王孝麗，牛玉超*，肖辰，朱焰焰，劉相局，馬曉宇

（1.山東建筑大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院，山東，濟(jì)南 250101；2.壽光潤(rùn)城建材有限公司，山東，壽光 262700；3.山東天諾光電材料股份有限公司，山東，濟(jì)南250300）

Ag系低輻射建筑節(jié)能玻璃性能研究進(jìn)展

王孝麗1，牛玉超1*，肖辰2，朱焰焰3，劉相局1，馬曉宇1

（1.山東建筑大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院，山東，濟(jì)南 250101；2.壽光潤(rùn)城建材有限公司，山東，壽光 262700；3.山東天諾光電材料股份有限公司，山東，濟(jì)南250300）

隨著國(guó)家節(jié)能減排力度的加大，國(guó)家建筑節(jié)能政策和設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)均要求建筑業(yè)采用低輻射玻璃來(lái)實(shí)現(xiàn)門(mén)窗節(jié)能降耗。低輻射玻璃因其較低的紅外線輻射率，使其具有優(yōu)異的節(jié)能效果。Ag系低輻射玻璃中功能層 Ag膜具有較低的電阻率和較高的紅外線反射率，其沉積質(zhì)量決定著低輻射薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能，主導(dǎo)著低輻射玻璃的節(jié)能效率。文章分析了低輻射建筑節(jié)能玻璃應(yīng)用的制約因素，闡述了低輻射玻璃的制備方法和節(jié)能原理，綜述了改善功能層 Ag膜沉積質(zhì)量和提高薄膜低輻射性能的方法及途徑，即適當(dāng)調(diào)整工藝條件、合理選用介質(zhì)層材料及進(jìn)一步優(yōu)化膜層結(jié)構(gòu)等，展望了低輻射建筑節(jié)能玻璃的發(fā)展前景。

低輻射玻璃；建筑節(jié)能；紅外線反射；Ag膜

0 引言

隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)的飛速發(fā)展，建筑物規(guī)模越來(lái)越大，建筑能耗占全國(guó)總能耗的比重也在日益攀升［1］。實(shí)施節(jié)能降耗的綠色建筑對(duì)于我國(guó)經(jīng)濟(jì)可持續(xù)發(fā)展具有重要意義［2］。在建筑物運(yùn)行的總能耗中，通過(guò)普通門(mén)窗損失的能量占到 50%左右，門(mén)窗節(jié)能必然成為實(shí)施綠色建筑的一項(xiàng)重要內(nèi)容。國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)與技術(shù)發(fā)展規(guī)劃（2006～2020）中指出，必須將低輻射（Low-E）玻璃作為節(jié)能領(lǐng)域重點(diǎn)開(kāi)發(fā)與升級(jí)的項(xiàng)目［3］。因此，我國(guó)建筑行業(yè)高度重視 Low-E玻璃生產(chǎn)技術(shù)的研究及其應(yīng)用領(lǐng)域的推廣。

Low-E玻璃是指在玻璃表面涂鍍一層或幾層具有低輻射功能膜從而達(dá)到節(jié)能功能的玻璃。Low-E玻璃優(yōu)異的節(jié)能功能使得美國(guó)、日本及歐洲等國(guó)家和地區(qū)紛紛立法強(qiáng)制使用Low-E玻璃門(mén)窗，特別是德國(guó)，在1995年就已經(jīng)立法規(guī)定翻新或新建建筑必須采用 Low-E玻璃門(mén)窗，如今德國(guó)的Low-E玻璃使用率高達(dá) 92%以上［4］。我國(guó) Low-E玻璃的使用率僅占整個(gè)建筑玻璃的15%左右，可見(jiàn) Low-E玻璃在我國(guó)發(fā)展空間仍然巨大［5］。

目前Low-E的應(yīng)用還受到諸多因素的制約。一方面商用Low-E玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率在 80%左右，紅外線反射率也僅在 75%左右，進(jìn)一步提高Low-E玻璃的性能使其獲得更優(yōu)異的節(jié)能效果難以實(shí)現(xiàn)。另一方面，Low-E玻璃多用于制造中空玻璃而不單片使用，低輻射膜在制備中空玻璃的高溫條件下難以保持其性能的穩(wěn)定性。文章根據(jù)國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀，對(duì) Low-E玻璃的制備方法、節(jié)能原理等方面進(jìn)行綜述并重點(diǎn)闡述了優(yōu)化 Low-E玻璃導(dǎo)電性、可見(jiàn)光透過(guò)性、紅外線反射性、高溫耐久性等性能的方法，對(duì) Low-E玻璃未來(lái)的發(fā)展及應(yīng)用予以展望。

