鄭航 葉阿忠
基金項(xiàng)目:國(guó)家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目(72073030)
作者簡(jiǎn)介:鄭航(1996—),男,福建漳州人,福州大學(xué)經(jīng)濟(jì)與管理學(xué)院博士研究生,研究方向?yàn)榧夹g(shù)進(jìn)步與經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng);葉阿忠(1963—),男,福建三明人,博士,福州大學(xué)經(jīng)濟(jì)與管理學(xué)院教授、博士生導(dǎo)師,研究方向?yàn)榧夹g(shù)進(jìn)步與經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)。
摘 要:以《專利合作條約》中的國(guó)際檢索報(bào)告作為專利質(zhì)量的跨國(guó)比較載體,利用改進(jìn)的專利質(zhì)量測(cè)度模型修正由于政策因素導(dǎo)致的“引用膨脹”現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)對(duì)我國(guó)專利質(zhì)量更全面準(zhǔn)確的衡量。結(jié)果表明,我國(guó)高新技術(shù)領(lǐng)域?qū)@|(zhì)量逐年上升,但與技術(shù)發(fā)達(dá)國(guó)家之間仍存在較大差距,僅達(dá)到非中國(guó)質(zhì)量基準(zhǔn)的1/3。基于企業(yè)層面的回歸結(jié)果表明,研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量具有顯著正向影響,且這一結(jié)論經(jīng)過一系列內(nèi)生性和穩(wěn)健性檢驗(yàn)后依然成立,進(jìn)一步證實(shí)賦權(quán)ISR指數(shù)在識(shí)別專利質(zhì)量方面的有效性。異質(zhì)性分析結(jié)果表明,我國(guó)新能源及節(jié)能技術(shù)領(lǐng)域、資源與環(huán)境技術(shù)領(lǐng)域的專利質(zhì)量水平相對(duì)較高,而電子信息技術(shù)領(lǐng)域、生物與新醫(yī)藥技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新水平較為落后,是未來需要重點(diǎn)關(guān)注和扶植的對(duì)象。研究有助于政策制定者更準(zhǔn)確地了解我國(guó)高新技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展水平,明確與技術(shù)發(fā)達(dá)國(guó)家之間的差距,對(duì)于創(chuàng)新激勵(lì)政策(如專利補(bǔ)貼和稅收優(yōu)惠)制定和實(shí)施具有重要參考價(jià)值。
關(guān)鍵詞:專利質(zhì)量;跨國(guó)比較;專利合作條約
DOI:10.6049/kjjbydc.2023010023
中圖分類號(hào):G306
文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A
文章編號(hào):1001-7348(2024)11-0089-10
0 引言
自2010年頒布《全國(guó)專利事業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略(2011—2020年)》以來,我國(guó)采取專利補(bǔ)貼、稅收減免等一系列政策鼓勵(lì)專利申請(qǐng),使得近年來我國(guó)專利申請(qǐng)量呈爆炸式增長(zhǎng)。我國(guó)《專利合作條約》(PCT)申請(qǐng)量已連續(xù)3年排名世界第一(WIPO,2021),是名副其實(shí)的專利大國(guó)。然而,與專利申請(qǐng)量相對(duì)應(yīng)的研發(fā)投入?yún)s未見明顯增長(zhǎng),由此導(dǎo)致我國(guó)單位專利申請(qǐng)投入不升反降。Griliches[1]指出,專利申請(qǐng)取決于研發(fā)投入和專利的經(jīng)濟(jì)價(jià)值超過其成本的預(yù)期。依據(jù)這一觀點(diǎn),通過補(bǔ)貼等方式降低專利申請(qǐng)成本可能會(huì)激勵(lì)低質(zhì)量專利申請(qǐng),由此損害整體專利質(zhì)量。鑒于此,國(guó)內(nèi)外學(xué)者構(gòu)建并應(yīng)用一系列專利質(zhì)量測(cè)度模型和方法,探究中國(guó)專利質(zhì)量的真實(shí)水平。
