張 良,曾 強,潘小強,李圓圓
(中國核動力研究設(shè)計院,成都610213)
核熱推進(jìn)系統(tǒng)具有功率高、比沖大、壽命長等特點,是未來深空活動的理想推進(jìn)技術(shù),其原理是利用核反應(yīng)堆的裂變熱能將工質(zhì)加熱到很高的溫度,而后使高溫高壓工質(zhì)經(jīng)噴管排出,從而產(chǎn)生推進(jìn)動力[1]。
Ludewig等[2]提出的由球形燃料顆粒構(gòu)成的固相反應(yīng)堆推進(jìn)系統(tǒng)堆芯中,球形燃料顆粒被限定在內(nèi)外層多孔壁面結(jié)構(gòu)的堆芯內(nèi),推進(jìn)劑徑向穿過外層多孔壁面,與燃料顆粒直接接觸,然后穿過內(nèi)側(cè)層多孔壁面,從噴嘴排出,從而產(chǎn)生推力。目前,國內(nèi)生產(chǎn)的用于高溫氣冷堆的3層結(jié)構(gòu)各向同性(Tristructural Isotropic,TRISO)核燃料與部分核熱推進(jìn)系統(tǒng)堆芯的燃料具有一定的相似性。TRISO型燃料顆粒為帶有3個包覆層的球形鈾燃料顆粒。在鈾燃料外表從內(nèi)至外的3個包覆層分別是碳涂層、碳化硅涂層和碳?xì)ぁ_@實際上給每個極小顆粒設(shè)置了一個單獨的“安全殼”系統(tǒng)[3]。研究發(fā)現(xiàn)[4-5]:高溫時,推進(jìn)劑中氫的擴(kuò)散及與裸露核燃料反應(yīng)會使燃料顯微結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成發(fā)生變化,而SiC層可阻止氫與燃料的直接反應(yīng)以及裂變產(chǎn)物的釋放,故保證SiC層在高溫下的完整性,對于核熱推進(jìn)系統(tǒng)的安全性具有重要意義。同時,核熱推進(jìn)系統(tǒng)的比沖與推力室工質(zhì)溫度的平方根成正比[6],故核燃料的耐高溫性能直接決定了核熱推進(jìn)系統(tǒng)的比沖大小。因此,研究包覆燃料顆粒的耐高溫性能,對于核熱推進(jìn)技術(shù)的應(yīng)用具有重要的現(xiàn)實意義。
目前,有關(guān)包覆燃料顆粒高溫特性的公開報道較少,且主要以商用高溫氣冷堆為應(yīng)用背景。10 MW高溫氣冷堆運行溫度低于核熱推進(jìn)系統(tǒng)運行溫度,高溫氣冷堆正常運行時包覆燃料顆粒溫度不超過1000℃;事故狀況下,包覆燃料顆粒溫度不超過1600℃[7]。張永棟等[8]研究球形燃料元件溫度分布對包覆燃料顆粒失效概率的影響,其試驗溫度峰值為1200℃。DeMange等[9]研究TRISO燃料元件熱機(jī)械性能,其試驗溫度峰值僅為1050℃。Liu等[10]研究TRISO型包覆燃料顆粒SiC涂層高溫氧化性時,其試驗溫度峰值也未超過1600℃。
上述試驗溫度范圍內(nèi)的高溫特性并不能反映包覆燃料顆粒在核熱推進(jìn)系統(tǒng)中的高溫行為,本文針對目前試驗溫度不超過1600℃的現(xiàn)狀,以電火花燒結(jié)模擬核熱推進(jìn)系統(tǒng)中快速升溫的特點,研究包覆燃料顆粒在1600℃以上的耐高溫性能,為核熱推進(jìn)系統(tǒng)及包覆燃料顆粒的設(shè)計提供試驗數(shù)據(jù)。
