠性,測(cè)試條件及結(jié)果(見(jiàn)圖6所示)。測(cè)試結(jié)果顯示,所有切片均未出現(xiàn)分層、爆板、白斑、起泡、變色等不良現(xiàn)象,可靠性測(cè)試合格。
表2 產(chǎn)品制作難點(diǎn)
表3 產(chǎn)品阻抗線寬和阻抗值測(cè)量結(jié)果
圖3 銅厚測(cè)量位置示意圖
本款手機(jī)HDI板經(jīng)打樣試板合格后轉(zhuǎn)批量生產(chǎn),目前已投產(chǎn)4批,入庫(kù)合格率分別為80.73%、89.16%、75.48%、95.69%,批次與批次之間良率波動(dòng)較大,生產(chǎn)不穩(wěn)定;對(duì)入庫(kù)批次不良率進(jìn)行分析統(tǒng)計(jì)。前4項(xiàng)不良為:外層開(kāi)路、蝕刻不凈、內(nèi)短、殘銅,前4項(xiàng)不良占整體不良為47.75%,為重點(diǎn)品質(zhì)改善項(xiàng)目,據(jù)此作出的應(yīng)對(duì)改善措施見(jiàn)圖7所示。
圖4 銅厚測(cè)量結(jié)果
圖5 鉆孔靶位圖(A:鉆孔面部;B:鉆孔底板)
(1)從本款2+4+2HDI板打樣試板結(jié)果來(lái)看,制定的管控計(jì)劃基本合理,產(chǎn)品各項(xiàng)方法檢測(cè)正常;(2)從跟進(jìn)批量生產(chǎn)來(lái)看,批次與批次之間良率波動(dòng)較大,生產(chǎn)不夠穩(wěn)定,需根據(jù)不良分析統(tǒng)計(jì)結(jié)果,確定重點(diǎn)品質(zhì)改善項(xiàng)目,據(jù)此作出改善措施并嚴(yán)格跟進(jìn);(3)在5G手機(jī)換機(jī)潮來(lái)臨之際,PCB企業(yè)布局手機(jī)HDI板大有可為。
表4 鉆孔精度Cpk計(jì)算結(jié)果
圖6 產(chǎn)品可靠性測(cè)試結(jié)果
圖7 產(chǎn)品可靠性測(cè)試結(jié)果