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基于PIN硅像素探測(cè)器的新型低電容結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與仿真*

2018-12-20 06:47孫澤亮郭秦文
關(guān)鍵詞:傳統(tǒng)型電勢(shì)信噪比

孫澤亮, 郭秦文, 龍 強(qiáng), 李 正

(湘潭大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,湖南 湘潭 411105)

1 新型探測(cè)器結(jié)構(gòu)

信噪比是高性能探測(cè)器的關(guān)鍵參數(shù),其定義為有用信號(hào)與無(wú)用噪聲的比值.探測(cè)器在完成信號(hào)轉(zhuǎn)換的過程中, 不僅給出表征被測(cè)對(duì)象的有用信號(hào),同時(shí)伴隨著無(wú)用的噪聲信號(hào),這些噪聲信號(hào)大大降低了探測(cè)器的探測(cè)性能和系統(tǒng)的信噪比.降低探測(cè)器噪聲,提高信噪比是我們此次設(shè)計(jì)的主要任務(wù).影響探測(cè)器噪聲的首要因素就是電容,而探測(cè)器的電極面積決定了探測(cè)器的電容的大小,因此,本文基于減小探測(cè)器靈敏面積從而提高信噪比的思想展開[1-3].新型硅像素探測(cè)器結(jié)構(gòu)如圖1、圖2所示.為保證其電場(chǎng)、電勢(shì)對(duì)稱均勻分布,將電極設(shè)計(jì)成對(duì)稱型.其中間為本征層(I區(qū)),摻雜濃度為8×1011P/cm-3,厚度為500 μm.其上下各離子注入1 μm厚的P型重?fù)诫s區(qū)和N型重?fù)诫s區(qū),摻雜濃度分別為1×1019B/cm-3(P區(qū))、1×1019P/cm-3(N區(qū)).在重?fù)诫s區(qū)域表面覆蓋1 μm厚的金屬鋁,形成歐姆接觸作為電極,電極中間用SiO2隔開,其平面圖如圖2所示.為保證探測(cè)器可以被完全耗盡,電極間的最大間距不大于233 μm[4],本探測(cè)器設(shè)計(jì)為229 μm.電極到探測(cè)器邊部的距離設(shè)計(jì)為116 μm,以保證其能夠完全耗盡.

2 全耗盡電壓

傳統(tǒng)型探測(cè)器,其全耗盡電壓約為160 V[5].新結(jié)構(gòu)中,由于減小了電極有效面積,故其耗盡電壓有所提升,將新型低電容硅像素探測(cè)器接入250 V反偏電壓環(huán)境中進(jìn)行多次仿真模擬,并按圖2中所示,截取兩個(gè)剖面來(lái)觀察其特性.圖3和圖4為兩個(gè)剖面在電壓為250 V時(shí)的電子濃度,從圖中可以看出,當(dāng)探測(cè)器接250 V反偏電壓時(shí),探測(cè)器已經(jīng)完全耗盡.

3 電場(chǎng)和電勢(shì)分布

電場(chǎng)和電勢(shì)分布是否均勻也是衡量探測(cè)器性能的一項(xiàng)重要指標(biāo),弱電場(chǎng)區(qū)的產(chǎn)生對(duì)探測(cè)器的性能是非常不利的.圖5~圖8分別顯示探測(cè)器在250 V反偏電壓下的電場(chǎng)和電勢(shì)分布情況,從圖中我們可以看出,電場(chǎng)和電勢(shì)都是均勻分布的,且大部分都是高電場(chǎng),這有利于電荷的收集.

4 電容-電壓特性曲線

電容是衡量探測(cè)器性能的一個(gè)重要指標(biāo),電容越小,探測(cè)器工作時(shí)的噪聲與串?dāng)_越小[6].因此,我們?cè)O(shè)計(jì)的新型硅像素探測(cè)器旨在減小探測(cè)器電容,從而提高探測(cè)器的能量分辨率.圖9是傳統(tǒng)型硅像素探測(cè)器和新型硅像素探測(cè)器電容的比較,圖10是圖9的局域放大圖.從兩幅圖中我們可以看出:新型低電容硅像素探測(cè)器與傳統(tǒng)型硅像素探測(cè)器的C-V特性曲線走勢(shì)基本一致,只是其電容大小略有差異.在相同電壓下(250 V),傳統(tǒng)型硅像素探測(cè)器電容約為150 fF,我們?cè)O(shè)計(jì)的新型硅像素探測(cè)器,其電容有所減小,為140 fF.

5 結(jié)論

根據(jù)探測(cè)器的工作效率與靈敏區(qū)的厚度、全耗盡電壓和電極有效面積的關(guān)系,確定了新型低電容硅像素探測(cè)器的結(jié)構(gòu).借助Sentaurus TCAD仿真軟件對(duì)設(shè)計(jì)出的新結(jié)構(gòu)進(jìn)行仿真,對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,得到了新型低電容硅像素探測(cè)器的電勢(shì)、電場(chǎng)、電容、全耗盡電壓等電學(xué)性能.將仿真結(jié)果與傳統(tǒng)的硅像素探測(cè)器進(jìn)行比較,得到以下結(jié)論:(1) 在設(shè)計(jì)新型低電容硅像素探測(cè)器的電極結(jié)構(gòu)時(shí),保持電極的對(duì)稱性,獲得均勻的電勢(shì)分布.(2) 加上頻率為1×106Hz的交流信號(hào)進(jìn)行電容仿真,有效體積不變,新型結(jié)構(gòu)的硅像素探測(cè)器與傳統(tǒng)的硅像素探測(cè)器比較,電容減小了十分之一.(3) 新型結(jié)構(gòu)的探測(cè)器的有效電極面積比傳統(tǒng)的六邊形的小,其電容小大約10 fF,但是由于有效電極面積的減小導(dǎo)致所需的耗盡電壓有所增加,因此電容與耗盡電壓的權(quán)衡可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用的需求做出調(diào)整.

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