早期學(xué)者多基于專利質(zhì)量?jī)?nèi)涵視角,從專利的技術(shù)性、法定性和商業(yè)性3個(gè)方面構(gòu)建評(píng)價(jià)體系,并結(jié)合德爾菲法、主成分分析法和熵權(quán)法等方法對(duì)各級(jí)指標(biāo)進(jìn)行賦權(quán),進(jìn)而測(cè)度專利質(zhì)量水平。如蔡中華等(2020)基于國(guó)家層面,圍繞技術(shù)質(zhì)量和文本質(zhì)量?jī)蓚€(gè)維度,選取7類指標(biāo)構(gòu)建專利質(zhì)量評(píng)價(jià)體系,并使用結(jié)構(gòu)熵權(quán)法確定指標(biāo)權(quán)重,對(duì)我國(guó)“一帶一路”合作伙伴的專利申請(qǐng)質(zhì)量進(jìn)行測(cè)度研究;宋河發(fā)等[2]基于區(qū)域?qū)用?,從?chuàng)造質(zhì)量、撰寫質(zhì)量、審查質(zhì)量和經(jīng)濟(jì)質(zhì)量4個(gè)方面構(gòu)建專利質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)體系,并采用回歸分析方法對(duì)各指標(biāo)進(jìn)行賦權(quán);劉鑫和趙婷微[3]基于產(chǎn)業(yè)層面,從技術(shù)性、制度性和全球性3個(gè)維度構(gòu)建專利質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)體系,并結(jié)合層次分析法對(duì)各層級(jí)影響因子進(jìn)行賦權(quán),最終實(shí)現(xiàn)對(duì)專利質(zhì)量的量化測(cè)度;孫振嘉和張向先[4]基于企業(yè)層面,使用分層模糊推理方法,從專利數(shù)量、專利質(zhì)量、技術(shù)能力和發(fā)展能力4個(gè)層面構(gòu)建企業(yè)專利質(zhì)量評(píng)價(jià)體系;孫玉濤和欒倩(2016)以高校專利為研究對(duì)象,基于技術(shù)發(fā)明、申請(qǐng)審查和授權(quán)保護(hù)3個(gè)階段,從技術(shù)質(zhì)量和經(jīng)濟(jì)質(zhì)量?jī)蓚€(gè)維度構(gòu)建專利質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)體系,并使用均方差決策法確定指標(biāo)權(quán)重;楊登才和李國(guó)正[5]同樣選擇高校作為研究對(duì)象,結(jié)合熵權(quán)法,從數(shù)量類型、質(zhì)量類型和價(jià)值類型3個(gè)層面衡量高校專利質(zhì)量。
然而,通過構(gòu)建指標(biāo)體系測(cè)度專利質(zhì)量的方法存在以下缺陷:首先,指標(biāo)選取存在主觀性,缺少被大多數(shù)學(xué)者公認(rèn)的權(quán)威評(píng)價(jià)指標(biāo);其次,不同賦權(quán)方法各有優(yōu)劣,對(duì)同一指標(biāo)體系使用不同賦權(quán)方法可能出現(xiàn)差異化結(jié)果;最后,受限于指標(biāo)跨國(guó)測(cè)度差異以及數(shù)據(jù)可得性,已有研究使用的指標(biāo)體系只能測(cè)度本國(guó)專利質(zhì)量的絕對(duì)水平,無法測(cè)度專利質(zhì)量相較于其它國(guó)家的相對(duì)水平。隨著研究的深入,學(xué)者們發(fā)現(xiàn)相較于專利的法定性和商業(yè)性指標(biāo),技術(shù)性指標(biāo)能夠更準(zhǔn)確、客觀地反映專利質(zhì)量,這是由專利的本質(zhì)決定的。技術(shù)是專利的本質(zhì)所在,專利的技術(shù)質(zhì)量越高,其獲得法律授權(quán)的機(jī)率越大,相應(yīng)的專利效力越穩(wěn)定,專利實(shí)施帶來的經(jīng)濟(jì)利益也就越大。其中,被引數(shù)作為專利技術(shù)性的代表性指標(biāo),越來越受到學(xué)者們重視。Reitzig[6]、Gambardella等[7]、Rassenfosse&Jaffe[8]、Harhoff等[9]認(rèn)為被引數(shù)是專利質(zhì)量的最佳衡量指標(biāo),即被引數(shù)能夠較好地反映發(fā)明專利的技術(shù)價(jià)值和經(jīng)濟(jì)價(jià)值;趙子夜等[10]使用專利被引用數(shù)衡量企業(yè)專利質(zhì)量;江飛濤等[11]進(jìn)一步使用語義引用方法構(gòu)建企業(yè)專利質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)體系。然而,使用被引數(shù)作為專利質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)的一大弊端在于無法實(shí)現(xiàn)跨國(guó)比較。首先,大部分專利申請(qǐng)人傾向于選擇更有價(jià)值的專利在國(guó)外進(jìn)行保護(hù),因此無法直接比較國(guó)內(nèi)外專利申請(qǐng)信息[12];其次,不同國(guó)家的異質(zhì)審查導(dǎo)致各國(guó)專利局之間的引文計(jì)數(shù)存在顯著差異[13];最后,專利審查員傾向于引用本國(guó)專利[14]。