1 玻璃的制備方法

Low-E玻璃的制備方法可分為在線法和離線法兩大類(lèi)。在線法是指在普通浮法玻璃生產(chǎn)線上利用高溫?zé)峤夥ㄉa(chǎn)制作 Low-E玻璃的方法。離線法是指在玻璃下了生產(chǎn)線以后用真空蒸鍍或磁控濺射等工藝在玻璃表面鍍制低輻射薄膜的方法。在線鍍膜由于是在玻璃生產(chǎn)過(guò)程中進(jìn)行鍍膜，所以減少了對(duì)膜層的污染，薄膜與基體結(jié)合力較強(qiáng)。離線法鍍制的薄膜中存在金屬層，為防止金屬層遭到破壞，使用離線法制備的Low-E玻璃不能進(jìn)行加熱變形處理，但離線膜的使用性能、熱學(xué)和光學(xué)性能等均優(yōu)于在線膜，并且可以通過(guò)改變工藝參數(shù)對(duì)薄膜的各項(xiàng)指標(biāo)進(jìn)行合理控制［6］。因此，離線膜獲得的性能比在線膜更能滿足實(shí)際應(yīng)用需求，目前對(duì)低輻射膜的研究也主要集中于離線膜。

離線膜多采用介質(zhì)層／金屬層／介質(zhì)層（DMD）結(jié)構(gòu)，其中，金屬層一般選擇Au、Ag、Cu、Al等導(dǎo)電性能良好的材料。圖1給出了13 nm的Au膜、Ag膜、Al膜和Cu膜在350～900 nm波段吸收光譜（如圖1（a）所示）和透過(guò)光譜（如圖1（b）所示）。在可見(jiàn)光范圍內(nèi)，Ag膜的透過(guò)率高，其吸收率卻低于5%，而 Au、Cu、Al的吸收率則分別高于8%、12%、10%，尤其是波長(zhǎng)在 400 nm附近時(shí)，Au和 Cu的吸收率可達(dá)34%［7］。另外，Ag的紅外線反射率高、發(fā)射率低、導(dǎo)電性良好（電阻率僅為 6.7×10-5Ω·cm），因此，Ag系離線玻璃性能更加優(yōu)異［8］。

圖1 13 nm的 Au膜、Ag膜、Al膜和 Cu膜在 350～900 nm波段光譜圖［7］

2 離線Low-E玻璃的作用及其節(jié)能原理

在夏季，門(mén)窗等圍護(hù)結(jié)構(gòu)上采用 Low-E玻璃可以使大部分的可見(jiàn)光通過(guò)，阻止太陽(yáng)光中攜帶大量輻射能的紅外線以及室外地面、建筑物發(fā)出的紅外輻射進(jìn)入室內(nèi)，節(jié)省降溫能源 60%以上；在冬季，Low-E玻璃又可以強(qiáng)烈反射室內(nèi)取暖設(shè)備等物體和人發(fā)出的紅外輻射，阻止熱量向外界散失，節(jié)省取暖能源70%以上［9］。Low-E玻璃既調(diào)節(jié)了室內(nèi)溫度又減少了能量消耗。

