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退除銅及黃銅工件上鎳鍍層的“退鎳粉”

2012-11-30 09:53:18王宗雄
電鍍與涂飾 2012年10期
關(guān)鍵詞:黃銅鍍鎳鍍液

王宗雄

(寧波市電鍍行業(yè)協(xié)會(huì),浙江 寧波 315016)

退除銅及黃銅工件上鎳鍍層的“退鎳粉”

王宗雄

(寧波市電鍍行業(yè)協(xié)會(huì),浙江 寧波 315016)

介紹了一種退除銅及黃銅工件上鎳鍍層的退鎳粉配方(以配制1 kg為例):六水合硫酸鎳30 g,硫酸鈉435 g,硫氰酸銨30 g,苯并三氮唑5 g,防染鹽S(間硝基苯磺酸鈉)500 g。退鍍液的組成及操作條件為:退鍍粉120 g/L,濃硫酸60 mL/L,溫度25 ~ 75 °C,機(jī)械攪拌。退鍍流程主要包括化學(xué)除油、退鉻、退鎳和除黑膜。介紹了退鍍液的配制及維護(hù)方法。

銅;黃銅;鍍鎳;退鍍

Author’s address: Ningbo Electroplating Industry Association, Ningbo 315016, China

1 前言

電鍍鎳有單層和多層之分,在電鍍生產(chǎn)中占有相當(dāng)大的比例。由于鎳的化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定,為保護(hù)環(huán)境,禁止使用硝酸退鎳工藝,而用酸電解退鎳又嫌效率太低(特別是滾鍍件),退鍍效果也不十分理想。筆者通過實(shí)踐,開發(fā)了一種“退鎳粉”以替代傳統(tǒng)方法,在生產(chǎn)中收到良好的效果。該方法利用了化學(xué)反應(yīng)來退除銅及黃銅工件上的鍍鎳層,既避免了電化學(xué)方法退除鍍鎳層過程中低電流密度區(qū)難以退除干凈的弊病,又克服了傳統(tǒng)化學(xué)方法退除鎳速度太慢或腐蝕嚴(yán)重的缺點(diǎn),用戶反映不錯(cuò)?,F(xiàn)介紹如下。

2 退鎳粉的配方

1 kg退鎳粉中含六水合硫酸鎳30 g、硫酸鈉435 g、硫氰酸銨30 g、苯并三氮唑5 g、防染鹽S(即間硝基苯磺酸鈉)500 g,混合均勻即成產(chǎn)品。

3 退鎳粉的使用方法

退鍍液的組成及操作條件如下:

對(duì)于大件,采用聚乙烯或聚丙烯掛具,又或包塑的銅掛具。

退鍍液的配制方法如下:

(1) 在干凈的槽中注入3/4所需體積的冷水,小心地加入足量硫酸,并攪拌均勻,嚴(yán)防飛濺。

(2) 加入“退鎳粉”,攪拌至完全溶解。

(3) 加水到工作液面。

為了防止基體金屬腐蝕,要避免退鍍液受到氯化物污染。

對(duì)于新配溶液,35 °C時(shí)的退鍍速率為0.6 μm/min,而60 °C時(shí)可達(dá)1.5 μm/min。

4 退鍍工藝流程

(1) 化學(xué)除油。

(2) 流水清洗。

(3) 退鉻:常溫,在500 mL/L工業(yè)鹽酸溶液中或堿性溶液中陽極電解至鉻層退除干凈為止。

(4) 流水清洗。

(5) 退鎳:用退鍍液浸泡至工件表面呈深黑色為止,攪拌或翻動(dòng)工件可加快退鎳速度。

(6) 流水清洗。

(7) 除黑膜:室溫下,在200 g/L鉻酸酐溶液中或在含160 g/L鉻酸酐和40 g/L Na2SO4的溶液中進(jìn)行,也可在100 ~ 200 g/L的氰化鈉溶液中進(jìn)行,浸泡至深黑色膜退除干凈為止。

(8) 流水清洗。

5 退鍍液的維護(hù)

退鍍液使用一段時(shí)間后會(huì)失效,此時(shí)可加入1.0 ~2.5 g/L“退鎳粉”使其恢復(fù)退鍍能力。如果退鍍能力不能恢復(fù),則須重新配槽。

Nickel-stripping powder for removal of nickel coatings on copper and brass //


WANG Zong-xiong

A nickel-stripping powder for removing nickel coatings on copper and brass workpiece was introduced. 1 kg of the powder contains NiSO4·6H2O 30 g, Na2SO4435 g, NH4SCN 30 g, benzotriazole 5 g, and resist S (sodium 3-nitrobenzenesulfonate) 500 g. The composition of stripping bath and operation conditions are as follows: nickel-stripping powder 120 g/L, concentrated H2SO460 mL/L, temperature 25-75 °C, and mechanical agitation required. The stripping process flow mainly comprises chemical degreasing, chromium stripping, nickel stripping, and black film removing. The preparation and maintenance of stripping bath were presented.

copper; brass; nickel plating; stripping

TQ153.12

A

1004 – 227X (2012) 10 – 0025 – 02

2012–03–09

王宗雄(1937–),男,浙江紹興人,中專,工程師,主要從事電鍍工藝、電鍍助劑的研發(fā)。

作者聯(lián)系方式:(E-mail) nbeaw@126.com,(Tel) 0574–87395506。

[ 編輯:溫靖邦 ]

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