《專利合作條約》(PCT)為實(shí)現(xiàn)跨國(guó)專利質(zhì)量的比較提供了條件。在PCT制度下,各國(guó)專利局充當(dāng)國(guó)際檢索機(jī)構(gòu)(ISA),所有審查員在起草國(guó)際搜索報(bào)告(ISR)時(shí)遵循世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織(WIPO)制定的相同審查規(guī)則。Boeing&Mueller[15]通過完全依賴PCT專利申請(qǐng)過程生成的國(guó)際搜索報(bào)告(ISR)中的國(guó)外引用情況確保專利質(zhì)量的跨國(guó)可比性。一般而言,國(guó)外引用被認(rèn)為是衡量高質(zhì)量專利的標(biāo)準(zhǔn),因?yàn)槠淠軌蚍从硨@膰?guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。本國(guó)對(duì)外國(guó)專利的引用比例較高,表明外國(guó)發(fā)明更接近技術(shù)前沿,本國(guó)更傾向于參考和利用外國(guó)研發(fā)成果[16]。進(jìn)一步地,Boeing&Mueller[17]認(rèn)為,雖然僅考慮國(guó)外引用可以排除國(guó)家政策這一干擾因素,但國(guó)內(nèi)引用和自我引用在衡量專利質(zhì)量方面同樣具有不可或缺的意義。首先,國(guó)內(nèi)引用更能衡量一個(gè)經(jīng)濟(jì)體的技術(shù)自立程度,更多的國(guó)內(nèi)引用說明對(duì)國(guó)內(nèi)現(xiàn)有技術(shù)的依賴性強(qiáng),這可能對(duì)應(yīng)更高的發(fā)展水平。其次,自我引用考察的是組織內(nèi)部的后續(xù)發(fā)明,自我引用更多的企業(yè)能夠從早期研發(fā)投資中獲得適當(dāng)回報(bào),實(shí)現(xiàn)累積創(chuàng)新[18]。因此,Boeing&Mueller[17]在ISR指數(shù)模型基礎(chǔ)上進(jìn)一步納入國(guó)內(nèi)引用和自我引用信息,通過考慮所有3種引用類型實(shí)現(xiàn)對(duì)專利質(zhì)量更細(xì)致的刻畫。
Boeing&Mueller[17]研究表明,僅使用國(guó)外引用作為衡量指標(biāo)時(shí),測(cè)度結(jié)果能夠獨(dú)立于國(guó)家政策之外,具有較強(qiáng)的跨國(guó)可比性。同時(shí)考慮國(guó)內(nèi)引用和自我引用后,測(cè)度結(jié)果出現(xiàn)偏倚,且更可能是向上偏倚。究其原因,中國(guó)的專利政策不僅促使專利數(shù)量猛增,也會(huì)激勵(lì)低質(zhì)量專利申請(qǐng),從而產(chǎn)生“引用膨脹”現(xiàn)象,即如果提交更多引用現(xiàn)有技術(shù)的專利申請(qǐng),同時(shí)被引專利整體質(zhì)量水平下降,那么引用作為質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)的解釋力便會(huì)減弱[19]。鑒于此,本文通過賦權(quán)方式改進(jìn)ISR指數(shù)模型,在充分利用不同引用類型信息的基礎(chǔ)上修正由于政策因素導(dǎo)致的“引用膨脹”現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)對(duì)專利質(zhì)量的精準(zhǔn)測(cè)度。
本文邊際貢獻(xiàn)概括如下:第一,梳理國(guó)內(nèi)外專利質(zhì)量測(cè)度方法的發(fā)展脈絡(luò),總結(jié)各類測(cè)度模型的優(yōu)劣勢(shì)。第二,在已有研究基礎(chǔ)上提出改進(jìn)的跨國(guó)專利質(zhì)量測(cè)度模型?;诨貧w分析方法,對(duì)國(guó)外引用、國(guó)內(nèi)引用和自我引用3類引用指標(biāo)進(jìn)行賦權(quán),從而在一定程度上修正“引用膨脹”現(xiàn)象對(duì)專利質(zhì)量測(cè)度的影響。第三,對(duì)中國(guó)高新技術(shù)整體及細(xì)分領(lǐng)域?qū)@|(zhì)量水平進(jìn)行測(cè)度,有利于政策制定者更準(zhǔn)確地了解我國(guó)高新技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)發(fā)展水平,明確與技術(shù)發(fā)達(dá)國(guó)家之間的差距,并為創(chuàng)新激勵(lì)政策(如專利補(bǔ)貼和稅收優(yōu)惠)制定和實(shí)施提供參考。第四,從企業(yè)層面窺探高新技術(shù)企業(yè)采取技術(shù)創(chuàng)新行動(dòng)更真實(shí)的決策動(dòng)機(jī)和潛在驅(qū)動(dòng)機(jī)制,可為企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新決策信息關(guān)注與參照信息解讀提供指導(dǎo),為高新技術(shù)企業(yè)發(fā)展提供思路與經(jīng)驗(yàn)借鑒。
1 PCT系統(tǒng)簡(jiǎn)介