圖2為普通玻璃、Low-E玻璃的透射譜和反射譜以及太陽(yáng)光譜，圖中細(xì)虛線和細(xì)實(shí)線、粗虛線和粗實(shí)線分別表示普通玻璃、Low-E玻璃的透射譜和反射譜。由圖2可知，普通玻璃在可見(jiàn)光和紅外線范圍的透過(guò)率高，反射率低；Low-E玻璃在可見(jiàn)光范圍的透過(guò)率高，反射率低，但在紅外線范圍的透過(guò)率降低，反射率升高［10］。由于入射光的熱輻射會(huì)激發(fā)低輻射膜中金屬層的電子震蕩，可見(jiàn)光范圍的輻射頻率特別高，電子無(wú)法跟上電磁場(chǎng)的變化，因此 Low-E玻璃可見(jiàn)光范圍的透過(guò)率高。由于金屬層電導(dǎo)率高，波長(zhǎng)越大，其入射波能量越低，則越不能穿過(guò)該膜層，故Low-E玻璃紅外線范圍透過(guò)率TIR越小，在遠(yuǎn)紅外波長(zhǎng)范圍內(nèi)，TIR≈0［11］。而且波長(zhǎng)從可見(jiàn)光向紅外線范圍提高時(shí)，入射波的輻射頻率逐漸降低至小于電子的震蕩頻率時(shí)，電子在一個(gè)震蕩周期內(nèi)不能把所接受的所有輻射能量都傳遞給固體的晶格，因此在紅外線范圍內(nèi) Low-E玻璃的吸收率 AIR很低［12］。根據(jù)基爾霍夫定律和能量守恒定律，可得薄膜紅外輻射率 εIR和反射率 RIR與吸收率AIR之間關(guān)系式（1）、（2）分別為

圖2 Low-E玻璃與普通玻璃光學(xué)性能的比較圖［10］

由式（1）和（2）可知，低輻射薄膜的εIR很低、RIR很高，Low-E玻璃在紅外波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有低輻射、高反射性能。

3 Ag系 Low-E玻璃性能的改善

3.1 優(yōu)化工藝參數(shù)

3.1.1 沉積時(shí)間

鍍膜過(guò)程中，薄膜的厚度受到多個(gè)工藝參數(shù)共同控制，但沉積時(shí)間必定與其成正比關(guān)系，合理控制Ag膜的沉積時(shí)間對(duì)于改善低輻射膜的表面形態(tài)和結(jié)構(gòu)至關(guān)重要。沉積時(shí)間較短時(shí)，襯底表面上的 Ag以三維形核方式生長(zhǎng)成一個(gè)個(gè)孤立的島，對(duì)光線散射作用強(qiáng)烈，可見(jiàn)光透過(guò)率低，Ag層表面粗糙度大；隨著沉積時(shí)間的增加，Ag層厚度增大，島之間的溝道和空穴被 Ag原子填充，島開(kāi)始相互連接并最終形成連續(xù)薄膜，此時(shí)薄膜表面粗糙度最小，導(dǎo)電和透過(guò)性能最佳；在連續(xù)薄膜上繼續(xù)沉積 Ag，Ag又開(kāi)始按三維方式生長(zhǎng)，導(dǎo)致表面粗糙度開(kāi)始上升，雖然Ag膜方阻也在緩慢下降，但是薄膜可見(jiàn)光透過(guò)率下降顯著。Miao等發(fā)現(xiàn)Ag膜在厚度為5 nm時(shí)，表面粗糙度較大，結(jié)晶程度低；當(dāng)厚度增加至 10 nm時(shí)，Ag膜開(kāi)始由不連續(xù)向連續(xù)狀態(tài)轉(zhuǎn)變，此時(shí)低輻射薄膜的可見(jiàn)光最大透過(guò)率可達(dá)89.8%；當(dāng) Ag膜在厚度為13 nm時(shí)，形成連續(xù)致密薄膜，表面粗糙度最小，方阻達(dá)到 4.36 Ω／sq，紅外反射率為 96%［13］。Indluru等通過(guò)對(duì)低輻射薄膜電學(xué)和光學(xué)進(jìn)行分析推斷Ag膜形成連續(xù)薄膜的確切膜厚為8 nm；在 Ag膜厚度為5.5～7 nm時(shí)，影響薄膜導(dǎo)電性（主要指載流子的遷移率）的散射機(jī)制主要為界面散射；在Ag膜厚度為8～10.5 nm時(shí)，晶界散射則占主導(dǎo)地位［14］。

