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電暈法制備抗PID多晶硅太陽(yáng)電池

2015-12-31 06:41江西瑞晶太陽(yáng)能科技有限公司
太陽(yáng)能 2015年10期
關(guān)鍵詞:氮化硅電暈硅片

江西瑞晶太陽(yáng)能科技有限公司

新余市光伏產(chǎn)品及應(yīng)用工程技術(shù)研究中心

■ 熊大明 孫杰* Thangaraj Baskara Pandian 萬(wàn)小強(qiáng) 龔海波

0 引言

晶體硅太陽(yáng)電池?fù)碛袩o(wú)污染、模塊化、安裝維護(hù)簡(jiǎn)單、工作壽命長(zhǎng)達(dá)20~25年、運(yùn)行可靠等優(yōu)點(diǎn),是一種十分理想的可再生清潔能源。在長(zhǎng)期的濕熱環(huán)境中,組件持續(xù)接通-1000 V的電壓,會(huì)引起組件性能持續(xù)衰減,這樣造成衰減的機(jī)理被稱為電位誘發(fā)衰減,即PID效應(yīng)[1]。嚴(yán)重時(shí)組件的功率衰減超過(guò)50%,嚴(yán)重影響電站的功率輸出,因此PID現(xiàn)象越來(lái)越受到光伏行業(yè)的重視[2]。可以預(yù)見(jiàn),組件具有抗PID能力是未來(lái)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的必然要求。在我們內(nèi)部實(shí)驗(yàn)室同樣觀察到了由于PID效應(yīng)引起的非抗PID組件功率衰減,但從組件外觀上無(wú)法觀察到任何缺陷,只有通過(guò)EL測(cè)試和I-V測(cè)試才可以發(fā)現(xiàn)此問(wèn)題的存在。

在電站實(shí)際運(yùn)營(yíng)中發(fā)現(xiàn),高溫高濕的外部環(huán)境是造成組件出現(xiàn)PID現(xiàn)象的最大原因。但外部環(huán)境是客觀存在的自然條件,我們無(wú)法改變,只能通過(guò)系統(tǒng)、組件、電池3方面來(lái)解決PID問(wèn)題。從系統(tǒng)端來(lái)看,主要有邊框接地、逆變器直流端負(fù)極接地等,但這樣只能緩解PID現(xiàn)象而不能徹底解決;組件端需使用高阻抗的EVA和特殊玻璃,但提高了生產(chǎn)成本;從電池端看,制備更為致密的減反射膜是一種非常有效的抗PID方法。主要有兩種方法,一種是直接提高氮化硅膜的折射率,但會(huì)引起電池轉(zhuǎn)換效率下降;另一種是在鍍氮化硅膜前,使用笑氣或臭氧對(duì)硅片表面進(jìn)行氧化,生長(zhǎng)一層致密的二氧化硅膜,以阻擋Na+遷移到p-n結(jié)。本文主要介紹使用電暈放電激發(fā)氧氣,生成的臭氧直接以氣流的方式對(duì)硅片表面進(jìn)行氧化處理的研究,達(dá)到抗PID的目的。

1 實(shí)驗(yàn)方法

1.1 電暈放電產(chǎn)生臭氧的原理

人工生產(chǎn)臭氧的方法主要有電解法、紫外光照法和電暈放電法[3]。電暈放電法生產(chǎn)臭氧是大功率臭氧發(fā)生器的主要工作方法[4]且較為經(jīng)濟(jì)。此類(lèi)臭氧發(fā)生器主要由臭氧管、高頻電源、風(fēng)機(jī)和控制系統(tǒng)組成。臭氧管原理示意圖如圖1所示。臭氧管中的氧氣在高壓電場(chǎng)的強(qiáng)電離作用下被高速運(yùn)動(dòng)的電子撞擊分解成氧原子,高速電子具有足夠的動(dòng)能,通過(guò)氧原子、氧分子及高速電子3體碰撞反應(yīng)形成臭氧,氧離子同氧分子之間的反應(yīng)式[5]為:

式中,M為除臭氧以外的其他氣體組分;Q為熱量。

圖1 臭氧管原理示意圖

1.2 電池和組件制作

筆者公司的多晶硅電池片正常生產(chǎn)流程如圖2所示,使用電暈放電臭氧氧化的生產(chǎn)流程如圖3所示。選擇相同廠家同一批號(hào)的硅片,用正常流程生產(chǎn)的電池片標(biāo)記為G1,使用電暈放電臭氧氧化工藝生產(chǎn)的電池片標(biāo)記為G2;使用G1組電池片生產(chǎn)的組件編號(hào)為M1,使用G2組生產(chǎn)2塊組件編號(hào)分別為M2和M3,組件生產(chǎn)使用相同的材料和工藝。

圖2 電池生產(chǎn)流程

圖3 臭氧氧化的電池生產(chǎn)流程

2 結(jié)果與討論

2.1 臭氧對(duì)電池轉(zhuǎn)換效率的影響

臭氧對(duì)電池轉(zhuǎn)換效率的影響見(jiàn)表1。由表1可知,G2組開(kāi)路電壓上升但是短路電流下降,平均轉(zhuǎn)換效率無(wú)明顯變化,說(shuō)明臭氧不影響電池轉(zhuǎn)換效率。

表1 臭氧對(duì)電池轉(zhuǎn)換效率的影響

2.2 組件抗PID性能研究

將組件M1、M2、M3進(jìn)行抗PID測(cè)試,引用第三方測(cè)試機(jī)構(gòu)TüV Rhineland測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),測(cè)試環(huán)境為:溫度85 ℃、相對(duì)濕度85%、電壓-1000 V、時(shí)間96 h。對(duì)經(jīng)過(guò)抗PID測(cè)試的組件進(jìn)行I-V測(cè)試,測(cè)試結(jié)果見(jiàn)表2。

表2 經(jīng)過(guò)96 h 85℃/85% RH/-1000 V電壓測(cè)試后的組件功率輸出

由表2可知,未使用臭氧氧化電池片制作的組件M1功率下降達(dá)到了32.2%,而使用臭氧氧化電池片制作的2塊組件M2和M3功率下降分別只有3.35%和0.36%,達(dá)到了抗PID要求。

對(duì)組件進(jìn)行EL測(cè)試,組件經(jīng)過(guò)抗PID測(cè)試前后的EL圖像變化如圖4所示??梢钥闯觯M件M1在經(jīng)過(guò)抗PID測(cè)試后大部分區(qū)域變成暗區(qū),意味著已失去發(fā)電能力,這將嚴(yán)重影響組件的發(fā)電效率。而組件M2、M3經(jīng)過(guò)測(cè)試后并未出現(xiàn)暗區(qū),組件性能未發(fā)生太大變化。

圖4 經(jīng)過(guò)96 h 85 ℃/85% RH/-1000 V電壓測(cè)試后的組件EL圖像

3 結(jié)論

本文研究了使用電暈放電制備抗PID多晶硅電池的一種方法。使用電暈放電的方式產(chǎn)生臭氧,在多晶硅片鍍氮化硅膜前對(duì)硅片進(jìn)行氧化處理,表面生長(zhǎng)一層致密的二氧化硅膜,經(jīng)過(guò)這樣處理的電池片轉(zhuǎn)換效率不受影響,使用這種電池片制作的組件能通過(guò)雙85環(huán)境測(cè)試且抗PID性能良好。

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