《專利合作條約》(PCT)是有關(guān)專利的國(guó)際條約。根據(jù)PCT規(guī)定,專利申請(qǐng)人可以通過PCT途徑遞交國(guó)際專利申請(qǐng),向多個(gè)國(guó)家申請(qǐng)專利。在專利申請(qǐng)階段,PCT系統(tǒng)需要申請(qǐng)人提供申請(qǐng)技術(shù)的相關(guān)參考文件,在申請(qǐng)描述中應(yīng)包含:就申請(qǐng)人所知,可被視為對(duì)發(fā)明的理解、搜索和審查有用的背景技術(shù),并且引用反映該技術(shù)的文獻(xiàn)(WIPO,2016)。在專利審查階段,來自各國(guó)專利局的審查員遵循WIPO統(tǒng)一審查規(guī)則對(duì)申請(qǐng)報(bào)告進(jìn)行審核,并出具國(guó)際檢索報(bào)告(ISR)。ISR中包含審查員精選的參考文獻(xiàn),是對(duì)專利質(zhì)量的適當(dāng)衡量。相較于其它專利數(shù)據(jù)庫,PCT系統(tǒng)作為專利質(zhì)量的跨國(guó)比較載體具有以下優(yōu)勢(shì):①ISR中包含的參考文獻(xiàn)是第三方(審查員)對(duì)專利技術(shù)的評(píng)估,審查員的引用與專利價(jià)值的相關(guān)性比申請(qǐng)人的引用更高;②由于WIPO制定了嚴(yán)格的檢索規(guī)則,專利審查員對(duì)外國(guó)現(xiàn)有技術(shù)的引用偏見得到充分解決,雖然不能排除個(gè)別審查員對(duì)WIPO規(guī)定的特殊偏離,但也沒有跡象表明個(gè)別國(guó)際審查機(jī)構(gòu)有系統(tǒng)性偏離[17]。
基于此,本文選擇PCT系統(tǒng)內(nèi)生成的國(guó)際檢索報(bào)告(ISR)進(jìn)行專利質(zhì)量的跨國(guó)比較。具體地,本文從WIPO官網(wǎng)人工檢索和整理2011—2019年P(guān)CT成員國(guó)專利申請(qǐng)數(shù)據(jù),并采用IPC分類中的3級(jí)分類號(hào)對(duì)專利進(jìn)行分類,將專利細(xì)分為8類高新技術(shù)領(lǐng)域,具體包括電子信息技術(shù)(Field_1)、生物與新醫(yī)藥技術(shù)(Field_2)、航空航天技術(shù)(Field_3)、新材料技術(shù)(Field_4)、高技術(shù)服務(wù)業(yè)(Field_5)、新能源及節(jié)能技術(shù)(Field_6)、資源與環(huán)境技術(shù)(Field_7)和先進(jìn)制造與自動(dòng)化(Field_8)。選擇高新技術(shù)領(lǐng)域作為專利質(zhì)量測(cè)度對(duì)象的原因在于,我國(guó)在嵌入全球價(jià)值鏈進(jìn)程中,隨著經(jīng)濟(jì)與技術(shù)水平的提升,與技術(shù)發(fā)達(dá)國(guó)家之間的關(guān)系逐漸由錯(cuò)位合作向同位競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)變,高新技術(shù)不自主成為阻礙中國(guó)進(jìn)一步發(fā)展的關(guān)鍵因素。在國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)、國(guó)際關(guān)系不確定性加劇以及單邊主義、貿(mào)易保護(hù)主義、逆全球化思潮暗流涌動(dòng)的形勢(shì)下,不自主的高新技術(shù)容易被發(fā)達(dá)國(guó)家作為限制中國(guó)和惡意競(jìng)爭(zhēng)的戰(zhàn)略武器。中共十九屆五中全會(huì)提出,堅(jiān)持創(chuàng)新在我國(guó)現(xiàn)代化建設(shè)全局中的核心地位,把科技自立自強(qiáng)作為國(guó)家發(fā)展的戰(zhàn)略支撐。實(shí)現(xiàn)科技自立自強(qiáng)的當(dāng)務(wù)之急是要解決一批“卡脖子”技術(shù)問題,將核心技術(shù)自主權(quán)牢牢掌握在自己手中。攻克“卡脖子”技術(shù)不僅對(duì)于推動(dòng)經(jīng)濟(jì)形態(tài)高級(jí)化轉(zhuǎn)型具有重要意義,還是支撐產(chǎn)業(yè)升級(jí)、引領(lǐng)未來發(fā)展的科學(xué)技術(shù)儲(chǔ)備,是國(guó)家發(fā)展的戰(zhàn)略支撐。近年來,受制于以美國(guó)為首的發(fā)達(dá)國(guó)家技術(shù)封鎖,我國(guó)高新技術(shù)領(lǐng)域面臨被“卡脖子”的境況。高新技術(shù)在被“卡脖子”之前往往有一定跡象顯現(xiàn),如技術(shù)數(shù)量與質(zhì)量落后等,密切關(guān)注高新技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展態(tài)勢(shì)并對(duì)相關(guān)專利質(zhì)量進(jìn)行識(shí)別和測(cè)度顯得緊迫而必要。
2 專利質(zhì)量測(cè)度模型
基于Boeing&Mueller[17]的研究,本文構(gòu)建如下跨國(guó)專利質(zhì)量測(cè)度模型:
其中,Nt,k為分析組(目標(biāo)國(guó)家)t年k行業(yè)的PCT專利申請(qǐng)總數(shù),Mt,k為比較組(除目標(biāo)國(guó)家外的其它國(guó)家)t年k行業(yè)的PCT專利申請(qǐng)總數(shù);Citationsi為專利i在指定時(shí)間窗口內(nèi)(3年)被國(guó)外、國(guó)內(nèi)和自我引用總數(shù)。該指數(shù)模型能夠反映目標(biāo)國(guó)家與世界其它國(guó)家專利質(zhì)量的相對(duì)定位。
