文 邵學(xué)軍

一、古人制作牌匾的局限性

1.古人沒(méi)有X 光學(xué)儀器，無(wú)法了解人體“眼球結(jié)構(gòu)”，無(wú)法證明所看到物體的正確直視點(diǎn)、最佳焦點(diǎn)范圍度和“余光”的最大限度。

2.古人沒(méi)有照相機(jī)，不知道照片中的物體會(huì)有空間立體感。所以，在繪畫(huà)中，無(wú)法將平面紙張上的物體“立體”起來(lái)。同樣，古人在牌匾雕刻中，對(duì)雕刻的深度、角度“不得法”，完全憑師傅個(gè)人感覺(jué)進(jìn)行，造成雕刻出來(lái)的字“死板、扁平”，視覺(jué)效果差。（見(jiàn)圖1、圖2、圖3）

3.古人對(duì)“雕刻角度”認(rèn)識(shí)水平普遍偏低，肉眼“看不出問(wèn)題來(lái)”。而當(dāng)代雕刻者，有繪畫(huà)基礎(chǔ)，嚴(yán)格訓(xùn)練過(guò)繪畫(huà)當(dāng)中的“一點(diǎn)透視”法，知道物體的透視、比例、結(jié)構(gòu)以及體積感、重量感、空間立體感。我們用現(xiàn)代科學(xué)知識(shí)掌握的技能，面對(duì)古人平視的“散點(diǎn)透視”雕刻法，自然得心應(yīng)手。牌匾不僅要從正面看，還要從左、右、上、下、中五個(gè)方向看，不僅是看到字本身，還要能感受到“活靈活現(xiàn)”的動(dòng)感。

二、牌匾雕刻時(shí)“陽(yáng)刻”與“陰刻”

雕刻時(shí)，對(duì)于牌匾陽(yáng)刻的“凸鼓”，究竟凸多少才算凸呢？對(duì)于陰刻，究竟凹進(jìn)去多少才對(duì)呢？筆者反復(fù)試驗(yàn)了十幾年，不斷改進(jìn)刀法，終于獲得訣竅：人體120°視覺(jué) “立體雕刻法”。

透視學(xué)所講的“平行透視，成角透視”，科學(xué)地告訴我們“一點(diǎn)透視法”①“一點(diǎn)透視法”，就如相機(jī)鏡頭里看到的物體“近大遠(yuǎn)小”。而“散點(diǎn)透視”則是古人在國(guó)畫(huà)中，想在哪里作為視點(diǎn)就在哪里畫(huà)一座山幾座房子，完全是按心理需求隨意發(fā)揮，根本無(wú)透視關(guān)系，而古人雕刻時(shí)也如此操作。在視平線上的視點(diǎn)、消失點(diǎn)，同時(shí)也告訴我們?nèi)说囊曇胺秶?0°～120°為最佳。

根據(jù)這個(gè)原理，得出牌匾雕刻角度的要素：

1.雕刻字的筆畫(huà)，視野角度大于120°，就屬于人眼視野余光范圍，在這個(gè)角度雕刻的字，視覺(jué)效果就“扁平”不立體，因此決不能超過(guò)這個(gè)范圍。

2.視野角度小于110°的字就“瘦窄”，而小于100°，視覺(jué)上就更瘦小。古人刻牌匾時(shí)即會(huì)有這樣的誤差：不是大于120°，就是小于100°。

圖1 視線與成像角度范圍

圖2 人視野角度范圍

圖3 最佳視野角度與余光范圍

三、從業(yè)中的突破與發(fā)現(xiàn)

筆者在實(shí)際操作中發(fā)現(xiàn)其中奧秘，又反復(fù)實(shí)踐，得出最終結(jié)論：

1.“凹型”字雕刻角度，必須控制在110°～120°之間。再依據(jù)書(shū)法字的筆畫(huà)輕重，寬窄肥瘦，在“一點(diǎn)透視法”的角度范圍內(nèi)靈活調(diào)整，深度隨著起伏變化而變化，將二維平面創(chuàng)作為有深度空間的三維立體感。

牌匾懸掛起來(lái)時(shí)，字形處處清晰，字的各個(gè)受光面充分均勻，讓人在不同角度看起來(lái)，都有呼之欲出的強(qiáng)烈立體感。

這一重大突破，糾正了古人“散點(diǎn)平視”雕刻缺陷，填補(bǔ)了千百年牌匾史空白。（見(jiàn)圖4）

2.“半球形凸鼓”字。由于它是沿著字的輪廓線，一邊向下刻，一邊逐漸將字“留”出筆畫(huà)的凸鼓形，在左右上下觀看字時(shí)，木板表面輪廓就遮擋了一側(cè)部分筆畫(huà)，甚至另一側(cè)半邊看不到，造成筆畫(huà)“瘦細(xì)”，好像字被縮水的感覺(jué)。

因此，在字本身的輪廓線之外，還要根據(jù)字大小，向外擴(kuò)一條附加輪廓線，也就是另外增加一個(gè)斜角，這個(gè)斜角，就是保證左右看時(shí)，必須一眼看到字底本身輪廓線。換句話，就是筆畫(huà)凸鼓處，與附加輪廓線要形成一個(gè)夾角。

古人的夾角太大了，再加上筆畫(huà)最高處，基本是木板本身的平面，因而顯得非常死板。而筆者將夾角嚴(yán)格控制在120°以?xún)?nèi)，同時(shí)，筆畫(huà)的弧線與半球形吻合，最高處是飽滿的“滿弓”半球形。（見(jiàn)圖5）

這個(gè)半球形，不是圓規(guī)劃出的，也不是尖三角，而是類(lèi)似于射箭的“滿弓”。這個(gè)飽滿度，正是多年反復(fù)試驗(yàn)出來(lái)的“120°弧線合體”。當(dāng)牌匾懸掛起來(lái)觀看時(shí)，立刻出現(xiàn)了“活靈活現(xiàn)”的感覺(jué)。

牌匾雕刻看似簡(jiǎn)單，卻蘊(yùn)含了歷史文化和歷代匠人的心血。在科技飛速發(fā)展的當(dāng)代，我們理應(yīng)運(yùn)用科學(xué)，使這項(xiàng)古老技藝發(fā)揚(yáng)光大，科學(xué)傳承。

圖4

圖5

圖7 陰刻

陰刻字，字形絲毫不走樣，又由于字里的凹面完全能看到，各個(gè)反光面交相輝映，在近處看是凹的，越遠(yuǎn)看越凸鼓，使人產(chǎn)生撲朔迷離的陰陽(yáng)交錯(cuò)感。