李新華,岳志勁,李衛(wèi)華,劉永文*
(山西大同大學化學與環(huán)境工程學院,山西大同037009)
1984年R.W.Murray[1]首次提出了化學修飾電極這個概念?;瘜W修飾電極是為了在電極表面形成指定作用膜[2],用化學或物理修飾使電極具有一些指定的性質[3],更高選擇性地完成實驗[4]。化學修飾電極是一種比較理想的定量分析體系,較普通電極有許多優(yōu)點,比如良好的化學穩(wěn)定性,試劑用量少,制備簡潔等。具體來講就是把分離、富集和測定集于一體。這使得化學修飾電極成為電分析化學研究的一個熱點專題??梢杂秒娀瘜W聚合法[5]、吸附法[6]、共價鍵鍵合法[7]、電化學沉積法[8]等方法制作化學修飾電極。電化學沉積法是最常用到的方法之一。常見的電化學沉積法制成的修飾電極有汞膜電極[9]、鉍膜電極[10-12]、銻膜電極[13]。但是汞是重金屬,汞膜有毒性,鉍膜也有較小的毒性,對環(huán)境會造成危害。錫膜電極類似于鉍膜電極,能對一些金屬具有明顯催化作用。同時Sn材料比Bi材料更便宜,更環(huán)保。因此,采用錫作為電極修飾材料測定胃鉍治藥品中Bi(III)的含量,回收率達到98.48%,得到滿意結果,說明該方法可用于藥物中Bi(III)含量的測定。
CHI660E電化學工作站(上海辰華儀器有限公司),CLJ2000磁力攪拌器(天津市蘭力科化學電子高科技有限公司),F(xiàn)A22048電子天平(上海精科天美科學儀器有限公司),PHS-3C型精密酸度計(上海大普儀器有限公司),KQ5200DE型數(shù)控超聲波清洗器(昆山市超聲儀器有限公司);以玻碳電極為工作電極,鉑電極為輔助電極,飽和甘汞電極為參比電極的三電極系統(tǒng)。
1.0×1 0-2mol/L Bi3+標準溶液:準確稱取0.490 0 g Bi(NO3)3,置于50 mL燒杯中,加入6.0 mol/L HNO3溶液50 mL進行溶解。完全溶解后轉移至100 mL容量瓶中,繼續(xù)用6.0 mol/L HNO3定容至刻度線;6.0 mol/L HNO3溶液,0.50 mol/L H2SO4溶液,1.0 mol/L HC1溶液;1.0×10-2mol/L SnCl2溶液:稱取0.230 2 g SnC12,置于50 mL燒杯中,加入1.0 mol/L HCl溶液50 mL進行溶解。完全溶解后轉移至100 mL容量瓶中,繼續(xù)用1.0 mol/L HCl定容至刻度線;所用試劑均為分析純;所用水均為去離子水。
脈沖振幅0.040 V,脈沖寬度0.050 s,脈沖周期0.20 s,電位增量0.007 0 V,富集電位為-0.90 V,富集150 s,初始電位-0.80 V,終止電位0.20 V。
在10 mL比色管中依次加入1.0 mL 1.0×10-3mol/L的Sn2+溶液,1.0 mL Bi3+的待測液,用0.10 mol/L H2SO4加至刻度,然后轉移至10 mL小燒杯中。將玻碳電極、鉑電極和飽和甘汞電極插入在溶液中,調(diào)節(jié)富集電位為-0.90 V,富集150 s,停止攪拌,靜止10 s,記錄0.20~-0.80 V的溶出伏安曲線。為了除去電極上殘余的物質,在每一次測定結束后,電極在0.30 V攪拌清洗2 min。
在麂皮上用0.05 μm Al2O3粉打磨玻碳電極后,然后超聲清洗6 min,前3 min利用無水乙醇,后3 min利用水,用水沖洗后,將電極擦干待用。將三電極系統(tǒng)放入1.0×10-3mol/L K3Fe(CN)6和1.0 mol/L KCl的混合溶液中,在0.45~-0.05 V電位下進行循環(huán)掃描,掃描速度為50 mV/s,掃描20次。當出現(xiàn)的氧化峰與還原峰峰形對稱并且電位差小于80 mV時,則說明電極已處理好可進行修飾,并且進行實驗,循環(huán)伏安掃描圖見圖1。
圖1 玻碳電極在1.0×10-3mol/LK3Fe(CN)6溶液中的循環(huán)伏安圖
制備錫膜電極有預鍍錫膜法和同位鍍錫膜法,本實驗采用同位鍍錫膜法[3]。
將裸玻碳電極、錫膜修飾電極在同一溶液中按實驗方法的步驟分別進行實驗。結果表明,錫膜修飾電極的峰電流比裸玻碳電極的峰電流值大。因此本實驗選擇錫膜修飾電極作為工作電極。見圖2。