雖然上述模型充分利用了國(guó)外、國(guó)內(nèi)和自我引用信息,但由前文分析可知,相較于國(guó)外引用指標(biāo)具有政策獨(dú)立性,國(guó)內(nèi)和自我引用指標(biāo)易受到政策激勵(lì)影響從而產(chǎn)生“引用膨脹”現(xiàn)象,若直接使用國(guó)內(nèi)和自我引用數(shù)量作為專利質(zhì)量測(cè)度指標(biāo)可能導(dǎo)致度量結(jié)果偏倚?;诖?,本文通過賦權(quán)方式調(diào)整3類引用信息的貢獻(xiàn)度,以期在充分利用引用信息的基礎(chǔ)上,弱化政策因素的干擾。
考慮到3類引用信息均能在一定程度上體現(xiàn)一個(gè)國(guó)家的知識(shí)和技術(shù)產(chǎn)出水平,但其對(duì)產(chǎn)出水平的影響程度存在差異,本文將3類引用信息對(duì)國(guó)家知識(shí)和技術(shù)產(chǎn)出水平進(jìn)行回歸,通過回歸系數(shù)大小捕捉不同引用信息的相對(duì)貢獻(xiàn)度。回歸模型如式(2)。
Outputct=δ0+δ1Foreignct+δ2Domesticct+δ3Selfct+υc+τt+εct(2)
其中,Outputct為國(guó)家c在t年的知識(shí)和技術(shù)產(chǎn)出水平,采用全球創(chuàng)新指數(shù)中的知識(shí)和技術(shù)產(chǎn)出指數(shù)衡量,數(shù)據(jù)來源于歷年《全球創(chuàng)新指數(shù)報(bào)告》;Foreignct、Domesticct、Selfct分別表示國(guó)家c在t年申請(qǐng)的PCT專利在指定時(shí)間窗口內(nèi)被國(guó)外、國(guó)內(nèi)和自我引用總數(shù)量;τt、υc分別表示年份固定效應(yīng)和國(guó)家固定效應(yīng)。δ1、δ2、δ3為3類引用信息的貢獻(xiàn)度,則國(guó)外、國(guó)內(nèi)和自我引用信息的權(quán)重分別為:δ*1=δ1δ1+δ2+δ3,δ*2=δ2δ1+δ2+δ3,δ*3=δ3δ1+δ2+δ3。
賦權(quán)跨國(guó)專利質(zhì)量測(cè)度模型如式(3)。
其中,Citations*i=δ*1Foreigni+δ*2Domestici+δ*3Selfi。估計(jì)得到δ*1=0.62,δ*2=0.27,δ*3=0.11(限于篇幅,未展示δ*1、δ*2、δ*3的估計(jì)過程)。
最后,將ISR指數(shù)在不同行業(yè)領(lǐng)域加權(quán)平均,得到國(guó)家層面的年度專利質(zhì)量水平,如式(4)。
3 實(shí)證分析
3.1 專利質(zhì)量描述性分析
表1展示了中國(guó)高新技術(shù)領(lǐng)域PCT專利質(zhì)量整體測(cè)度結(jié)果。其中,F(xiàn)指數(shù)、FD指數(shù)和FDS指數(shù)使用未賦權(quán)的測(cè)度方法,ISR指數(shù)使用賦權(quán)測(cè)度方法。具體地,F(xiàn)指數(shù)僅考慮國(guó)外引用信息,F(xiàn)D指數(shù)同時(shí)考慮國(guó)外和本國(guó)引用信息,F(xiàn)DS指數(shù)同時(shí)考慮國(guó)外、本國(guó)和自我引用信息,ISR指數(shù)在同時(shí)考慮3種引用類型的基礎(chǔ)上進(jìn)行賦權(quán)??梢园l(fā)現(xiàn),未賦權(quán)的F指數(shù)、FD指數(shù)和FDS指數(shù)之間差異顯著。F指數(shù)均值為0.348,且隨著時(shí)間推移,呈緩慢上升趨勢(shì),并在2019年達(dá)到峰值0.373。就絕對(duì)值而言,中國(guó)PCT專利質(zhì)量指數(shù)與1相差甚遠(yuǎn),表明中國(guó)與對(duì)照組國(guó)家之間的差距十分明顯。FD指數(shù)、FDS指數(shù)均值分別為0.519和0.540,顯著高于F指數(shù)。Boeing&Mueller[17]認(rèn)為,中國(guó)專利政策的激勵(lì)作用引致“引文膨脹”現(xiàn)象,導(dǎo)致FD指數(shù)和FDS指數(shù)偏高,無法準(zhǔn)確反映中國(guó)PCT專利質(zhì)量的真實(shí)水平。鑒于此,本文使用賦權(quán)ISR指數(shù)重新測(cè)度中國(guó)PCT專利質(zhì)量。結(jié)果顯示,ISR指數(shù)均值為0.380,并在2019年達(dá)到峰值0.447,且增速較為平緩。
為更加直觀地了解中國(guó)與技術(shù)發(fā)達(dá)國(guó)家之間的差距,本文使用ISR指數(shù)測(cè)度全球主要?jiǎng)?chuàng)新強(qiáng)國(guó)(美國(guó)、日本、韓國(guó)、德國(guó)、英國(guó)、法國(guó))的PCT專利質(zhì)量水平,結(jié)果如表2所示??梢园l(fā)現(xiàn),2011—2019年,美國(guó)專利質(zhì)量指數(shù)均值為1.285,顯著高于其它國(guó)家,表明美國(guó)專利質(zhì)量總體水平處于世界領(lǐng)先地位。專利質(zhì)量水平位居第二的是英國(guó),ISR指數(shù)均值為1.114,其后依次為韓國(guó)(0.886)、德國(guó)(0.736)、法國(guó)(0.679)、日本(0.606)、中國(guó)(0.380)。