林曉梅, 張 銘
微 流 控 芯 片 又 稱 芯 片 實(shí) 驗(yàn) 室 (Lab-on-a-Chip),是一種微型全分析系統(tǒng)(μTAS),它是一種操控微小體積的流體在微小通道或構(gòu)件中流動(dòng)的系統(tǒng),涉及到物理、化學(xué)、生物等多個(gè)基礎(chǔ)學(xué)科領(lǐng)域。它以微流控技術(shù)為基礎(chǔ),制備出小尺度(從微米到納米)的通道、腔、閥、泵等器件,并利用各種物理手段研究小尺度上器件的特異性質(zhì),發(fā)展小尺度控制流體運(yùn)動(dòng)和物理化學(xué)變化。目前這門(mén)學(xué)科已經(jīng)成為國(guó)際上的一個(gè)研究熱點(diǎn),其專業(yè)期刊《Lab on a Chip》自2001年創(chuàng)刊以來(lái)已經(jīng)成為這個(gè)領(lǐng)域最具代表性的權(quán)威雜志,相關(guān)的專業(yè)國(guó)際會(huì)議μTAS每年召開(kāi),微流控芯片技術(shù)已被認(rèn)為是當(dāng)今科技發(fā)展最為重要的生化分析前沿技術(shù)領(lǐng)域之一[1-5]。在現(xiàn)階段,微流控芯片既是一門(mén)科學(xué),又是一種技術(shù)。無(wú)論是科學(xué)還是技術(shù),它最終還是以應(yīng)用為主。從理論上講,微流控芯片可以應(yīng)用于任何涉及流體的學(xué)科,其中最直接的應(yīng)當(dāng)是化學(xué)、生物學(xué)和醫(yī)學(xué),與此同時(shí),它的第二波影響力已經(jīng)滲透到了一些傳統(tǒng)觀念中不涉及流體的學(xué)科,如光學(xué)和信息學(xué)。所有這些學(xué)科都將直面社會(huì)各行各業(yè)的實(shí)際需要,已經(jīng)涉及的領(lǐng)域包括疾病診斷、新藥物篩選、食品安全、商品檢驗(yàn)、環(huán)境監(jiān)測(cè)、司法鑒定、刑事科學(xué)、體育競(jìng)技、軍事科學(xué)及航天科學(xué)等事關(guān)人類生存質(zhì)量的方方面面。在微流控芯片發(fā)展初期,硅、玻璃和石英是微流控芯片的首選材料[6-8],后來(lái),由于研究的不斷深入,它們都表現(xiàn)出各自的缺點(diǎn):硅材料不透光、不能承受高電壓、易碎、成本較高、抗腐蝕性差且電絕緣性較差、表面化學(xué)行為較復(fù)雜;玻璃材料光刻和蝕刻技術(shù)工藝復(fù)雜、難以得到深寬比大的通道、鍵合難度大、費(fèi)時(shí)、加工成本高[9];石英材料硬度大、熔點(diǎn)高、制作步驟復(fù)雜。因此,研究者把注意力放在了原材料便宜、制作過(guò)程簡(jiǎn)單的高分子聚合物上,適于制作微流控芯片的高聚物種類主要有:環(huán)烯烴共聚物(cycloolefincoplymer,COC)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA)和聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane,PDMS)等[10]。不同材料基片的性能比較見(jiàn)表1。
表1 常用微流控芯片材料及其性能[11]
從表1可以看出,PDMS微流控芯片成為研究熱點(diǎn)。PDMS作為微流控芯片基底的理想材料表現(xiàn)出很多特性:
1)絕緣性良好,能承受高電壓[12-13];
2)熱穩(wěn)定性高,適合加工各種生化反應(yīng)芯片[14-15];
3)具有很高的生物兼容性,易加工,不僅能和自身結(jié)合,而且可以與玻璃、硅、二氧化硅等結(jié)合[16-18];
4)光學(xué)特性好,能透過(guò)250nm以上紫外光和可見(jiàn)光[19-20];
5)彈性好,通常由PDMS和相應(yīng)的固化劑按10∶1的比例混合熱聚合而成[21];
6)無(wú)毒、耐用、折射率低、價(jià)格便宜、有化學(xué)惰性、制作周期短、封裝方法靈活[22],故日益成為最有前景的制作微流控芯片的材料之一。
PDMS的分子結(jié)構(gòu)如圖1所示[23]。