圖2 在1.0× 10-3mol/L Bi3+和0.10 mol/L H2SO4中的DPASV圖
控制其它實驗條件,改變底液的種類,分別試驗了0.50 mol/L H2SO4溶液,1.0 mol/L HC1溶液,pH 2.2檸檬酸-磷酸氫二鈉緩沖溶液,pH 4.0醋酸-醋酸鈉緩沖溶液。結果表明:當?shù)滓簽?.50 mol/L H2SO4溶液時,Bi3+溶出峰電流最大,峰形最好。所以本實驗選擇0.50 mol/L H2SO4溶液作為底液(見圖3)。進一步試驗了H2SO4濃度對峰電流的影響,結果表明,0.10 mol/L H2SO4溶液作底液時效果最好。
圖3 不同底液下Bi3+的DPASV圖
在其它實驗條件不變的情況下,進行不同富集電位和時間的測試。結果表明:在富集電位為-0.90 V,富集150 s時,溶出峰電流最大且峰形較好。所以本實驗以此作為富集電位、富集時間的最佳條件。
改變不同的靜止時間,Bi3+溶出伏安曲線見圖4。當靜止時間為10 s時,溶出峰電流最大,所以選擇10 s作為靜止時間的最優(yōu)選擇。見圖4。
圖4 不同靜止時間下Bi3+的DPASV圖
固定Bi3+濃度和其他條件不變,改變Sn2+的濃度。結果顯示,當Sn2+濃度為1.0×10-3mol/L時,Bi3+的溶出峰最大。當Sn2+濃度大于1.0×10-3mol/L時,鍍膜太厚,使Bi3+的溶出峰減?。划擲n2+濃度小于1.0×10-3mol/L時對Bi3+的增敏作用小,使Bi3+的溶出峰也減小。
試驗了一些常見離子如Ca2+、Zn2+、Na+、Mg2+、Fe3+等對Bi3+溶出峰電流的影響情況。加入干擾離子后,Bi3+的溶出峰電流值改變小于±10%,就認為該離子對Bi3+無干擾。結果表明,在儀器參數(shù)和試劑濃度最佳的條件下,1 000倍的陽離子如Ca2+、Fe3+、Na+,100倍的陽離子如Pb2+、Ni2+均對Bi3+的測定無干擾。
移取濃度分別為1.0×10-5、2.0×10-5、3.0×10-5、4.0 × 10-5、5.0 × 10-5、6.0 × 10-5、7.0 × 10-5、8.0 × 10-5、9.0×10-5mol/L的Bi3+標準溶液1.0 mL,按照實驗方法進行實驗。在以上最佳實驗條件下發(fā)現(xiàn)Bi3+的濃度在1.0×10-6~9.0×10-6mol/L范圍內(nèi)與峰電流成線性關系,其線性方程為Ip=0.496 3c+0.959,相關系數(shù)為0.997 1。見圖5。
圖5 峰電流與濃度的關系
1)檢出限的測定:保持其他條件不變,逐漸減小混合溶液中Bi3+的濃度,直至無法檢測到Bi3+的溶出峰電流,則此時混合溶液中Bi3+的濃度為檢出限。實驗結果表明,方法的檢出限為1.0×10-10mol/L。
2)重現(xiàn)性的測定:使用同一電極依據(jù)實驗方法對1.0× 10-3mol/L Bi3+、1.0× 10-3mol/L Sn2+和0.10 mol/L的H2SO4溶液的混合溶液進行15次平行測定,得峰電流相對標準偏差為3.28%,說明電極系統(tǒng)穩(wěn)定,滿足測定要求。
2.11.1 樣品溶液的配制
取含Bi(III)的藥片胃必治1片于50 mL燒杯中,加入20 mL 1∶1的HNO3溶解后,過濾至250 mL的容量瓶中,用水定容,取其中1.0 mL置于250 mL容量瓶中,加入12.5 mL 2.0 mol/L HNO3,用水稀釋至刻度配成Bi3+的待測液。
2.11.2 樣品測定
在實驗條件最佳的情況下,移取0.50 mL上述稀釋溶液,按照實驗方法,進行樣品測定,結果見表1(n=5)。
表1 樣品測定結果
由實驗測得的結果可算出每片胃鉍治含Bi(AlO2)3的量為195.7mg。
在上述溶液中,分別加入0.10 mL、0.20 mL、0.30 mL、0.35 mL Bi3+的標準溶液,按實驗方法測定其中Bi(III)的含量,計算回收率,結果見表2(n=4)。由表2可見,4個加標量回收率平均值為98.48%,相對標準偏差R為1.05%,說明方法準確可靠。
表2 加標回收率的測定結果
本實驗采用錫離子作為修飾材料,利用DPASV法測定胃鉍治中Bi(III)的含量。結果表明錫膜修飾電極具有很好的重現(xiàn)性和靈敏度,對胃鉍治中Bi(III)有較好的電化學響應。本方法用于藥物中Bi(III)含量的測定,結果滿意。