此外,僅美國(guó)、英國(guó)的ISR指數(shù)大于1,即這兩個(gè)國(guó)家的專利質(zhì)量水平高于對(duì)照組,其余國(guó)家低于對(duì)照組。從具體年份看,美國(guó)、英國(guó)的專利質(zhì)量水平始終保持對(duì)其它國(guó)家的領(lǐng)先,韓國(guó)、德國(guó)呈交替領(lǐng)先的發(fā)展態(tài)勢(shì),中國(guó)始終處于最末端。從專利質(zhì)量指數(shù)的增速看,2011—2019年中國(guó)ISR指數(shù)平均增速最快(3.21%),日本、德國(guó)的平均增速為負(fù)值(-5.61%和-0.70%),表明其專利質(zhì)量不升反降。總體而言,中國(guó)的專利質(zhì)量水平與發(fā)達(dá)國(guó)家仍有較大差距,但差距逐年縮小。
進(jìn)一步地,本文分別測(cè)度高新技術(shù)細(xì)分領(lǐng)域(電子信息技術(shù)領(lǐng)域(Field_1)、生物與新醫(yī)藥技術(shù)領(lǐng)域(Field_2)、航空航天技術(shù)領(lǐng)域(Field_3)、新材料技術(shù)領(lǐng)域(Field_4)、高技術(shù)服務(wù)業(yè)領(lǐng)域(Field_5)、新能源及節(jié)能技術(shù)領(lǐng)域(Field_6)、資源與環(huán)境技術(shù)領(lǐng)域(Field_7)、先進(jìn)制造與自動(dòng)化領(lǐng)域(Field_8))的PCT專利質(zhì)量水平,結(jié)果如表3所示??梢园l(fā)現(xiàn),2011—2019年新能源及節(jié)能技術(shù)領(lǐng)域、資源與環(huán)境技術(shù)領(lǐng)域的專利質(zhì)量指數(shù)均值分別為0.386和0.385,顯著領(lǐng)先于其余領(lǐng)域,其后依次為航空航天技術(shù)領(lǐng)域(0.379)、高技術(shù)服務(wù)業(yè)領(lǐng)域(0.374)、新材料技術(shù)領(lǐng)域(0.370)、先進(jìn)制造與自動(dòng)化領(lǐng)域(0.365)、電子信息技術(shù)領(lǐng)域(0.361)、生物與新醫(yī)藥技術(shù)領(lǐng)域(0.346),表明我國(guó)新能源和環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域的專利質(zhì)量較其它領(lǐng)域更高,而生物醫(yī)藥領(lǐng)域的專利質(zhì)量有待進(jìn)一步提升。從具體年份看,高新技術(shù)各細(xì)分領(lǐng)域的專利質(zhì)量水平交替領(lǐng)先,呈現(xiàn)出“百花齊放”的發(fā)展態(tài)勢(shì)。從專利質(zhì)量指數(shù)的增速看,高新技術(shù)各細(xì)分領(lǐng)域?qū)@|(zhì)量水平增速的均值都為正,且差距不大。此外,各細(xì)分領(lǐng)域的ISR指數(shù)均小于1,說明高新技術(shù)各細(xì)分領(lǐng)域的專利質(zhì)量水平均低于對(duì)照組,僅達(dá)到非中國(guó)質(zhì)量基準(zhǔn)的1/3。
3.2 指標(biāo)有效性檢驗(yàn)
為進(jìn)一步檢驗(yàn)本文構(gòu)造的ISR指標(biāo)在衡量專利質(zhì)量方面的有效性,選取中國(guó)滬深A(yù)股上市高新技術(shù)企業(yè)作為研究對(duì)象,將專利質(zhì)量測(cè)度細(xì)化至企業(yè)層面,并構(gòu)建相應(yīng)模型,以考察ISR指標(biāo)的可靠性。
3.2.1 研究樣本與數(shù)據(jù)來源
本文選取2011—2019年中國(guó)滬深A(yù)股上市高新技術(shù)企業(yè)作為研究樣本,觀測(cè)對(duì)象根據(jù)以下標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行篩選:①剔除ST、*ST企業(yè);②剔除2011年以后上市的企業(yè);③剔除主要變量數(shù)據(jù)缺失或不全的企業(yè)。經(jīng)過篩選,最終獲得8 266個(gè)觀測(cè)值。相關(guān)數(shù)據(jù)來自世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織官網(wǎng)、國(guó)泰安數(shù)據(jù)庫以及企業(yè)發(fā)布的報(bào)告。此外,為避免極端異常值對(duì)估計(jì)結(jié)果的影響,本文對(duì)變量進(jìn)行1%和99%分位的縮尾處理。
3.2.2 基準(zhǔn)回歸