圖1 PDMS分子結(jié)構(gòu)
文中主要介紹了PDMS微流控芯片的加工工藝、封裝方法及其結(jié)構(gòu)特征。
在微流控芯片加工技術(shù)的基礎(chǔ)上,通過(guò)各種加工方法在芯片上制作出用于進(jìn)樣和分離的微小通道,并進(jìn)一步連以微閥、微泵,是微流控芯片加工的一般途徑。微芯片的基片一般長(zhǎng)為50~100mm,寬為20~50mm,厚為2mm。微通道的特征尺寸一般高為50~100μm,寬為30~200μm。初期所制作的是表面積比較大的基片(14.8cm×3.9cm),只有一條微通道。后來(lái)出現(xiàn)了包括兩條交叉通道及4個(gè)緩沖池(分別為樣品池、廢液池、陽(yáng)極池和陰極池)的芯片、分離通道制作成彎曲的蛇形芯片、同步循環(huán)毛細(xì)管電泳芯片和陣列通道芯片,這些陣列芯片分別有48條、96條甚至384條分離通道。但目前使用最多的還是以單條通道為基體派生出來(lái)的包括微反應(yīng)室等在內(nèi)的各種芯片。PDMS的加工方法主要有熱壓法(hot embossing)、注塑法(injection molding)、模塑法(cast molding)、激光切蝕法(laser abscission method)、LIGA (Lithgraphie,Galanoformung and Abformung)。
熱壓法是一種應(yīng)用比較廣泛的快速?gòu)?fù)制微結(jié)構(gòu)的芯片制作技術(shù),就是將PDMS基片與模具對(duì)準(zhǔn)加熱,在基片和模具之間施加一定壓力,保持30~60s,降低溫度至室溫時(shí)撤除壓力,退模得到具有微觀結(jié)構(gòu)的芯片[24]。簡(jiǎn)單熱壓法的模具可以是金屬絲或刻蝕有凹凸的微通道硅片陽(yáng)模。以金屬絲為模具只能制作簡(jiǎn)單的微通道,且如果通道交叉點(diǎn)在同一平面壓制,則會(huì)造成不規(guī)則的形狀,對(duì)進(jìn)樣和分離帶來(lái)不利的影響。以刻蝕有凹凸的微通道硅片陽(yáng)模來(lái)制作微流控芯片,可得到復(fù)雜微通道,通道交匯點(diǎn)也會(huì)有令人滿意的結(jié)構(gòu)[25]。此法可大批量復(fù)制,設(shè)備簡(jiǎn)單,操作簡(jiǎn)便。但是熱壓法加工的微通道寬度尺寸較差,所用材料有限,對(duì)其性能研究較少,應(yīng)用價(jià)值尚需實(shí)驗(yàn)[26]。
注塑法被ACLARA單位的研究人員最先在刊物上發(fā)表[27]。注塑法的制作流程[28-33]是:在硅片表面涂上光刻膠,通過(guò)曝光將模板圖形復(fù)制到光刻膠上,從而刻蝕出電泳芯片陰模,用此陰模進(jìn)行約24h的電鑄,就得到0.5cm厚的鎳合金模,然后將鎳合金模加厚,精心加工制成金屬注塑模具,將此模具安裝在注塑機(jī)上,往模具里注入PDMS,將固化的PDMS從模板上剝落。這樣制得的PDMS基片表面用含表面活性劑的清洗液清洗,再經(jīng)二次水清洗干凈后晾干,即可與玻璃片封裝,最后打孔。在注塑法制作過(guò)程中,模具制作復(fù)雜,技術(shù)要求高,周期長(zhǎng)[34-35],是整個(gè)工藝過(guò)程中的關(guān)鍵步驟。一個(gè)好的模具可生產(chǎn)30~50萬(wàn)張PDMS芯片,重復(fù)性好,生產(chǎn)周期短,成本低廉,適宜于成型的芯片生產(chǎn)[36-37]。注塑法加工的微通道表面粗糙,而且是通過(guò)制造金屬模具來(lái)進(jìn)行注塑生產(chǎn)的,一個(gè)模具可生產(chǎn)出大量芯片,降低了芯片成本,為微流控芯片的廣泛使用創(chuàng)造了條件[38]。但是,由于注塑法中金屬模具的制造技術(shù)要求水平高,工藝復(fù)雜,一次性投資較大,所以,在一般的實(shí)驗(yàn)室中難以完成,除公司外,國(guó)外也只有少數(shù)幾家實(shí)驗(yàn)室有過(guò)報(bào)道。
