張帆洋 王秀峰 黃雪等
作者簡介:張帆洋(1987-),男,在讀碩士研究生。
摘要:觀察了冬季日光溫室光照和溫度條件對黃瓜莖葉生長的影響。結(jié)果表明:光輻射量、見光時(shí)段小時(shí)積溫、日均積溫及20 cm地溫能有效反映黃瓜莖葉生長的動態(tài)變化。光輻射量是影響冬季日光溫室黃瓜生長的主要因素,而見光時(shí)段小時(shí)積溫對黃瓜莖葉生長有更為直觀的影響。冬季連陰幾天放晴后,黃瓜植株的生長有一定的滯后期,與10~20 cm的土壤溫度回升慢有直接的關(guān)系。
關(guān)鍵詞:光輻射量;見光時(shí)段小時(shí)積溫;日均積溫;地溫;黃瓜;莖葉生長
中圖分類號:S642.201 文獻(xiàn)標(biāo)識號:A 文章編號:1001-4942(2013)06-0044-05
黃瓜(Cucumis sativus L)是日光溫室冬春栽培的主要蔬菜,在我國北方地區(qū)種植面積逐年擴(kuò)大,但產(chǎn)量和經(jīng)濟(jì)效益卻差異很大,其中最主要的原因就是落后的溫室內(nèi)溫光條件的控制和管理。溫光環(huán)境對黃瓜植株生長發(fā)育的影響,前人已做過不少研究,他們認(rèn)為,光是影響黃瓜功能葉光合速率(Pn)最重要的環(huán)境因子。黃瓜光合作用對光和溫度的反應(yīng)最為敏感[1]。而溫度對黃瓜光合作用影響最大的是適溫持續(xù)時(shí)間長短。光照與溫度,對黃瓜光合作用影響更大的是光環(huán)境[2]。本試驗(yàn)在實(shí)際生產(chǎn)的條件下,利用物聯(lián)網(wǎng)采集并處理監(jiān)測到的溫室溫光環(huán)境數(shù)據(jù),研究溫光條件對黃瓜生長和產(chǎn)量的影響,為溫室黃瓜生產(chǎn)的環(huán)境調(diào)控提供依據(jù),以使溫室環(huán)境調(diào)控更科學(xué)。
1 材料與方法
試驗(yàn)在山東壽光蔬菜產(chǎn)業(yè)集團(tuán)的蔬菜種苗生產(chǎn)基地進(jìn)行,所選溫室為山東Ⅴ型日光溫室。黃瓜選用生產(chǎn)面積較大的品種魯蔬869,于2011年8月29日播種,9月28日定植,2012年1月16日拉秧。按常規(guī)生產(chǎn)進(jìn)行管理。
11 測量儀器及觀測點(diǎn)的設(shè)置
本試驗(yàn)所用的儀器:數(shù)據(jù)采集器為本校機(jī)電學(xué)院制作,精度符合測試要求;太陽輻射傳感器為TBQ-2C型,照度計(jì)為RY-G/N型,二者均為河北邯鄲銳研智華電子有限公司生產(chǎn);溫度傳感器為DS18B20型數(shù)字式輸出型傳感器,精度為±05℃,北京昆侖中科傳感器封裝技術(shù)有限公司。
觀測點(diǎn)的設(shè)置如圖1:
12 環(huán)境指標(biāo)的測定
設(shè)定各環(huán)境因子測量,每10分鐘記錄1次,并通過互聯(lián)網(wǎng)的遠(yuǎn)程監(jiān)測控制平臺進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測。
121 光照 在距溫室前沿25 m處距地2 m,距溫室前沿50 m處距地面1、2、3 m,以及距溫室前沿75 m處距地2 m,共設(shè)置5個(gè)觀測點(diǎn)測量光照強(qiáng)度和單位面積太陽輻射量的變化。光照強(qiáng)度記錄的是10 min內(nèi)的平均值,光輻射量記錄的是10 min內(nèi)的積累量。