3.1.2 陰極電壓

在濺射過(guò)程中，Ar粒子會(huì)在 Ag靶表面發(fā)生背散射現(xiàn)象，此時(shí) Ar粒子的動(dòng)能遠(yuǎn)大于 Ag粒子的動(dòng)能，所以 Ar粒子具有足夠的能量來(lái)阻礙 Ag膜的生長(zhǎng)。Kato等發(fā)現(xiàn)當(dāng)陰極電壓由471 V減小至 379 V時(shí)，Ar粒子的背散射能量將會(huì)降低 20%左右，使厚度為10 nm的 Ag膜的方阻由 5.1 Ω／sq降低至4.4 Ω／sq；由于減小陰極電壓對(duì)Ag粒子的動(dòng)能沒(méi)有影響，卻可以降低 Ag靶表面 Ar粒子的背散射動(dòng)能，因此，較小的陰極電壓在一定程度上減小了背散射 Ar粒子對(duì) Ag膜生長(zhǎng)的阻礙作用，增強(qiáng)了 Ag膜擇優(yōu)生長(zhǎng)的趨勢(shì)，Ag晶粒尺寸也會(huì)隨之增大，Ag膜晶粒度得以改善，利于薄膜獲得更低的方阻［15］。另外，他們還發(fā)現(xiàn)當(dāng)陰極電壓由449 V減小至 371 V時(shí)，厚度為13 nm的 Ag膜的表面粗糙度 Ra得以改善，Ra由2.0 nm降低至1.3 nm；在金屬 Ag層的膜厚與電子的自由程可比擬時(shí)，表面粗糙度的降低將會(huì)減弱電子在金屬表面的漫散射，從而促進(jìn) Ag膜獲得較低的方阻［16］。

3.2 改變介質(zhì)層材料

3.2.1 氧化物襯底

DMD結(jié)構(gòu)介質(zhì)層大多是由金屬氧化物組成，外層介質(zhì)膜既是保護(hù)膜也是減反射膜，具有防止Ag層氧化、提高薄膜耐磨性和可見(jiàn)光透過(guò)率等作用；內(nèi)層介質(zhì)膜的主要作用是提高 Ag的附著力，其表面粗糙度和潤(rùn)濕性影響功能層 Ag膜的生長(zhǎng)方式（二維生長(zhǎng)或三維生長(zhǎng)），因此，選擇合適的氧化物襯底材料對(duì)于改善Ag系Low-E膜結(jié)構(gòu)和性能至關(guān)重要。蔡彬等發(fā)現(xiàn) TiO2襯底表面非常光滑、粗糙度很小，在其上沉積厚約10 nm的Ag層即可形成連續(xù)均勻的薄膜結(jié)構(gòu)［17］。Chiu等發(fā)現(xiàn)TiO2作為Ag膜襯底時(shí)還可以明顯提升 Low-E玻璃的透過(guò)性能，使其在可見(jiàn)光平均透過(guò)率達(dá)到 89%［18］。Alvarez等在研究 ZnO襯底對(duì) Ag膜形核和生長(zhǎng)的影響時(shí)發(fā)現(xiàn)，ZnO與 Ag之間潤(rùn)濕性好，ZnO作為襯底有利于形成連續(xù)的Ag膜并降低薄膜方阻和輻射率［19］。Kato等還發(fā)現(xiàn)在光滑且結(jié)晶性較好ZnO上沉積的Ag膜易于形核結(jié)晶，Ag膜表面粗糙度得以改善，電阻率降低了35%；薄膜的可見(jiàn)光和近紅外光波長(zhǎng)范圍吸收率也會(huì)隨著表面粗糙度和電阻率的減小而降低［20］。

3.2.2 氮化物介質(zhì)層

采用氮化物膜作為L(zhǎng)ow-E膜介質(zhì)層可以避免濺射頂層氧化物介質(zhì)膜時(shí)Ag容易與氧氣反應(yīng)的問(wèn)題。Loka等發(fā)現(xiàn)TiN／Ag／TiN低輻射膜中 TiN可以阻擋Ag的擴(kuò)散和氧化，即使經(jīng)過(guò)溫度高達(dá)873 K的退火工藝，薄膜仍能保持其光學(xué)和電學(xué)性能穩(wěn)定右［21］。Reddy等發(fā)現(xiàn) TaNx介質(zhì)層可以促進(jìn)Ag膜的二維生長(zhǎng)過(guò)程，使 Ag膜更加均勻連續(xù)，TaNx襯底上Ag膜的方阻僅為玻璃襯底上Ag膜的1／3；折射率差值較高的 TaNx／Ag界面又易發(fā)生表面等離子激元高效耦合現(xiàn)象，促使薄膜獲得低方阻和低紅外輻 射 率 的 同 時(shí) 大幅 提 高 見(jiàn)光 透 過(guò) 率［22］。Subramanian等發(fā)現(xiàn) TiAlN介質(zhì)層有沿著與面心立方結(jié)構(gòu)中（111）和（200）晶向生長(zhǎng)的擇優(yōu)取向，這有利于Ag膜在 TiAlN薄膜表面上形核結(jié)晶并最終形成均勻連續(xù)的薄膜［23］。