模塑法是目前制作高分子聚合物芯片的主要方法[39-40],主要是通過(guò)光刻膠等得到模具并在模具上固化液態(tài)PDMS得到具有微結(jié)構(gòu)芯片的方法。實(shí)驗(yàn)室中常用的模具是環(huán)氧SU-8負(fù)光膠或正膠。具體步驟[41]:首先在玻璃拋光片上涂覆一層SU-8負(fù)光刻膠,將掩膜覆蓋在光刻膠層上,進(jìn)行紫外光照射,經(jīng)過(guò)顯影后得到光膠陽(yáng)模(所需通道部分突起);在光膠陽(yáng)模上澆注混合好的PDMS預(yù)聚物,一定的溫度下加熱固化,將固化后的PDMS材料從陽(yáng)模上剝落下來(lái)后就得到了具有微通道的基片,將基片與蓋片以一定方式封接后就得到了PDMS微流控芯片。模塑法制作PDMS芯片過(guò)程如圖2所示[42]。
圖2 模塑法制作PDMS芯片
模塑法制作PDMS芯片是目前制作PDMS微流控芯片的主要方法,也是最容易的方法。該方法制作過(guò)程簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、靈活、周期短,對(duì)環(huán)境沒(méi)有特殊要求[43]。此外,若以化學(xué)異質(zhì)性表面自組織生成的結(jié)構(gòu)化液體為復(fù)形結(jié)構(gòu),所制微通道表面能具有三維曲面幾何結(jié)構(gòu),通過(guò)對(duì)這一結(jié)構(gòu)特性的靈活運(yùn)用,亦可賦予芯片設(shè)計(jì)和應(yīng)用以特有的簡(jiǎn)易性和靈活性[44],適合批量生產(chǎn)。
激光切蝕法是一種非接觸式的微細(xì)加工技術(shù)。Roberts[45]于1997年首次提出用紫外線激光器加工微通道,采用激光切蝕法的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以加工出高深寬比的微通道。激光波長(zhǎng)(193nm或248nm),單光子的能量大,可降解PDMS曝光,直接切斷PDMS的C-H鍵,以冷加工的方式對(duì)材料進(jìn)行加工。對(duì)PDMS的加工程度取決于吸收激光的強(qiáng)度,吸收的強(qiáng)度越大,則被刻蝕率就越高。它利用掩膜或直接根據(jù)計(jì)算機(jī)CAD的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)和圖形,通過(guò)X-Y方向精確控制激光的位置,調(diào)整激光強(qiáng)度可控制PDMS的光解深度,用壓力把降解產(chǎn)物吹掃去除,這樣就可以在PDMS上加工出不同形狀尺寸的微孔穴和微通道,之后把它和另一片打好孔的蓋片熱粘合就得到所需的芯片。激光切蝕方法分為兩種:一種是激光掩膜曝光微加工方法;另一種是激光聚焦光束直接寫(xiě)入加工法。兩種方法的區(qū)別在于前者需要掩膜板,后者不需要。激光切蝕法加工原理如圖3所示[46]。
圖3 激光切蝕法加工原理
激光微加工技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是所得的微流控芯片結(jié)構(gòu)受熱破壞小,制作精細(xì),通道壁垂直,深度比大,靈活性較高,步驟簡(jiǎn)單,對(duì)環(huán)境要求不高。缺點(diǎn)是一次只能制作一片,生產(chǎn)效率低,紫外激光器價(jià)格昂貴,能量大,有一定的危險(xiǎn),需要在標(biāo)準(zhǔn)激光實(shí)驗(yàn)室中操作,由于整個(gè)微溝道是連續(xù)加工的,加工速度慢,不利于商品化批量生產(chǎn),因此限制了激光切蝕法的進(jìn)一步發(fā)展。
在以上提到的微通道加工方法中,模塑法和軟刻蝕法只適用于PDMS這種彈性塑料,所以應(yīng)用非常有限;激光切蝕法雖然制作工藝比較簡(jiǎn)單,但加工時(shí)間較長(zhǎng),不適合批量生產(chǎn),在芯片研究的初期階段則比較實(shí)用[47]。熱壓法和注塑法是目前最為常用的,主要是由于這兩種方法可加工的塑料品種比較多,而且復(fù)制精度較高,可以大批量生產(chǎn);這兩種方法相比較,注塑法所需的設(shè)備較昂貴,技術(shù)不易掌握,而熱壓法所需設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,操作簡(jiǎn)便,便于實(shí)現(xiàn)較高程度的自動(dòng)化生產(chǎn)[48]。