在Griliches[1]研究的基礎(chǔ)上,本文認(rèn)為企業(yè)當(dāng)前和過去的研發(fā)投入水平會(huì)影響其知識(shí)產(chǎn)出,而專利質(zhì)量提升又依托于有經(jīng)濟(jì)價(jià)值的知識(shí)的增加,因此研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量具有顯著影響效應(yīng)。具體而言,知識(shí)K·的產(chǎn)生取決于研發(fā)投入R&D,即K·=αR&D+μ,專利質(zhì)量P取決于K·,即P=βK·+ν,其中隨機(jī)誤差項(xiàng)μ和ν相互獨(dú)立,進(jìn)而得到P=αβR&D+βμ+ν。這一結(jié)論得到許多學(xué)者認(rèn)可,如鄧恒和王含[20]研究表明,專利質(zhì)量與技術(shù)研發(fā)水平之間具有較強(qiáng)的相關(guān)性,而技術(shù)研發(fā)水平又取決于研發(fā)投入,即高質(zhì)量專利往往意味著高研發(fā)投入;周建明等[21]認(rèn)為研發(fā)投入水平直接決定創(chuàng)新成果質(zhì)量,也決定專利申請(qǐng)質(zhì)量;楊亭亭等[22]研究發(fā)現(xiàn),研發(fā)強(qiáng)度對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量具有顯著正向影響;曹雅迪等[23]進(jìn)一步分析表明,加大企業(yè)研發(fā)投入力度是提高企業(yè)專利質(zhì)量的有效措施;洪敏等[24]、蔡祖國(guó)(2016)、董亮和方中秀(2019)認(rèn)為研發(fā)投入強(qiáng)度不足是導(dǎo)致低質(zhì)量專利不斷出現(xiàn)的主要原因;胡磊等[25]研究證實(shí),企業(yè)創(chuàng)新投入的減少會(huì)導(dǎo)致專利質(zhì)量降低。
基于上述分析,本文構(gòu)建如下基準(zhǔn)模型:
ISRht=α0+γR&Dht+Xhtβ+φk+τt+εht(5)
其中,ISRht為企業(yè)h在t年的專利質(zhì)量指數(shù),R&Dht為企業(yè)h在t年的研發(fā)投入,Xht為其它可能影響專利質(zhì)量的控制變量。資源基礎(chǔ)觀認(rèn)為,企業(yè)基本特征和能力對(duì)專利質(zhì)量具有顯著影響效應(yīng)。利益相關(guān)者理論和高階理論認(rèn)為,包括政府、債權(quán)人、企業(yè)高管和董事在內(nèi)的企業(yè)利益相關(guān)者會(huì)因價(jià)值訴求和管理能力差異而對(duì)專利決策產(chǎn)生干預(yù)。因此,本文將表征企業(yè)特征和能力的規(guī)模(Size)、價(jià)值(Value)和成長(zhǎng)性(Growth)以及表征企業(yè)利益相關(guān)者的債權(quán)融資(Debt)、政府補(bǔ)貼(Subsidies)、高管激勵(lì)(Incentive)和獨(dú)立董事(Director)作為控制變量納入回歸模型中,各變量定義如表4所示。h、t、k分別表示企業(yè)、年份和行業(yè),φk、τt分別表示行業(yè)固定效應(yīng)和年份固定效應(yīng)。若R&D的系數(shù)γ顯著為正,則認(rèn)為ISR指數(shù)是衡量專利質(zhì)量的有效指標(biāo)。
表5為面板固定效應(yīng)模型的OLS估計(jì)結(jié)果。結(jié)果顯示,模型(1)中R&D的估計(jì)系數(shù)為1.145,在1%的水平上顯著為正,即研發(fā)投入每增加1%,F(xiàn)指數(shù)就會(huì)增加0.011。這一結(jié)果證實(shí)了研發(fā)投入與專利質(zhì)量之間具有正相關(guān)關(guān)系,表明F指數(shù)是衡量專利質(zhì)量的有效指標(biāo)。模型(2)(3)中R&D的估計(jì)系數(shù)分別為0.459和0.527,在10%的水平上均不顯著,即納入國(guó)內(nèi)和自我引用信息后,專利質(zhì)量與研發(fā)投入之間的相關(guān)性有所下降,系數(shù)γ接近于0且不顯著。進(jìn)一步地,本文將國(guó)內(nèi)引用(D指數(shù))和自我引用(S指數(shù))分別獨(dú)立作為因變量對(duì)研發(fā)投入進(jìn)行回歸分析,發(fā)現(xiàn)R&D的系數(shù)仍不顯著,表明D指數(shù)和S指數(shù)無法對(duì)專利質(zhì)量進(jìn)行有效度量。模型(6)中R&D的估計(jì)系數(shù)為1.467,在1%的水平上顯著為正,即研發(fā)投入每增加1%,ISR指數(shù)會(huì)增加0.015,表明ISR指數(shù)是衡量專利質(zhì)量的有效指標(biāo)。控制變量中,企業(yè)規(guī)模和政府補(bǔ)貼對(duì)專利質(zhì)量具有顯著促進(jìn)作用,說明規(guī)模因素對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量提升具有積極影響,政府補(bǔ)貼通過降低申請(qǐng)成本激勵(lì)相關(guān)專利申請(qǐng)。同時(shí),高管激勵(lì)對(duì)專利質(zhì)量提升也具有一定促進(jìn)作用,原因在于激勵(lì)機(jī)制能夠充分調(diào)動(dòng)高管創(chuàng)新積極性,進(jìn)而有意愿開展更為活躍的創(chuàng)新實(shí)踐。
3.3 內(nèi)生性檢驗(yàn)
企業(yè)研發(fā)投入與專利質(zhì)量之間可能存在一定程度的內(nèi)生性干擾:①盡管本文控制了可能影響專利質(zhì)量的一系列因素,但難免存在遺漏變量的可能;②專利質(zhì)量較高的企業(yè)可能具有更為積極的研發(fā)動(dòng)機(jī),導(dǎo)致回歸方程存在反向因果問題;③排除未在PCT系統(tǒng)上申請(qǐng)專利的企業(yè)樣本可能存在一定程度的選擇偏誤。為此,本文采用工具變量估計(jì)緩解遺漏變量和反向因果問題,采用Heckman兩步法緩解樣本選擇偏誤問題。