TRISO型包覆燃料顆粒的包覆層從內(nèi)向外分4層:第1層是密度小于1.1 g/cm3的疏松熱解碳層,主要作用是儲存氣態(tài)裂變產(chǎn)物,吸收輻照引起的核芯腫脹,緩沖輻照以及溫度變化引起的應(yīng)力,防止裂變反沖對致密熱解碳層的損傷;第2層為密度約1.9 g/cm3的內(nèi)致密熱解碳層,主要作用為防止在包覆SiC層時產(chǎn)生的HCl和UO2核芯反應(yīng),并能在反應(yīng)堆運行時延緩金屬裂變產(chǎn)物Pb對SiC層的侵蝕;第3層是SiC層,具有強度高、彈性模量大、耐腐蝕等特點,是承受包覆燃料顆粒內(nèi)壓以及阻擋裂變產(chǎn)物釋放的關(guān)鍵層;最外面一層是外致密熱解碳層,密度也約為1.9 g/cm3,它是阻擋裂變產(chǎn)物釋放的又一道屏障,并且能夠保護(hù)SiC層免受機(jī)械損傷[3]。
本試驗中,出于輻射安全考慮,采用物理性質(zhì)相近的ZrO2陶瓷材料模擬包覆燃料顆粒的UO2核芯[11]。ZrO2顆粒外分別涂覆疏松熱解碳層、致密熱解碳層及SiC層,其結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。其中疏松熱解碳層由C2H2在1350℃~1400℃熱解后沉積在ZrO2顆粒表面形成,然后在1280℃~1310℃時通入C3H6+C2H2形成致密熱解碳層,最后通入三氯甲基硅烷(CH3SiCl3)和氫氣(H2)在1560℃~1580℃下反應(yīng),形成SiC層。
圖1 包覆顆粒結(jié)構(gòu)示意圖Fig.1 Schematic diagram of the TRISO-coated particle
SiC在2100℃以上將發(fā)生熱分解[12-13],故本試驗中,選取300顆包覆顆粒,并隨機(jī)分為6組,于電火花燒結(jié)爐開展包覆顆粒耐高溫性能研究,爐內(nèi)充氬氣,分別于 1800 K、1900 K、2000 K、2100 K、2200 K、2300 K下進(jìn)行不少于600 s的高溫處理,然后隨爐冷卻。采用Stemi 2000型體視顯微鏡觀察樣品外觀形貌。從每組樣品中各取10顆完好顆粒,在WDW-100C型微機(jī)控制萬能試驗機(jī)上進(jìn)行壓碎強度測試,記錄顆粒包覆層的破碎載荷,并結(jié)合SPSS 21.0軟件對其進(jìn)行統(tǒng)計學(xué)分析。最后,采用FEI NOVA Nano SEM 400場發(fā)射掃描電子顯微鏡對SiC層表面及斷面進(jìn)行顯微結(jié)構(gòu)分析。核表面光亮,而部分未開裂的顆粒表面也出現(xiàn)了明顯裂紋。隨著溫度的升高,包覆顆粒破損率增大,2000 K時,顆粒破損率為6%,而2200 K時,顆粒破損率已高達(dá)70%。
對不同溫度處理下的樣品破損情況進(jìn)行統(tǒng)計,結(jié)果見表1。同時,采用體視顯微鏡對6組樣品進(jìn)行表面形貌觀察,結(jié)果如圖2所示。由表1及圖2可知,經(jīng)過1800 K、1900 K高溫處理后,樣品中顆粒包覆層外觀完好,未出現(xiàn)明顯開裂或剝落現(xiàn)象;而當(dāng)處理溫度達(dá)到2000 K時,樣品顆粒開始出現(xiàn)包覆層開裂脫落現(xiàn)象,脫落后的顆粒芯
表1 樣品破損情況統(tǒng)計Table 1 Summary of sample damages
圖2 高溫處理后樣品外觀形貌Fig.2 The appearance of particles after high temperature processing
對高溫處理后的完好顆粒開展壓碎強度測試,SiC層破碎時的載荷即為包覆顆粒的壓碎強度。經(jīng)過2300 K高溫處理后,包覆顆粒破損嚴(yán)重,故未對其開展壓碎強度測試。不同處理溫度下,樣品壓碎強度如圖3所示。當(dāng)試驗溫度不超過2000 K時,顆粒壓碎強度變化不明顯,且其均值均大于3000 N;而當(dāng)試驗溫度高于2000 K時,壓碎強度隨溫度的升高而急劇降低,當(dāng)超過2200 K試驗后,顆粒平均壓碎強度為1758.2 N,僅為高溫處理前的1/2。
