韓穎超,李紅梅,邱景輝
(哈爾濱工業(yè)大學(xué) 微波與天線技術(shù)研究所,哈爾濱 150001)
爆炸磁通量壓縮發(fā)生器(Explosive Magnetic Flux Compression Generator,MFCG 或FCG)是通過(guò)炸藥爆炸驅(qū)動(dòng)電樞向外膨脹,對(duì)磁場(chǎng)同軸均勻壓縮,把化學(xué)能轉(zhuǎn)換為電能的一種一次性脈沖產(chǎn)生裝置。MFCG 具有結(jié)構(gòu)緊湊、質(zhì)量輕、脈沖上升時(shí)間短、儲(chǔ)能密度高(MJ/kg量級(jí))等特點(diǎn),使其在現(xiàn)代高能密度物理、強(qiáng)磁場(chǎng)物理、核爆模擬、軍事應(yīng)用等一系列研究上具有十分廣泛的應(yīng)用。射頻爆磁壓縮發(fā)生器(Radio Frequencies Explosive Magnetic Flux Compression Generator,RF MFCG)是在螺旋型MFCG的基礎(chǔ)之上加一小電容構(gòu)成的(如圖1所示)。附加上小電容后,電路中電流具有振蕩特性,裝置中的某些元件可視為輻射單元,從而使得RF MFCG 同時(shí)兼?zhèn)涿}沖產(chǎn)生和輻射功能。
圖1 射頻爆磁壓縮發(fā)生器結(jié)構(gòu)示意Fig.1 Structure of RE MFCG
RF MFCG正處于不斷發(fā)展和完善中。其中一個(gè)主要問(wèn)題是能量轉(zhuǎn)換效率。影響RF MFCG 能量轉(zhuǎn)換效率的因素很多,磁通損失是其中最主要的原因。造成磁通損失的原因也很多,諸如趨膚深度、跳匝問(wèn)題等。文中逐一對(duì)這些造成磁通損失的原因進(jìn)行了詳細(xì)分析,給出了減小磁通損耗、提高能量轉(zhuǎn)換效率的方法。
實(shí)際導(dǎo)體電導(dǎo)率都為有限值。在發(fā)生器運(yùn)行過(guò)程中,由于趨膚效應(yīng)的存在,一部分磁通會(huì)滲透到定子線圈和電樞內(nèi)部,這部分磁通在RF MFCG工作過(guò)程中得不到壓縮。如果導(dǎo)體的尺寸太小,甚至?xí)l(fā)生磁場(chǎng)擴(kuò)散到導(dǎo)體外部的情形,造成更大的磁通泄漏。電導(dǎo)率為常值的導(dǎo)體中趨膚深度為:
式中:ω為脈沖頻率;μ為導(dǎo)體材料的磁導(dǎo)率;σ為電導(dǎo)率。τs為趨膚時(shí)間:
發(fā)生器空腔壓縮磁場(chǎng)的時(shí)間遠(yuǎn)小于τs,磁場(chǎng)才能增大。這要求壓縮速度[1—2]:
如圖2 所示,炸藥爆炸后電樞受力膨脹與定子線圈短路接觸,接觸點(diǎn)為A。
圖2 短路接觸點(diǎn)A軌跡示意Fig.2 Track of the short dot A
設(shè)A 點(diǎn)運(yùn)動(dòng)速度為vA,軸向運(yùn)動(dòng)速度為炸藥爆轟波速vE,沿電樞橫截面圓的徑向運(yùn)動(dòng)速度為vT。以一匝定子線圈為例,則vA,vE,vT滿足圖3關(guān)系。
圖3 速度三角形和長(zhǎng)度三角形Fig.3 Velocity and length triangles
則vT為:
式中:θ為該匝定子線圈的繞線傾角;r 為定子線圈內(nèi)徑;P為螺距。
設(shè)總的趨膚效應(yīng)磁通損失為ΦS,擴(kuò)散到定子線圈和電樞中的磁通分別為ΦS1,ΦS2,則趨膚效應(yīng)磁通損失速率為[3]:
式中:μ0為真空磁導(dǎo)率;H 為磁場(chǎng)強(qiáng)度;δΦ1和δΦ2分別是定子線圈和電樞中的趨膚深度。
當(dāng)電流按指數(shù)規(guī)律上升時(shí),趨膚深度可表示為:
