楊鈿,周隆先
(總裝備部重慶軍事代表局,重慶 400060)
微弧氧化技術(shù)是在傳統(tǒng)的液相電化學(xué)氧化反應(yīng)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。它將工作區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,使金屬表面處在微弧形成的等離子體高溫(約3000 K)、高壓(20~50MPa)作用下,在金屬表面原位生成堅(jiān)硬、致密的陶瓷氧化膜,如鋁合金表面微弧氧化膜主要由α-Al2O3,γ-Al2O3相組成,所得的氧化膜硬度高、與基體結(jié)合牢固、結(jié)構(gòu)致密,大大提高了有色金屬的耐磨損、耐腐蝕、抗高溫沖擊及電特性等多種性能[1—5]。
通過對(duì)不同牌號(hào)的鋁合金進(jìn)行微弧氧化處理,了解并掌握了鋁合金微弧氧化技術(shù)的工藝特點(diǎn),包括設(shè)備性能特點(diǎn)、溶液體系、處理參數(shù)等;并通過各種檢測(cè)手段測(cè)定了鋁合金微弧氧化膜層的性能指標(biāo),提升了產(chǎn)品的三防性能。
日常使用的鋁合金結(jié)構(gòu)件材料主要有LY12,LD31,LF6,LF21。本研究的對(duì)象為上述四種鋁合金,同時(shí)對(duì)LY12硬質(zhì)陽極氧化樣件進(jìn)行了對(duì)比分析。
微弧氧化和硬質(zhì)陽極氧化工藝特點(diǎn)比較見表1。
表1 微弧氧化和硬質(zhì)陽極氧化工藝比較Table 1 Processcomparison ofMicro Arc Oxidation and Hard Anodic Oxidation
微弧氧化設(shè)備采用北京師范大學(xué)研制的型號(hào)為WHYH-40設(shè)備,功率為40 kW。設(shè)備外觀及氧化過程如圖1所示。從圖1b中可見,在氧化過程中,工件表面產(chǎn)生弧光,形成等離子體微弧。
圖1 WHYH-40微弧氧化設(shè)備Fig.1 EquipmentofWHYH-40Micro Arc Oxidation
微弧氧化設(shè)備采用雙極性大功率脈沖電源,正負(fù)電壓可獨(dú)立調(diào)節(jié),氧化溶液采用硅酸鹽堿性溶液體系。不同牌號(hào)鋁合金的微弧氧化處理參數(shù)及膜層厚度見表2,用于對(duì)比的LY12硬質(zhì)陽極氧化樣件膜層厚度約為50μm。
鋁合金微弧氧化膜層呈灰白色,隨基體型號(hào)及膜層厚度略有差別,如圖2a所示。微弧氧化膜層分為疏松層和致密層,如圖2b所示。
由圖2b可見,微弧氧化膜層的疏松層有許多孔洞,這是在氧化過程中微弧放電形成的熔融坑急速冷卻后形成的,而致密層則孔洞很少。
表2 微弧氧化處理參數(shù)Table 2 ParametersofMicro Arc Oxidation
圖2 微弧氧化膜層形貌Fig.2 Morphology of theMicro Arc Oxidation film
經(jīng)過X射線衍射分析可知,微弧氧化膜層主要由α-Al2O3,γ-Al2O3相組成。從已有的研究可知,氧化膜疏松層中含γ-Al2O3相較多,而致密層中含α-Al2O3相較多。γ-Al2O3相屬于亞穩(wěn)態(tài)氧化鋁相,其硬度低于熱力學(xué)穩(wěn)定相——α-Al2O3相。
從鋁合金微弧氧化膜膜層形貌及成分分析可知,氧化膜由外層多孔疏松層及內(nèi)層致密層組成。氧化膜疏松層中含γ-Al2O3相較多,而致密層中含α-Al2O3相較多。γ-Al2O3相硬度低于α-Al2O3相。正是由于疏松層多孔且γ-Al2O3相較多,因而其硬度及耐磨性能遠(yuǎn)低于致密層。因此,本研究?jī)H分析了微弧氧化氧化膜致密層的硬度及耐磨性能。
硬度測(cè)試分析儀器為HX-1型顯微硬度計(jì)。樣品硬度測(cè)量結(jié)果見表3。由表3可見,微弧氧化膜致密層硬度遠(yuǎn)高于基體硬度,也遠(yuǎn)高于硬質(zhì)陽極氧化膜。
表3 樣品硬度測(cè)量Table3 Hardnessof the samples
鋁合金基體和微弧氧化膜致密層摩擦磨損測(cè)試分析后的表面形貌如圖3所示。
