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XG-501鉻缸走位劑工藝在生產(chǎn)中的應(yīng)用

2014-03-26 11:37:50胡長根應(yīng)建軍
電鍍與環(huán)保 2014年2期
關(guān)鍵詞:電流效率三價鍍鉻

胡長根, 應(yīng)建軍

(1.寧波市電鍍行業(yè)協(xié)會,浙江 慈溪315300;2.宜興市星光陶瓷研究所,江蘇 宜興214226)

0 前言

隨著人們環(huán)保意識的提高,對電鍍污染物的排放要求越來越嚴(yán)格。新標(biāo)準(zhǔn)中六價鉻的排放限值從原來的0.5mg/L降至現(xiàn)在的0.2mg/L。所以科研人員想方設(shè)法研發(fā)環(huán)?;虻臀廴镜碾婂児に嚒H珏冧\層采用低鉻或超低鉻鈍化工藝,還有無鉻鈍化及三價鉻鈍化等,其目的是減少六價鉻的排放量,從而降低廢水處理的成本。本文著重闡述XG-501鉻缸走位劑的使用情況,給同行作參考。

1 鍍液成分及操作條件

鉻酐120~250g/L,硫酸0.6~1.2g/L,三價鉻0.5~3.0g/L,32~50℃。XG-501走位劑5~10mL/L(本品為固體,先用5倍的水稀釋備用),14~23℃,15~50A/dm2,陰極Pb-Sn合金極板。

2 配制方法

(1)加入開缸量的60%~70%的去離子水或純水,加熱至40℃。

(2)在強力攪拌下慢慢加入計算量的鉻酐,待其充分溶解后,加水至標(biāo)準(zhǔn)液位。

(3)根據(jù)m鉻酐∶m硫酸=200∶1,控制硫酸的使用量。

(4)加入計算量的XG-501鉻缸走位劑。

(5)掛好陽極,以大面積陰極用6V電壓電解3~5h,或加入0.2~0.5mL/L的酒精來增加三價鉻的量,即可試鍍,能達到滿意的效果。

3 轉(zhuǎn)缸

原來使用的標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻工藝轉(zhuǎn)缸很方便,在江蘇和浙江有幾十個廠家使用,質(zhì)量穩(wěn)定,均鍍能力明顯提高,控制鍍液也較方便。有鍍液分析設(shè)備的廠家,只要按分析結(jié)果進行調(diào)整;沒有鍍液分析設(shè)備的廠家,可采用波美比重計測比重進行調(diào)整。先用波美比重計將原鍍鉻液的波美度調(diào)至12~23°Bé。鍍液的質(zhì)量濃度主要視所鍍產(chǎn)品的形狀而定,如簡單產(chǎn)品取下限,凹凸較多的復(fù)雜產(chǎn)品取上限。標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液中鉻酐與硫酸的質(zhì)量比為100∶1,而使用XG-501鉻缸走位劑的鍍鉻液中該質(zhì)量比為200∶1,按這個比例可計算出多余的硫酸根。用碳酸鋇將多余的硫酸根沉降,在整個過程中要進行充分的攪拌,靜置后,除去槽底的沉淀物。再用大面積陽極、小陰極電解5~10h,目的是降低鍍液中三價鉻的量。隨后加入所需量的XG-501鉻缸走位劑,試鍍。

4 效益

(1)添加XG-501鉻缸走位劑的鍍鉻液,可降低鉻酐的質(zhì)量濃度,一般控制在120~250g/L,比傳統(tǒng)裝飾性鍍鉻液的降低1/3以上。由于鉻酐的質(zhì)量濃度降低,鍍件和掛具的帶出損耗也減少了??梢?,使用XG-501鉻缸走位劑的鍍鉻液既能降低鉻酐的消耗,又有利于含鉻廢水的處理。

(2)鍍液可在較低溫度下工作。標(biāo)準(zhǔn)裝飾性鍍鉻的溫度通常為45~50℃,而使用XG-501走位劑的鍍鉻液在32~40℃就能工作,夏季在常溫下也能操作。這可減少加溫用電或用氣的費用,節(jié)約能源。

(3)提高電流效率。XG-501鉻缸走位劑鍍鉻的電流效率可達到18%~25%,比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻的平均電流效率(13%)提高了許多。電流效率的提高可減少用電量。

(4)與稀土添加劑相比,其最大的優(yōu)點是不含氟離子,故不腐蝕陽極。

實踐證明:使用XG-501鉻缸走位劑鍍鉻的覆蓋能力比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻的好。特別是深孔件產(chǎn)品,標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻深孔能進25%~30%,而用XG-501鉻缸走位劑鍍鉻深孔能達到80%以上,鍍層厚度也較均勻。

5 鍍液成分及其作用

(1)鉻酐

作為主鹽,鉻酐的質(zhì)量濃度高,電導(dǎo)率會提高,覆蓋能力也有所提高,而電流效率降低;其質(zhì)量濃度過低,高電流密度區(qū)易燒焦。

(2)三價鉻

鉻酐和硫酸是鍍鉻液的必要條件,還要有一定量的三價鉻存在才構(gòu)成充分條件。三價鉻的質(zhì)量濃度低,沉積速率慢,鍍層軟,覆蓋能力差,光亮電流密度范圍變小。

(3)硫酸

在鍍鉻中硫酸起催化作用,溶解堿式鉻酸鹽膠膜,使鉻能順利析出。硫酸的質(zhì)量濃度對鍍層質(zhì)量影響很大,重要的是鉻酐與硫酸的質(zhì)量比,而不是它的絕對質(zhì)量濃度。硫酸的質(zhì)量濃度略高,鍍層的光亮度和致密性好,但電流效率和覆蓋能力下降;其質(zhì)量濃度略低,覆蓋能力較好,但鍍層發(fā)花粗糙、光亮度降低。

(4)XG-501鉻缸走位劑

它可以減少鉻酐的用量,降低鍍液溫度和電流密度,而電流效率可提高25%左右。它提高了鍍液的分散能力、覆蓋能力和電導(dǎo)率,降低了槽端電壓。每添加100kg鉻酐,需添加XG-501鉻缸走位劑(經(jīng)稀釋后的液體)約5L。

6 常見故障及其原因

(1)深鍍能力差

①硫酸的質(zhì)量濃度偏高;②電流密度偏低;③XG-501鉻缸走位劑的用量偏少。

(2)高電流密度區(qū)燒焦而低電流密度區(qū)露黃或掛具接觸點有黃印子

①硫酸的質(zhì)量濃度偏高;②溫度偏低而電流密度偏高;③三價鉻的質(zhì)量濃度偏高;④陽極導(dǎo)電不良;⑤掛具接觸不良。

(3)沉積速率慢

①鍍件裝掛不當(dāng);②硫酸的質(zhì)量濃度過低或過高。

(4)覆蓋能力差

①硫酸的質(zhì)量濃度高;②溫度過高;③三價鉻或鐵等金屬雜質(zhì)的質(zhì)量濃度高。

(5)局部表面未鍍上鉻

①鍍件表面有氧化膜或油污;②電流密度太低;③掛具接觸不良;④鍍件互相屏蔽。

(6)鍍層邊緣發(fā)黑或呈暗色

①電流密度太高;②鍍液溫度太低;③前處理不良,同時入槽時電流太大。

7 結(jié)語

實踐表明:使用XG-501鉻缸走位劑,不但提高了產(chǎn)品質(zhì)量,降低了生產(chǎn)成本,同時也保護了環(huán)境,實現(xiàn)了清潔生產(chǎn)、循環(huán)經(jīng)濟,具有明顯的經(jīng)濟效益和社會效益。

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