圖3 不同處理溫度下樣品壓碎強度Fig.3 The crushing strength of particles under various processing temperatures
采用SEM對包覆顆粒SiC層表面顯微組織進(jìn)行觀察,如圖4所示,試驗溫度不高于2000 K時,與未處理樣品相比,SiC層表面形貌沒有明顯變化,晶粒部分團(tuán)聚呈現(xiàn)出“鱗片狀”形態(tài);而當(dāng)溫度超過2000 K,晶粒逐漸呈現(xiàn)出清晰的晶界,至2300 K時,已經(jīng)可以明顯地觀察到單個晶粒的形態(tài)。
將試驗樣品中完好顆粒的包覆層破碎,對包覆層中SiC斷面進(jìn)行SEM觀察,如圖5所示,較低試驗溫度下,SiC層以“穿晶斷裂”為主,隨著試驗溫度的升高,斷裂形式逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)橐浴把鼐嗔选睘橹?。且其斷口處晶粒形貌逐漸變得清晰,呈現(xiàn)出典型的柱狀晶結(jié)構(gòu)[14]。
圖4 包覆顆粒SiC層表面形貌Fig.4 Surface morphology of SiC layer on the coated particles
圖5 包覆顆粒SiC層斷口形貌Fig.5 Fracture morphology of SiC layer on the coated particles
采用SPSS 21.0軟件對包覆顆粒壓碎強度進(jìn)行單因素方差分析,隨后進(jìn)行組間兩兩比較的LSD檢驗,顯著性水平α=0.05,檢驗結(jié)果見表2。LSD檢驗結(jié)果表明,1800 K、1900 K、2000 K與未進(jìn)行高溫處理的四組樣品間,顆粒壓碎強度的差異無統(tǒng)計學(xué)意義(P>0.05),表明當(dāng)溫度不高于2000 K時,試驗溫度對樣品壓碎強度影響不大;而2100 K、2200 K與其余樣品間壓碎強度的差異均具有統(tǒng)計學(xué)意義(P<0.05),表明當(dāng)超過2000 K時,試驗溫度對顆粒壓碎強度造成了顯著性差異。
表2 LSD檢驗中P值匯總Table 2 Summary of P values in LSD test
SiC具有α和β兩種晶型[15-16]。β-SiC為立方結(jié)構(gòu),α-SiC為六方或菱方結(jié)構(gòu),存在著4H、15R和6H等100余種多型體。當(dāng)溫度低于1600℃時,SiC以β相的形式存在,當(dāng)溫度高于1600℃時,β-SiC緩慢轉(zhuǎn)變?yōu)棣?SiC的各種多型體。4H多型體在2000℃左右容易生成,15R和6H多型體均需在2100℃以上的高溫才能生成。周詩民[17]等研究β-SiC在 1700℃~1900℃下的晶型轉(zhuǎn)變,發(fā)現(xiàn)在1700℃以上,β-SiC基體中存在20%~30%的α-SiC。故在本試驗中,當(dāng)處理溫度高于2000 K時,極有可能發(fā)生了β-SiC向α-SiC的晶型轉(zhuǎn)變。β-SiC熱膨脹系數(shù)約為3.80×10-6K-1,α-SiC熱膨脹系數(shù)約為5.12×10-6K-1,兩相熱膨脹系數(shù)以及晶格常數(shù)的差異,將使得SiC包覆層在熱處理過程中產(chǎn)生殘余熱應(yīng)力,從而降低SiC層的壓碎強度,甚至直接導(dǎo)致SiC層開裂破損。