122 溫度 氣溫:在距溫室前沿25、50、75 m處距地面1、2、3 m的位置,共設(shè)置9個(gè)觀測點(diǎn),測量氣溫。
地溫:在距溫室前沿5 m處,設(shè)置地表、地下10、20、30、40、50 cm共6個(gè)觀測點(diǎn),測量地溫。
13 生長指標(biāo)測定
隨機(jī)選擇30株黃瓜作為觀測樣株,并掛編號標(biāo)簽做標(biāo)記。
131 葉面積的測定 定期測定觀測株的第1片展開葉及其下的2片葉,新展開葉開始測量的標(biāo)準(zhǔn):寬×長≥2 cm×3 cm。利用回歸方程:A=1461-50 L+094 L2+047 W+063 W2-062 L×W,計(jì)算葉面積(L:最大葉長;W:最大葉寬;A:葉面積)[3]。
132 莖生長量的測定 定期測定觀測株黃瓜莖上部3節(jié)的長度,新莖節(jié)開始測量的標(biāo)準(zhǔn):長度≥02 cm。
2 結(jié)果與分析
21 黃瓜莖葉生長與光照的關(guān)系
由于12月3~ 7日是連陰天,一直未開棚,7日的生長量已接近零。
8~20日光輻射量和日均光照強(qiáng)度變化對黃瓜莖葉生長的影響。從圖中可以看出,8~10日,雖然光照強(qiáng)度已經(jīng)達(dá)到莖葉生長的適宜強(qiáng)度,但是莖葉的生長量并沒有大幅提高,主要是因?yàn)殚L時(shí)間陰雨天后,黃瓜需要一段適應(yīng)期再恢復(fù)生長。與日均光強(qiáng)相比,光輻射量計(jì)量了黃瓜接受光照時(shí)間的長短,更能準(zhǔn)確地反映黃瓜莖葉每天的生長量。11~13日莖葉生長量快速上升,與日均光照強(qiáng)度和光輻射的變化不同步,可能由于前3天光合物質(zhì)的積累,為黃瓜莖葉的快速生長打下了基礎(chǔ)。14日以后,黃瓜的莖葉生長與日均光強(qiáng)和光輻射量的變化趨勢基本一致。通過表1的相關(guān)性分析可以得出,日均光強(qiáng)和光輻射量與黃瓜莖葉生長均有極顯著相關(guān)性。但光輻射量的變化更能有效地解釋黃瓜莖葉生長的變化,日均光強(qiáng)的變化雖然在一定程度上也能反映黃瓜莖葉生長的變化,但是其未計(jì)量光照時(shí)間的長短,無法有效地解釋光照對黃瓜莖葉生長變化的影響。
22 黃瓜莖葉生長與溫度的關(guān)系
221 黃瓜莖葉生長與氣溫的關(guān)系 圖6~圖9為12月8~ 20日,見光時(shí)段積溫、見光時(shí)段平均氣溫、日均氣溫和日最低氣溫變化對莖葉生長量的影響。從圖中可知,12月10日之前由于連陰天的影響,從8日開始黃瓜莖葉在恢復(fù)生長的適應(yīng)期中,即使見光時(shí)段積溫已經(jīng)達(dá)到生長適宜的量,莖葉生長仍然緩慢。11日之后,由于在適應(yīng)期里的光合物質(zhì)積累,同時(shí)在適宜的氣溫條件下,莖葉生長量快速上升。13日之后,莖葉生長量則隨積溫的高低而變化。從圖中可以看出,莖葉生長量的變化趨勢與溫室的見光時(shí)段小時(shí)積溫變化較為一致,而與日最低氣溫的變化有較大的差異。通過表2 的相關(guān)性分析可以得出,見光時(shí)段的小時(shí)積溫、見光時(shí)段的平均氣溫和日均氣溫與黃瓜莖葉生長均有極顯著的相關(guān)性,對黃瓜的莖葉生長產(chǎn)生直接的影響。
