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電鍍添加劑維護相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究

2017-12-15 20:30楊志業(yè)
關(guān)鍵詞:緩蝕劑鍍層電鍍

楊志業(yè) 王 宇 周 磊

(中航工業(yè)沈陽飛機工業(yè)集團有限公司,遼寧 沈陽 110034)

電鍍添加劑維護相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究

楊志業(yè) 王 宇 周 磊

(中航工業(yè)沈陽飛機工業(yè)集團有限公司,遼寧 沈陽 110034)

說明了航空產(chǎn)品的電鍍中添加劑維護的重要性,分析了國內(nèi)外電鍍標(biāo)準(zhǔn)中添加劑的維護內(nèi)容,并對電鍍標(biāo)準(zhǔn)的修訂和審核提出了建議。

電鍍;標(biāo)準(zhǔn);添加劑;維護

在電鍍過程中,添加劑的使用極為廣泛。添加劑的含量直接關(guān)系到產(chǎn)品的光亮度、氫脆性能及電鍍?nèi)芤旱姆€(wěn)定性,需要嚴格的控制。但添加劑往往因其成分復(fù)雜、含量低或缺少分析方法等原因,而只能采用間接控制的維護方式。在目前的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中,對添加劑的維護內(nèi)容均較為缺乏,影響到電鍍工藝的穩(wěn)定性和航空產(chǎn)品質(zhì)量控制。

本文擬對常見的電鍍添加劑進行舉例介紹,分析國內(nèi)外電鍍標(biāo)準(zhǔn)中對于添加劑的維護現(xiàn)狀,提出航空電鍍標(biāo)準(zhǔn)修訂意見

1 添加劑控制的意義

目前航空工業(yè)電鍍使用的添加劑多為第一代添加劑,使用或有一定限制,或效果較差,或易代入雜質(zhì),在易用性上和成熟的商品添加劑差距較大,因此對添加劑的維護控制更應(yīng)該重視。

1.1 緩蝕劑

烏洛托品(六次甲基四胺)是電鍍前鹽酸酸洗中常用的緩蝕劑。研究表明[1]對于10%的鹽酸溶液,烏洛托品質(zhì)量分數(shù)為1.5%時,緩蝕效果最佳。烏洛托品超過一定濃度后,則對鋼鐵基體有腐蝕作用,可能造成零件的過腐蝕。對于氫脆敏感零件,還可能造成零件氫脆性能下降,進而影響到飛機的整體安全性。

1.2 光亮劑

木素磺酸鈣(亞硫酸鹽紙漿)是較為常見的鍍鎘光亮劑。文獻表明[2]其可提高陰極極化作用和分散能力,使鍍層結(jié)晶細致有光澤,并能掩蓋金屬雜質(zhì),但當(dāng)其過量時,則可造成鍍層發(fā)脆、氣泡。另外木素磺酸鈣的使用還有可能造成零件的氫脆性能下降,SAE標(biāo)準(zhǔn)AMS-QQ-P-416《鍍鎘》中就禁止在抗拉強度≥180ksi的零件鍍鎘中使用光亮劑。

1.3 穩(wěn)定劑

苯酚是酸性鍍錫溶液中常用的穩(wěn)定劑。研究表明[3]其對酸性鍍錫溶液主鹽硫酸亞錫中Sn2+起到絡(luò)合作用,能有效抑制Sn4+的水解作用和Sn2+的氧化作用,保持酸性鍍錫溶液的穩(wěn)定性。當(dāng)苯酚含量不足時,將造成Sn2+被氧化為Sn4+,Sn4+進一步水解形成偏錫酸鹽膠體沉淀,導(dǎo)致電鍍光亮區(qū)電流密度范圍變窄,鍍層光澤性差,鍍層可焊性嚴重下降。

1.4 除雜劑

硫化鈉是氰化鍍鋅溶液中常用的除雜劑,可有效去除氰化鍍鋅溶液中鉛、錫、鐵、銅等重金屬雜質(zhì)。當(dāng)加入硫化鈉過量時,會造成鋅離子的損失、電鍍?nèi)芤旱牟环€(wěn)定。

1.5 其它添加劑

其它常用的添加劑還有用于提高鍍層微觀整平性能的整平劑,改善鍍層分布均勻性的走位劑,降低鍍液表面張力、減少針孔的抗針孔劑,為獲得緞面鍍層使用的緞面劑,為獲得黑色鍍層使用的黑化劑。因航空電鍍的特殊性,上述添加劑在航空電鍍中使用較少。

2 國內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)的現(xiàn)狀

2.1 國外標(biāo)準(zhǔn)分析

國外航空工業(yè)電鍍生產(chǎn)中使用商品添加劑較多,標(biāo)準(zhǔn)上添加劑維護內(nèi)容更為完善。

以色列航空工業(yè)有限公司的電鍍標(biāo)準(zhǔn)中,對槽液維護內(nèi)容一般分為兩個章節(jié),其中一個章節(jié)說明槽液成分和操作條件,另一章節(jié)說明槽液的維護分析方法或維護方式。如在PS231000《鍍鎘》中對于鹽酸溶液中的緩蝕劑Rodine 213或Acryl Inhibitor的維護,給出維護方式為每加入1L鹽酸同時添加8ml緩蝕劑。對于鍍鎘光亮劑ROCHO Super XL,則要求每月采用霍爾槽試驗的方法確定添加劑加入量。