圖3 摩擦磨損測(cè)試分析后的樣品表面形貌Fig.3 Surface topography of samples which were subjected to friction andwear
摩擦磨損測(cè)量結(jié)果見表4。由表4可知,微弧氧化膜致密層在測(cè)試參數(shù)(負(fù)載和轉(zhuǎn)速)遠(yuǎn)高于鋁基體和硬質(zhì)陽極氧化膜測(cè)試參數(shù)的條件下,磨損速率仍遠(yuǎn)低于鋁基體和硬質(zhì)陽極氧化膜。這表明微弧氧化膜致密層耐磨損性能優(yōu)于鋁基體和硬質(zhì)陽極氧化膜。
本研究通過電化學(xué)測(cè)試分析和中性鹽霧試驗(yàn)兩種方法來檢驗(yàn)鋁合金微弧氧化膜層的耐腐蝕性能。
2.3.1 電化學(xué)測(cè)試分析
電化學(xué)測(cè)試分析儀器型號(hào)為CS300電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)。通過電化學(xué)測(cè)試可以獲得材料的腐蝕電位和腐蝕電流,通過分析腐蝕電位和腐蝕電流來判斷材料的耐腐蝕性能。圖4為L(zhǎng)D31微弧氧化樣品與鋁基體電化學(xué)曲線的比較,其中橫坐標(biāo)為腐蝕電流密度,縱坐標(biāo)為腐蝕電位。
表4 摩擦磨損測(cè)試分析數(shù)據(jù)Table4 Dataanalysisof the friction andwear test
圖4 電化學(xué)曲線Fig.4 Electrochemicalcurve
樣品電化學(xué)測(cè)試分析見表5。由表5可見,表面氧化樣品的腐蝕電流與腐蝕電位較鋁基體和硬質(zhì)陽極氧化膜有較大降低,耐腐蝕性能得到改善。
表5 電化學(xué)測(cè)試分析數(shù)據(jù)Table5 Dataanalysisof theelectrochemical test
2.3.2 鹽霧試驗(yàn)
中國賽寶實(shí)驗(yàn)室的鹽霧試驗(yàn)檢驗(yàn)結(jié)果見表6。鹽霧試驗(yàn)采用標(biāo)準(zhǔn)為GJB 150.11A—2009“軍用設(shè)備環(huán)境試驗(yàn)方法——鹽霧試驗(yàn)”。
表6 鹽霧試驗(yàn)檢測(cè)結(jié)果Table6 Testing resultof the saltspray test
鹽霧試驗(yàn)后樣品外觀如圖5所示。
圖5 鹽霧試驗(yàn)后樣品外觀Fig.5 Fa?ade ofsamplesafter the saltspray test
2.3.3 濕熱試驗(yàn)
濕熱試驗(yàn)檢驗(yàn)結(jié)果見表7。濕熱試驗(yàn)采用標(biāo)準(zhǔn)為GJB 150.9A—2009“軍用設(shè)備環(huán)境試驗(yàn)方法——濕熱試驗(yàn)”。
濕熱試驗(yàn)條件參數(shù)為:高溫高濕階段60℃,相對(duì)適度95%;低溫高濕階段30℃,相對(duì)適度95%;試驗(yàn)周期數(shù):10個(gè)周期(1周期為24 h)。
表7 濕熱試驗(yàn)檢測(cè)結(jié)果Table 7 Testing resultof the damp heat test
濕熱試驗(yàn)后樣品外觀如圖6所示。
圖6 濕熱試驗(yàn)后樣品外觀Fig.6 Fa?adeofsamplesafter the damp heat test
通過研究不同牌號(hào)鋁合金的微弧氧化處理參數(shù)、工藝方法以及氧化膜層的性能指標(biāo),得出以下結(jié)論:
1)微弧氧化工藝所采用的氧化液為硅酸鹽堿性溶液體系,正電壓500~530 V,負(fù)電壓160~200 V。溶液溫度以室溫為宜,溫度變化范圍較寬,微弧氧化工藝流程簡(jiǎn)單;
2)微弧氧化膜層達(dá)到了以下技術(shù)指標(biāo):氧化膜層厚度20~120μm;氧化膜致密層硬度(HV)>900;致密層耐磨,磨損率<10-4mm3/(N·m);鹽霧試驗(yàn)時(shí)間>96 h;濕熱試驗(yàn)時(shí)間>10個(gè)周期;
3)微弧氧化技術(shù)與陽極氧化技術(shù)相比,工藝流程較簡(jiǎn)單,條件要求較寬松,膜層性能優(yōu)于陽極氧化膜。
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