222 黃瓜莖葉生長與地溫的關(guān)系 圖10、圖11反映的是地表溫度、10、20、30、40、50 cm地溫變化對黃瓜莖葉生長的影響。從圖中可以看出,12月8 ~13日,連陰天后,黃瓜莖葉的生長隨著地溫的回升而逐漸恢復(fù),其中10 cm和20 cm地溫的變化與黃瓜莖葉生長的變化有著密切的關(guān)系。隨著土層深度的增加地溫的變化幅度逐漸變小,并且,當(dāng)土層深度達(dá)到30 cm或更深時(shí),土溫的變化穩(wěn)定在15~16℃之間。表層地溫受氣溫的影響較大,變化幅度也較大,而隨著土層的加深,地溫的變化趨于平穩(wěn)。這與前人的研究結(jié)果一致[4]。
通過相關(guān)性分析可知,黃瓜莖葉生長與0~20 cm的地溫有較為密切的關(guān)系。由于黃瓜是淺根系,其功能根主要分布在距地表20 cm左右的范圍內(nèi),同時(shí)12~16℃的地溫是黃瓜根系生長的亞適溫環(huán)境[5],在亞適溫環(huán)境中,黃瓜根系的活力及其元素吸收能力對溫度極其敏感,低溫環(huán)境下,會使黃瓜根系的功能異常,對礦質(zhì)元素和水分的吸收和代謝出現(xiàn)紊亂,嚴(yán)重影響其正常生長和發(fā)育[6]。因此,地表下10~20 cm的地溫在很大程度上決定了黃瓜植株的根系活力和營養(yǎng)吸收,從而對黃瓜莖葉的生長產(chǎn)生較大的影響。
3 小結(jié)
黃瓜的莖葉生長與其所處的溫光環(huán)境有著密切的聯(lián)系,根據(jù)相關(guān)性分析,光輻射量、見光時(shí)段小時(shí)積溫、日均溫度以及淺層地溫4種環(huán)境因素與黃瓜的莖葉生長量有極顯著的相關(guān)性。由于冬季普通日光溫室缺乏人工光源和人工供暖,日光溫室內(nèi)的光照和熱量主要由太陽輻射提供,因此,光輻射量多少和光照時(shí)間長短就決定了見光時(shí)段的小時(shí)積溫、日均溫度和淺層地溫等各項(xiàng)溫度條件,因此光輻射量和光照時(shí)間是冬季溫室里影響黃瓜莖葉生長的主要因素。溫室的保溫性、通風(fēng)時(shí)間的選擇和控制以及日光溫室草苫揭蓋時(shí)間在調(diào)節(jié)溫室溫光環(huán)境中起到極為重要的作用。
目前我國日光溫室絕大部分還主要依賴自然光照,連陰天仍然是冬季影響日光溫室生產(chǎn)最主要的不利因素。在長時(shí)間陰雨天之后,黃瓜植株需要一定的適應(yīng)期來恢復(fù)生長,在適應(yīng)期里,即使提供適宜的光照和溫度也無法使黃瓜的生長立即恢復(fù)正常水平。在恢復(fù)生長的適應(yīng)期里給黃瓜植株提供適宜的溫光條件,有助于黃瓜植株迅速恢復(fù)生長,并能有效提高黃瓜生長量。當(dāng)黃瓜生長量恢復(fù)到正常水平后,在適宜的溫光范圍內(nèi)黃瓜的生長會隨著溫光條件的變化而變化,但過強(qiáng)的光照會抑制黃瓜莖的生長,而對葉的生長沒有太大的影響。
地溫直接作用于黃瓜的根系,地溫的高低直接影響黃瓜根系的發(fā)生和對水分、養(yǎng)分的吸收[7]。黃瓜根系主要分布在地下10~25 cm的土層,淺層地溫的變化對黃瓜根系的發(fā)生和對水分、養(yǎng)分的吸收有更為直接的影響。冬季連陰幾天放晴后,日光溫室黃瓜植株的生長有一定的滯后,是與10~20 cm的土壤溫度回升慢有直接的關(guān)系。參 考 文 獻(xiàn):
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