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電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定銅鉻銦合金中的痕量銦

2017-10-19 08:57:14方,
分析科學(xué)學(xué)報 2017年3期
關(guān)鍵詞:譜線蒸餾水標(biāo)準(zhǔn)溶液

許 方, 李 勇

(1.江西理工大學(xué)分析與測試中心,江西贛州 341000; 2.江西理工大學(xué)工程研究院,江西贛州 341000)

銅鉻合金的機械強度和硬度較高,導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能好,具有優(yōu)良的耐磨性和減磨性能,以及良好的抗高溫氧化、耐磨蝕和加工性能好等特性,廣泛應(yīng)用于在高溫下要求高強度、高硬度、高導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性的零件。在銅合金中添加少量銦,可提高結(jié)晶溫度,細(xì)化晶粒,優(yōu)化合金性能。銦元素的測定現(xiàn)在一般采用火焰原子吸收光譜法[1 - 2]、分光光度法[3]和EDTA滴定[4]等。我國國家標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于銦的測定方法有EDTA絡(luò)合返滴定法[5]和乙基紫分光光度法[6],步驟繁瑣,流程較長,消耗試劑較多,而且樣品溶液的介質(zhì)和元素之間的干擾對數(shù)據(jù)影響較為明顯。

本文建立了基于電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)的銅鉻銦合金中銦元素的定量分析方法,選取銦的最佳分析譜線、優(yōu)化儀器操作參數(shù),通過基體匹配法對實際樣品中的銦進行定量,通過元素的干擾實驗、加入回收等方法驗證[7]了該方法的抗干擾能力及準(zhǔn)確性。

1 實驗部分

1.1 儀器及主要試劑

采用美國賽默飛世爾公司的IRIS Intrepid Ⅱ 全譜直讀型電感耦合等離子發(fā)射光譜儀對目標(biāo)元素進行測定,波長范圍為165~1 050 nm,中階梯光柵,CID檢測器,進樣系統(tǒng)為垂直觀察式矩管,工作氣體為高純氬氣(≥99.999%)。

In元素標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液(1 000 mg/L,國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)中心);高純銅片(>99.999%,國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)中心);高純鉻粉(>99.99%,國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)中心)。對標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液進行逐級稀釋,配制成相應(yīng)濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液;高純銅片和高純鉻粉分別溶解配制成1.0 g/L銅標(biāo)準(zhǔn)溶液和1.0 g/L鉻標(biāo)準(zhǔn)溶液。HCl、HNO3為優(yōu)級純;實驗用水為二次蒸餾水。

1.2 實驗方法

稱取待測合金試樣0.2000 g左右,置于50 mL燒杯中,加入10 mL HNO3(1+1)和 5 mL HCl(1+1),低溫加熱,待試樣完全反應(yīng)溶解后煮沸去除氮氧化物,靜置冷卻至室溫,加入二次蒸餾水稀釋定容至100 mL容量瓶,搖勻,待測。

2 結(jié)果與討論

2.1 工作參數(shù)的確定

采用20 mg/L的銦標(biāo)準(zhǔn)溶液對工作參數(shù)進行優(yōu)化,包括射頻功率、霧化器壓力、輔助氣流量以及積分時間等,最后確定儀器工作參數(shù)為:功率1 200 W;霧化器壓力0.179 MPa;輔助氣流量1.0 L/min;蠕動泵速110 r/min;長波曝光時間10 s;短波曝光時間20 s。

2.2 基體效應(yīng)

在ICP-OES中,若分析溶液的總鹽量含量較低的話, 可以不考慮基體干擾;但若基體物質(zhì)的濃度較高的話,則應(yīng)考慮基體效應(yīng)。一般采用基體匹配法或標(biāo)準(zhǔn)加入法來抑制或者消除基體效應(yīng)。 因本研究方法的試樣是高Cu-Cr合金,Cu、Cr元素含量高,而In元素作為微量添加元素用以改善合金性能,所以In元素含量一般在1.5%以內(nèi),需要考慮Cu、Cr對In譜線的干擾情況。首先設(shè)定已優(yōu)化的工作參數(shù),對In元素含量為0、5、10、20 mg/L標(biāo)準(zhǔn)溶液建立工作曲線,然后將二次蒸餾水、Cu標(biāo)準(zhǔn)溶液(1 000 mg/L)和Cr標(biāo)準(zhǔn)溶液(200 mg/L)分別作為編號為G -1、G -2和G -3樣品進行測定,將G -1和G -2檢測譜線疊加觀察Cu元素對In元素譜線的干擾情況,將G -1和G -3檢測譜線疊加觀察Cr元素對In元素譜線的干擾情況。經(jīng)過測定表明,G -2樣品譜線比G -1樣品譜線背景強度增高,G -3譜線與G -1譜線相比無明顯變化,說明合金中Cu對測試譜線背景有一定影響,而Cr未對In元素產(chǎn)生明顯干擾。

2.3 標(biāo)準(zhǔn)曲線的建立

本方法選用Cu-Cr合金作Cu-Cr基體繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線。稱取純Cu 0.07 g(>99.999%)和純Cr粉0.03 g(>99.99%)各五份按照方法溶解冷卻,分別移入C1~C5號五個50 mL容量瓶中,然后分別移取1.0 g/L的In標(biāo)準(zhǔn)溶液0、0.3、0.8、1.0和1.5 mL至C1~C5號容量瓶中,加二次蒸餾水至刻度,搖勻。標(biāo)準(zhǔn)化運行后,得出Ins的質(zhì)量濃度在30 mg/L 以內(nèi)與對應(yīng)的發(fā)射強度呈線性關(guān)系,線性回歸方程為:I=15.658c+11.452,相關(guān)系數(shù)為0.9997。

2.4 檢出限與分析譜線的選擇

選取三條In譜線230.606、325.609和303.936 nm,將C1號空白作為樣品進行重復(fù)11次檢測,以各譜線測試數(shù)據(jù)的3倍標(biāo)準(zhǔn)偏差為檢出限,計算后分別為0.009、0.008和0.010 mg/L。綜合考慮譜線強度、穩(wěn)定性、檢出限以及干擾情況等,選定230.606為In元素的分析譜線。

2.5 樣品分析

本方法選用的Cu-Cr-In合金是將Cu-Cr合金用微合金化法微量添加不同含量的In元素,采用非真空條件下制備。在已確定的工作參數(shù)下,選取制備的三個不同In含量的Cu-Cr合金試樣CKS -1、CKS -2和CKS -3按照試驗方法進行測量,經(jīng)過10次平行測試,分別得出In元素的質(zhì)量濃度為0.308%、0.526%和0.786%,RSD分別為3.87%、2.56%和3.16%。另取上述三個試樣分別加入高、中、低不同量的標(biāo)準(zhǔn)溶液進行加標(biāo)回收試驗,結(jié)果見表1?;厥章试?4%~104%之間,能滿足檢驗要求。

表1 回收率試驗

3 結(jié)論

In通常作為微量元素添加至Cu合金中以提高其性能指標(biāo),為了對Cu合金中In的摻入量進行控制和檢測,基于電感耦合等離子體發(fā)射光譜法建立了Cu-Cr合金中In元素的有效分析方法,重現(xiàn)性好,準(zhǔn)確可靠,可用于Cu-Cr合金中In元素的日常分析檢測。

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