式中:等價(jià)頻率ω(t)=(2/I)dI/dt。對(duì)于RF MFCG的電感,可認(rèn)為L(zhǎng)∝1,則有:
式中:l為電樞長(zhǎng)度;S為定子線圈和電樞之間所圍的有效磁通面積??傻茫?/p>
設(shè)R 為電樞的外半徑,則趨膚效應(yīng)磁通損失速率為:
其等效電阻形式為:
RF MFCG 運(yùn)行過(guò)程中,膨脹的電樞和定子線圈的接觸點(diǎn)不連續(xù)滑動(dòng),而是發(fā)生接觸點(diǎn)跨過(guò)某段定子線圈的現(xiàn)象,稱為跳匝。引起跳匝的原因很多,包括電樞和定子線圈軸線不重合、電樞不對(duì)稱膨脹、電樞外表面不平滑、定子線圈內(nèi)切面的不規(guī)則以及電樞裝藥爆轟的邊緣效應(yīng)等。產(chǎn)生跳匝的條件如下[4—6]。
1)電樞軸線與定子線圈軸線平行但不重合,偏心為:
式中:α為爆炸管擴(kuò)張角。
2)電樞軸線與定子線圈軸線成一夾角β:
式中:l為電樞長(zhǎng)度。
3)電樞壁厚偏差:
式中:Wα為電樞壁厚;rg,rα分別為定子線圈、電樞的半徑。
4)起爆雷管軸線與電樞軸線偏差為:
5)裝置內(nèi)表面不對(duì)稱度為:
由跳匝問(wèn)題引起的磁通損失速率為:
接觸損失包括發(fā)生在電樞和定子線圈接觸面上的各種磁通損失。諸如擊穿損失、磁通延遲、匝間切換以及電樞與定子線圈短路點(diǎn)接觸不良等引起的損失等。
擊穿對(duì)RF MFCG 的能量轉(zhuǎn)換效率有十分嚴(yán)重的影響。在電樞和定子線圈的滑動(dòng)接觸點(diǎn)附近,如果電樞表面存在缺陷,比如同心度不好,則有可能在幾何接觸的前面形成擊穿(如圖4 所示),包含在這個(gè)體積內(nèi)的磁通就會(huì)全部損失掉[7]。
圖4 假設(shè)電樞表面存在正弦起伏時(shí)的擊穿示意Fig. 4 Schematic drawing of breakdown in case of existing sine fluctration on armature surface
設(shè)電樞表面的起伏具有簡(jiǎn)單正弦規(guī)律,起伏幅度為B,但高電壓的存在將加強(qiáng)這個(gè)幅度。設(shè)V是電壓,E 為該條件下?lián)舸﹫?chǎng)強(qiáng),則加強(qiáng)的幅度為V/E。這時(shí)電樞和定子線圈沒(méi)有幾何接觸但電接觸存在[7]。發(fā)生在定子線圈和電樞表面突起的每一次擊穿都使得包含在這個(gè)體積內(nèi)的磁通損失。引起的磁通損失速度為[3]:
Freeman估算擊穿等效電阻為Rvb[8]:
在RF MFCG裝置運(yùn)行過(guò)程中,趨膚效應(yīng)、跳匝、電擊穿引起磁通損耗是不可避免的。提高炸藥爆速可以減少磁通壓縮時(shí)間,從而減小因趨膚效應(yīng)引起的磁通損失,后續(xù)工作應(yīng)致力于此。電樞與定子的不對(duì)稱度越大,跳匝引起的磁通損耗越多??梢栽诠こ躺媳M量做到同心度好。由于電擊穿(特別是空腔擊穿)引起的磁通損耗非常大,因而在裝置工作過(guò)程中擊穿現(xiàn)象必須盡力排除。實(shí)驗(yàn)中通常以加大導(dǎo)線絕緣層厚度的方法來(lái)加以解決,但是導(dǎo)線絕緣層厚度增加勢(shì)必加大接觸電阻值,從而導(dǎo)致磁通損耗加大,所以裝置設(shè)計(jì)時(shí)必須在保證不擊穿條件下盡量減小導(dǎo)線絕緣層厚度。
通過(guò)對(duì)磁通損失的分析,減小或避免以上情況可以有效地減少磁通損失,從而提高RF MFCG的能量轉(zhuǎn)換效率。
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