采用直線截點法估算SiC平均晶粒尺寸,如圖6所示。隨著試驗溫度的升高,平均晶粒尺寸逐漸增大,陶瓷材料中,晶粒尺寸越大,裂紋越易擴(kuò)展,因而壓碎強度越低。晶粒的長大與基體內(nèi)晶界的遷移有關(guān),晶界遷移能力越強,晶粒長大速度越快,當(dāng)溫度超過2000 K時,晶粒長大的速度明顯增大,晶界遷移能力顯著增強。2000 K前,SiC涂層表形貌沒有明顯變化,晶粒部分團(tuán)聚呈現(xiàn)出鱗片狀形態(tài),這可能與CVD涂層工藝特性相關(guān);2000 K以后,表面的SiC逐漸呈現(xiàn)出清晰的晶界,斷裂形式由以“穿晶斷裂”為主逐漸變?yōu)橐浴把鼐嗔选睘橹?,這與高溫下物質(zhì)的遷移有關(guān)。高溫下,隨著晶界的遷移,CVD涂層工藝中不可避免的微量雜質(zhì)元素在晶界處偏析,降低了SiC層的晶界強度,從而降低了顆粒的壓碎強度,使得斷裂形式呈現(xiàn)為以“沿晶斷裂”為主。溫度越高,平均晶粒尺寸越大,晶界遷移能力越強,晶界處偏析的雜質(zhì)元素含量越大,晶界強度越低,從而導(dǎo)致壓碎強度急劇降低。
圖6 高溫處理后SiC平均晶粒尺寸Fig.6 Average SiC grain size after high temperature processing
ZrO2具有單斜相(m-ZrO2)、四方相(t-ZrO2)、立方相(c-ZrO2)3種同素異構(gòu)體,在不同溫度下,3種晶型可相互轉(zhuǎn)變。ZrO2晶型的轉(zhuǎn)變伴隨著明顯的體積變化,尤其以t-ZrO2轉(zhuǎn)變?yōu)閙-ZrO2時最為特別,伴隨著3%~5%的體積膨脹以及8%的剪切應(yīng)變,這也是相變增韌的基礎(chǔ)[18]。本試驗中,ZrO2核芯外依次為疏松熱解碳層、致密熱解碳層以及SiC層,熱處理過程中,核芯隨著ZrO2的相變,將發(fā)生較大的體積變化,而由于疏松熱解碳層可容納核芯的體積變化,緩沖由核芯體積變化以及溫度變化引起的應(yīng)力,故試驗中可忽略由于核芯體積變化引起的包覆層熱應(yīng)力。但SiC層直接包覆于致密熱解碳層上,而致密熱解碳與SiC的熱膨脹系數(shù)存在差異,在熱處理過程中,包覆層內(nèi)將存在由于熱膨脹系數(shù)的不匹配而產(chǎn)生的殘余熱應(yīng)力,降低包覆層的壓碎強度。
基于上述分析,顆粒包覆層高溫下的開裂破損可能受到熱處理過程中β-SiC→α-SiC晶型轉(zhuǎn)變、SiC平均晶粒尺寸的增大、SiC基體內(nèi)晶界的遷移、SiC層與致密熱解碳層熱膨脹系數(shù)的差異等因素的綜合影響。2000 K以上,SiC晶界強度降低,從而導(dǎo)致包覆顆粒壓碎強度顯著降低。
以UO2為核芯的TRISO型包覆燃料顆粒,其包覆層的破損受到諸多因素的影響,如運行環(huán)境溫度、包覆層受力情況、阿米巴效應(yīng)、裂變產(chǎn)物Pb對SiC層的侵蝕等。本文采用ZrO2作為包覆顆粒核芯,研究在排除裂變氣體的內(nèi)壓、裂變產(chǎn)物Pb對SiC層侵蝕以及熱解碳輻照退化的影響下,顆粒包覆層的耐高溫性能,初步確定包覆層可耐受的最高運行溫度,為后續(xù)深入開展UO2包覆顆粒耐高溫性能研究的試驗設(shè)計提供參考。本試驗中,2000 K以上的處理溫度下,顆粒即出現(xiàn)包覆層開裂脫落現(xiàn)象,故在研究UO2包覆顆粒耐高溫性能時,溫度設(shè)計不宜超過2000 K。
1)包覆顆粒在1800 K、1900 K高溫處理時未發(fā)現(xiàn)SiC層破損情況,2000 K時出現(xiàn)破損,且隨著溫度的升高,破損率增大,2200 K時破損率已高達(dá)70%。
2)溫度不超過2000 K時,顆粒壓碎強度變化不明顯;超過2000 K時,壓碎強度隨溫度的升高而降低。
3)溫度超過2000 K時,SiC平均晶粒尺寸明顯增大,晶界遷移能力增強,顆粒包覆層壓碎強度急劇降低。