龐巴迪公司的電鍍標(biāo)準(zhǔn)中,對添加劑的維護則更為重視。如對鍍鎘光亮劑ROCHO Super XL的維護,有單獨的標(biāo)準(zhǔn)CTSS 5333 《BRIGHTNESSROHCO PROCEDURE》來說明霍爾槽試驗法確定添加劑加入量的具體步驟、設(shè)備要求及注意事項。在耐熱和耐腐蝕合金及鈦合金清洗脫氧工藝中,對于潤濕劑的維護采用表面張力試驗法,并在CTSS 5408《表面張力》中說明了表面張力試驗方法具體要求。在BAPS160-034《鍍鋅鎳》中,添加劑BOE NIZ Additive B則采用按安培-小時數(shù)方式進行維護,每升溶液每1000安培-小時添加劑0.4ml。

2.2 國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)分析

國內(nèi)航空工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中對工藝過程、電鍍的初始配制描述較為詳細,但對添加劑后續(xù)如何維護則敘述甚少。

如在HB 5068-1992《電鍍鋅、電鍍鎘工藝》中,僅規(guī)定了初始配槽時,鹽酸槽中起到緩蝕劑作用的烏洛托品、鍍鋅槽中起到除雜劑作用的硫化鈉、鍍鎘槽中起到光亮劑的木素磺酸鈣的加入量,對后續(xù)如何維護沒有說明。在HB 5074-1993《電鍍銀工藝》中,同樣只說明了鍍銀槽中起到光亮劑作用的二硫化碳的配制濃度,對后續(xù)如何維護沒有說明。在HB 5073-1993《電鍍錫工藝》 中,對于在酸性鍍錫溶液中起到穩(wěn)定劑作用的苯酚,起到光亮劑作用的明膠、β-萘酚,也只說明了配制濃度,對后續(xù)如何維護沒有說明。在HB/Z 20010-2011《電鍍錫-鉍合金工藝及質(zhì)量檢驗》中,對于在鍍錫-鉍溶液中起到光亮劑劑作用的OP-10(烷基酚聚氧乙烯醚)和牛皮膠,也只說明了配制濃度,對后續(xù)如何維護沒有說明。

因此對于上述標(biāo)準(zhǔn),實際上存在內(nèi)容缺失的問題。在貫徹標(biāo)準(zhǔn)時,技術(shù)人員只能依據(jù)自己的專業(yè)技術(shù)水平和個人理解自行進行添加劑的維護,有的按照配制比例在添加主鹽時添加添加劑,有的只在鍍層出現(xiàn)不良影響時添加,有的按照霍爾槽試驗結(jié)果進行維護。這種現(xiàn)狀一方面難以保證電鍍?nèi)芤汉彤a(chǎn)品的穩(wěn)定性及質(zhì)量,另一方面也難以保證GJB 480A-1995《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝質(zhì)量控制要求》中“各種槽液成分必須保持在工藝規(guī)定的范圍內(nèi),并定期分析與維護”要求的實施。

在較新的標(biāo)準(zhǔn)中,標(biāo)準(zhǔn)編寫人員也重視到了這一問題,如在西飛公司XYS23003《氰化鍍鎘》文件中,就規(guī)定了采用霍爾槽試驗法對鍍鎘光亮劑進行維護。

3 標(biāo)準(zhǔn)編制建議

隨著無氰電鍍、代鎘工藝的推行,將進一步凸顯添加劑在電鍍過程中的重要性。本文建議加快行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的修訂,對能進行分析的添加劑,給出分析方法和分析周期,不能分析的,給出維護方式或試驗方法。新編制的標(biāo)準(zhǔn),應(yīng)充分考慮電鍍添加劑維護的重要性,提高標(biāo)準(zhǔn)的可執(zhí)行性。

添加劑的維護控制要根據(jù)其在電鍍?nèi)芤褐兴鹱饔眉跋姆绞?,通過試驗來確定,保證整個過程是可驗證的,試驗方法可參考JB/T 7704.1-6系列《電鍍?nèi)芤涸囼灧椒ā?。下面給出一些常見添加劑的建議維護方式。

3.1 緩蝕劑

對于緩蝕劑,建議采用測定腐蝕速率等方式,對緩蝕劑進行維護,實驗設(shè)計可參考DL/T 523-2007《化學(xué)清洗緩蝕劑應(yīng)用性能評價指標(biāo)及試驗方法》或國內(nèi)外相近標(biāo)準(zhǔn)。

3.2 光亮劑

對于光亮劑,建議采用霍爾槽光亮區(qū)試驗法的方法進行維護控制。尤其注意的是,高強度鋼電鍍的溶液中,光亮劑濃度應(yīng)盡可能低。對于參與電鍍反應(yīng)的光亮劑,也可采用按電鍍安培-小時數(shù)添加的維護方式,試驗方法可參考JB/T 10339《光亮鍍鋅添加劑技術(shù)條件》、JB/T 7508《光亮鍍鎳添加劑技術(shù)條件》或國內(nèi)外相近標(biāo)準(zhǔn)。

3.3 穩(wěn)定劑

穩(wěn)定劑一般不參加電鍍反應(yīng),可通過與主鹽或其它成分按比例關(guān)系添加的方式進行維護。

3.4 除雜劑

除雜劑可定期少量添加,也可在測定雜質(zhì)含量接近一定水平時定量添加。

[1] 高軍林. 烏洛托品作為酸洗緩蝕劑的探討[J].腐蝕與防護,2009. 3,第30卷第3期.

[2] 劉仁志. 現(xiàn)代電鍍手冊[M]. 北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2010.

[3] 梁騰平,高家誠. 酸性鍍錫液穩(wěn)定性的研究進展[J]. 材料導(dǎo)報,2007. 5,第21卷第5A期.

(編輯:雨晴)

T-65

C

1003-6660(2017)02-0014-03

10.13237/j.cnki.asq.2017.02.004

[收修訂稿日期] 2016-07-20

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