3.3 優(yōu)化低輻射薄膜的結(jié)構(gòu)

3.3.1 添加介質(zhì)層

不同的膜系結(jié)構(gòu)會(huì)影響低輻射薄膜的質(zhì)量，比如在玻璃基片上沉積單層 Ag膜時(shí)，其附著力主要來(lái)源于范德瓦爾斯力，所以 Ag膜附著力性比較差；結(jié)構(gòu)為 SiO2／Ag／SiO2中 SiO2膜具有優(yōu)良的親水性，容易吸附水分而加速 Ag的氧化，導(dǎo)致 Ag膜附著力也比較差；在玻璃與 SiO2之間引入一層TiN可以得到 SiO2／Ag／SiO2／TiN低輻射薄膜，TiN膜中 Ti能與O形成 Ti-O鍵，N能與Si形成 Si-N鍵，增加薄膜的耐磨損能力和附著力［24］。除了 TiN層，Ti層也可以有效改善薄膜性能。Liu等發(fā)現(xiàn)在頂層 TiO2與Ag之間引入一層 Ti作為 TiO2／Ti／Ag／TiO2低輻射膜的界面層可以防止敏感的 Ag在濺射 TiO2時(shí)被氧化［25］。Lee等發(fā)現(xiàn)在低輻射膜中引入 Ti層還可以明顯改變薄膜的表面形貌，降低表面粗糙度和提高薄膜耐熱性［26］。

通過(guò)在DMD結(jié)構(gòu)中引入多層介質(zhì)膜還可以獲得可鋼化薄膜。Yang等在 SnO2／Ag／TiO2結(jié)構(gòu)中引入多層介質(zhì)膜并獲得可鋼化的Si3N4／SnO2／NiCrOx／Ag／ZnO／NiCrOx／TiO2／Si3N4／Glass。其中，頂層 的Si3N4膜的硬度為玻璃的3倍，有效地提高Low-E玻璃的硬度和耐磨性；底層 Si3N4利用其熱處理中穩(wěn)定的物理和化學(xué)性能，有效地控制和阻隔了玻璃中Na離子的滲入；上層未完全氧化的 NiCrOx作為保護(hù)層，可以防止功能層Ag膜被兩側(cè)擴(kuò)散來(lái)的 O2氧化；下層 NiCrOx作為減反層夾在高折射率層TiO2和潤(rùn)濕層 ZnO之間。這種引入多層介質(zhì)膜的優(yōu)化結(jié)構(gòu)可以提高低輻射膜在高溫下的耐久性，保證鋼化處理時(shí)薄膜方阻的穩(wěn)定性［27］。

3.3.2 修飾Ag層

研究表明，在 Ag層中摻雜適當(dāng)?shù)钠渌饘僭兀ㄈ鏑u、Au、Pb等）而獲得的 Ag合金結(jié)構(gòu)能夠明顯改善 Ag膜高溫下易聚集成島的現(xiàn)象，但是Ag合金薄膜的導(dǎo)電性能遠(yuǎn)不如純 Ag薄膜［28］。通過(guò)在DMD結(jié)構(gòu)的Ag層中引入某些金屬極薄層（如 Al、Ti、Mo等）形成D／M／Ag／M／D結(jié)構(gòu)對(duì)Ag層性能進(jìn)行修飾，可以在提高 Ag層抗氧化性能的同時(shí)維持其導(dǎo)電性能，保證低輻射薄膜在高溫退火后光學(xué)和電學(xué)性能的穩(wěn)定性。