LIGA 技術(shù)[49]是德文lithographie,galanoformung和abformung 3個(gè)詞的縮寫(xiě),意指通過(guò)X射線深層光刻及電鑄制造精密模具,再大量復(fù)制微結(jié)構(gòu)的特殊工藝流程,由X射線深層光刻、微電鑄與微復(fù)制等3個(gè)環(huán)節(jié)組成,可加工高深寬比、高精度微結(jié)構(gòu)零件,不僅可成型納米級(jí)尺度的微小結(jié)構(gòu),而且還能制造大到毫米級(jí)尺寸的微型結(jié)構(gòu),在高精密微鑲塊制造中占據(jù)主導(dǎo)地位[50]。第一步為同步輻射X射線深層光刻,可將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻層上,得到一個(gè)與掩膜結(jié)構(gòu)相同的三維立體結(jié)構(gòu)[51]。電鑄可采用電鍍的方法,利用光刻膠下面的金屬進(jìn)行電鍍,將光刻膠圖形上的間隙用金屬填充,形成一個(gè)與光刻膠圖形凹凸互補(bǔ)的金屬凹凸版圖,將光刻膠及附著的基底材料除掉,就得到鑄塑用的金屬模具。通過(guò)金屬注塑板上的小孔將膠狀PDMS注入金屬模具腔體內(nèi),加壓硬化后就得到與掩膜結(jié)構(gòu)相同PDMS芯片[52]。國(guó)內(nèi)外學(xué)者做了很多研究,如Tanaka等[53]基于準(zhǔn)LIGA工藝,在曝光時(shí)將掩模板與光刻膠分開(kāi)一定距離,利用紫外光的衍射效應(yīng),制作了錐形微凹坑膠模,然后在膠模上微電鑄成型得到鎳錐形微結(jié)構(gòu)腔。LIGA技術(shù)優(yōu)點(diǎn)是質(zhì)量高、精度高,缺點(diǎn)是成本高、加工過(guò)程復(fù)雜、制作周期長(zhǎng),使用壽命短、易損壞,因此限制了它的應(yīng)用。
封裝是微流控芯片中非常重要的一個(gè)環(huán)節(jié),為了使封裝過(guò)程順利進(jìn)行,石英、玻璃和硅片表面必須達(dá)到很高的潔凈度,在芯片制作和打孔過(guò)程所殘留的小顆粒、有機(jī)物和金屬都必須清潔干凈,實(shí)驗(yàn)條件要求非常苛刻。而PDMS微流體芯片的封裝對(duì)環(huán)境沒(méi)有要求,相對(duì)來(lái)說(shuō)PDMS的封裝就比較簡(jiǎn)單和靈活[54]。常見(jiàn)的封接方法有熱壓法、熱和光催化黏合劑黏合法、有機(jī)溶劑黏合法、自然黏合法、等離子氧化封接法、紫外照射法和交聯(lián)劑調(diào)節(jié)法等。
通過(guò)加熱和施加一定的壓力可以將刻有微通道的PDMS基片與蓋片封接在一起。如果這一溫度接近PDMS的玻璃態(tài)溫度,就可能導(dǎo)致芯片中的微通道變形。為了盡量減小封接過(guò)程對(duì)微通道的影響,可以在PDMS蓋片上涂一層低玻璃態(tài)溫度的聚合物,或者使用熱學(xué)或化學(xué)黏合劑將PDMS芯片黏接在一起,對(duì)于PDMS材料而言,在操作過(guò)程中黏合劑很容易進(jìn)入并堵塞微通道,要特別小心提防。也可以采用工業(yè)用的輾壓法將PDMS基片和蓋片快速封接起來(lái)。PDMS黏附性較好,刻有微結(jié)構(gòu)的PDMS基片可以與同種材質(zhì)或多種材質(zhì)的蓋片實(shí)現(xiàn)可逆和不可逆封接。PDMS微流控芯片的封裝過(guò)程如圖4所示[55]。
圖4 PDMS微流控芯片的封裝過(guò)程
可逆封裝[56]就是簡(jiǎn)單地將PDMS基片和蓋片對(duì)齊復(fù)合,然后放在75℃的烘箱中加熱10min左右,就可以得到密閉的PDMS芯片,這種封裝的芯片可以反復(fù)使用,很方便進(jìn)行清洗,操作簡(jiǎn)單,但不能承受較大的壓力,很可能被輕易揭開(kāi)[57]。如果將PDMS基片和蓋片表面先用等離子氧化處理,或紫外線照射,再將二者復(fù)合在一起,則可以使PDMS芯片實(shí)現(xiàn)不可逆封接[58],使封接更為 牢固和 持 久[59-60]。另外,通 過(guò) 改 變PDMS聚合體和交聯(lián)劑的最佳配比,使基片和蓋片中的PDMS聚合體和交聯(lián)劑組成比分別較最佳配比略高和略低[61]。當(dāng)基片和蓋片復(fù)合后,在交界處因分子擴(kuò)散使聚合體和交聯(lián)劑的配比較佳,也可提高封接牢固度[61]。香港大學(xué)的 W T Chan課題組采用家用微波爐實(shí)現(xiàn)了PDMS芯片的封裝,操作簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì)實(shí)用,對(duì)環(huán)境要求不高,尤其適用于沒(méi)有條件建立潔凈室的研究小組進(jìn)行芯片研究,顯示了很好的應(yīng)用前景[62]。
根據(jù)PDMS材料特性和芯片封裝方式的靈活性,可以把它的結(jié)構(gòu)形式分為全PDMS微流體芯片、混合PDMS微流控芯片和夾心式PDMS微流控芯片3種。
3種PDMS微流體芯片的結(jié)構(gòu)如圖5所示[63]。
圖5 3種PDMS微流體芯片的結(jié)構(gòu)示意圖
全 PDMS 微 流 控 芯 片[64](complete PDMS microfluidic chip)是PDMS蓋片和基片直接粘貼在一起,該芯片的結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖5(a)。該芯片具有良好的密封性,但由于PDMS是一種彈性材料,所以,它表現(xiàn)出良好的柔性[65]。混合PDMS微流控芯片(hybrid PDMS microfluidic chip)是 PDMS芯片底片蓋片可將玻璃片、石英片、塑料片、平整硅片粘貼在一起,結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖5(b)。由于是把PDMS蓋片與具有一定硬度的材料密封而構(gòu)成的,所以,它表現(xiàn)出了一定的剛性。在這種芯片中,由于構(gòu)成微通道的兩種材料性質(zhì)不同,有時(shí)會(huì)帶來(lái)一些負(fù)面影響,比如芯片密封性能不好,易漏液,通道中易產(chǎn)生氣泡等。尤其在微芯片電泳實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)突出,Ross D[65]等也證實(shí)了混合 PDMS微流體芯片引起電泳分離譜帶展寬。而夾心式PDMS微流控芯片(sandwiched PDMS microfluidic chip)是由上、下兩玻璃基片和中間印有微通道網(wǎng)絡(luò)的PDMS薄膜3部分組成,其結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖5(c)。該芯片既具有全PDMS微流控芯片的柔性,又具有混合PDMS微流體芯片的剛性,同時(shí),該芯片還表現(xiàn)出散熱能力強(qiáng)、界面友好、能承受高壓等優(yōu)點(diǎn)[66-67]。
PDMS微流控芯片在發(fā)展過(guò)程中表現(xiàn)出很多良好的特性,引起學(xué)者廣泛關(guān)注。但是總體而言,它作為新型的微流控芯片材料仍處于其整體發(fā)展階段的前期,還沒(méi)有促成真正意義上的革命,在引發(fā)這樣一場(chǎng)技術(shù)革命的過(guò)程中,至少有兩點(diǎn)可以期待:一是在它的加工過(guò)程和封裝方式幾乎沒(méi)有可以借鑒的現(xiàn)成技術(shù),還需有廣泛的探索;二是PDMS微流控芯片內(nèi)表面疏水性較強(qiáng),對(duì)其微通道的表面化學(xué)修飾,也具有極大的研究?jī)r(jià)值。同時(shí),還需要研究它的新原理、新工藝、功能參數(shù)和應(yīng)用面擴(kuò)展等方面,使PDMS芯片能更好地為人類服務(wù)奠定堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
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