Kawamura等發(fā)現(xiàn)在 Ag層中引入少量 Al可以獲得Al／Ag／Al結(jié)構(gòu)，其中 Al易形成很薄的 Al2O3氧化層，該氧化層可以提高 Ag與介質(zhì)層之間的附著力，從而抑制Ag膜在退火時(shí)發(fā)生聚集成島而導(dǎo)致透過(guò)率下降的現(xiàn)象［29］。Wang等發(fā)現(xiàn)在 Ag層中引入少量 Ti時(shí)，Ti擴(kuò)散至 Ag表面后形成的 Ti／Ag／Ti結(jié)構(gòu)中Ti易被氧化成 TiO2，TiO2可以促進(jìn)Ag膜沿著（111）生長(zhǎng)的擇優(yōu)取向，而（111）方向的 Ag具有密堆積晶體結(jié)構(gòu)，有利于提高薄膜在高溫下的穩(wěn)定 性［30］。

4 展望

從質(zhì)量和技術(shù)層面來(lái)看，目前國(guó)內(nèi)生產(chǎn)用于建筑門(mén)窗的 Ag系 Low-E玻璃與國(guó)外先進(jìn)水平尚有一定差距，且處在大力研究提高中。Low-E建筑節(jié)能玻璃中功能層 Ag膜的相關(guān)研究進(jìn)展，不能完全涵蓋目前人們研究的所有方面，尚需進(jìn)一步的研究與探討。隨著世界各國(guó)對(duì)用于建筑門(mén)窗的 Ag系 Low-E玻璃質(zhì)量要求越來(lái)越高，Low-E膜的性能優(yōu)化及其他方面有待于更深入的研究開(kāi)發(fā)。

從國(guó)家政策和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)來(lái)看，我國(guó)陸續(xù)出臺(tái)了多項(xiàng)建筑節(jié)能政策和相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，均要求嚴(yán)寒地區(qū)民用建筑和公共建筑節(jié)能設(shè)計(jì)中門(mén)窗的傳熱系數(shù) K值最高限值為2.2 W／（m2·K），中空Low-E玻璃的K值為2 W／（m2·K），普通玻璃及普通中空玻璃的K值均大于2.5 W／（m2·K）；同時(shí)，在鍍膜玻璃的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定鍍膜玻璃的輻射率必須低于0.15，這是普通玻璃無(wú)法達(dá)到的，而 Low-E玻璃完全滿足該要求。依據(jù)我國(guó)節(jié)能中長(zhǎng)期專項(xiàng)規(guī)劃的保守估計(jì)，在2015年至2017年，我國(guó)Low-E玻璃需求量將保持約20%的增速。節(jié)約能源是我國(guó)基本國(guó)策之一，國(guó)家將會(huì)出臺(tái)更嚴(yán)格的節(jié)能政策，Low-E玻璃門(mén)窗在中國(guó)將會(huì)有更廣泛的應(yīng)用。

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（學(xué)科責(zé)編：吳芹）

Research progress of Ag based low-emissivity building energy saving glass

Wang Xiaoli1，Niu Yuchao1*，Xiao Chen2，et al.
（1.School of Material Science and Engineering，Shandong Jianzhu University，Jinan 250101，China；2.Shouguang Runcheng Building Materials Company，Shouguang 262700，China）

As the nation is making greater efforts to save energy，low-emissivity（Low-E）glass is applied in windows and doors to save energy，which is required by the building energy policies and design standards.Low-E glass has excellent energy-saving effect due to its low infrared emissivity.The electrical and optical properties of Low-E films and the energy saving efficiency of Low-E glass are dominated by the deposition of Ag film due to its low resistance and high infrared reflectivity.This paper analyzes the limitations of applying Low-E building energy saving glass，reviews methods to improve the deposited quality of Ag film and enhance the low-emissivity performance of films after it describes the preparation and energy saving principle of Low-E glass，including appropriate adjusting of process conditions，rational using of material dielectric layers and further optimizing of the composite structure.At last，the development prospects of low-E building energy glass are pointed out.

Low-E glass；building energy save；infrared reflectivity；Ag film

TB43

A

1673-7644（2015）03-0277-05

2014-08-15

山東省引進(jìn)國(guó)外智力項(xiàng)目（L37002013098）；濟(jì)南市高校院所自主創(chuàng)新計(jì)劃項(xiàng)目（201303067）

王孝麗（1989-），女，在讀碩士，主要從事金屬材料及其表面技術(shù)等方面的研究.E-mail：18906412960＠163.com

*：牛玉超（1959-），男，教授，博士，主要從事材料表面技術(shù)等方面的研究.E-mail：niuyuchao＠sdjzu.edu.cn