3.3.1 工具變量估計(jì)
考慮到研發(fā)投入滯后期與當(dāng)期水平存在一定程度的相關(guān)性,而研發(fā)投入滯后期對(duì)當(dāng)期專利質(zhì)量不存在顯著直接影響,因此選擇企業(yè)研發(fā)投入滯后一期(L.R&D)作為研發(fā)投入的第一個(gè)工具變量。同時(shí),考慮到處于同一行業(yè)、同一地區(qū)的企業(yè)因面臨相似的市場(chǎng)環(huán)境和競(jìng)爭(zhēng)壓力,導(dǎo)致在研發(fā)投入方面趨于一致(同群效應(yīng)),而其它企業(yè)的研發(fā)投入對(duì)目標(biāo)企業(yè)專利質(zhì)量卻沒有顯著直接影響,因此選擇與目標(biāo)企業(yè)處于同一行業(yè)、同一城市的其它企業(yè)研發(fā)投入的平均值(R&D)作為第二個(gè)工具變量。表6為兩階段最小二乘估計(jì)(2SLS)結(jié)果。第一階段結(jié)果顯示,兩個(gè)工具變量的估計(jì)系數(shù)均至少在5%的水平上顯著為正,且工具變量聯(lián)合顯著性檢驗(yàn)的F統(tǒng)計(jì)量為52.875,遠(yuǎn)大于10,證明工具變量選擇有效;過度識(shí)別Sargan檢驗(yàn)接受原假設(shè),工具變量的外生性得到驗(yàn)證。第二階段結(jié)果顯示,控制內(nèi)生性后,企業(yè)研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量仍具有顯著促進(jìn)作用。進(jìn)一步比較OLS與2SLS的估計(jì)結(jié)果,發(fā)現(xiàn)考慮內(nèi)生性后的系數(shù)估計(jì)值略小于未考慮內(nèi)生性時(shí)的系數(shù)估計(jì)值,說明OLS回歸可能高估了研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量提升的驅(qū)動(dòng)效應(yīng)。
3.3.2 Heckman兩步法
前文將部分未在PCT系統(tǒng)上申請(qǐng)專利的高新技術(shù)企業(yè)排除出研究樣本,但未申請(qǐng)PCT專利保護(hù)的企業(yè)并不意味著研發(fā)創(chuàng)新產(chǎn)出水平低,其可能通過其它途徑或條約尋求專利保護(hù)。若直接檢驗(yàn)研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量的影響,可能存在一定程度的樣本選擇偏誤。為此,本文采用Heckman兩步法解決上述問題。第一步,將未在PCT系統(tǒng)上申請(qǐng)專利的企業(yè)也納入研究樣本,并使用Probit模型估計(jì)企業(yè)是否進(jìn)行PCT專利申請(qǐng)(Patent_desire)的概率(選擇方程)。借鑒周亞虹等(2012)的做法,選擇企業(yè)規(guī)模(Size)、企業(yè)年齡(Age)、資產(chǎn)流動(dòng)性(Liquidity=(流動(dòng)資產(chǎn)-流動(dòng)負(fù)債)/總資產(chǎn))、企業(yè)員工培訓(xùn)密度(Train=員工培訓(xùn)費(fèi)/銷售額)、企業(yè)員工中大學(xué)本科以上學(xué)歷所占比例(Education)、高級(jí)管理人員所占比例(Administrator)、高級(jí)技術(shù)人員所占比例(Technology)作為影響企業(yè)PCT專利申請(qǐng)意愿的控制變量。第二步,將第一階段計(jì)算得到的逆米爾斯比率(Milss)代入僅包含PCT專利申請(qǐng)量不為0的企業(yè)樣本再次進(jìn)行回歸。若Milss顯著,則樣本選擇性偏誤得到有效糾正。同時(shí),參考楊汝岱等(2011)的做法,本文將Heckman兩步法和兩階段最小二乘(2SLS)方法結(jié)合進(jìn)行估計(jì),通過2SLS第一階段回歸結(jié)果得到企業(yè)研發(fā)投入的預(yù)測(cè)值,用預(yù)測(cè)的研發(fā)投入水平代替真實(shí)水平進(jìn)行Heckman兩步法回歸,結(jié)果如表7所示。
結(jié)果顯示,第一階段選擇方程中,所有解釋變量均至少在10%的水平上顯著,表明所選解釋變量均能顯著影響PCT專利申請(qǐng)意愿;第二階段回歸方程中,Milss在5%的水平上顯著,且R&D的估計(jì)系數(shù)仍顯著為正,表明糾正選擇性偏誤后,研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量仍具有正向促進(jìn)作用,前文相關(guān)結(jié)論得到進(jìn)一步支持。
3.4 穩(wěn)健性檢驗(yàn)
(1)替換核心解釋變量。除研發(fā)投入與專利質(zhì)量之間存在相關(guān)性外,還可能存在其它影響企業(yè)專利質(zhì)量的因素,如企業(yè)動(dòng)態(tài)能力[26]、人力資本水平[27]和管理層研發(fā)背景[28]。因此,本文以企業(yè)動(dòng)態(tài)能力(DC)、人力資本水平(HC)和管理層研發(fā)背景(BG)作為核心解釋變量進(jìn)行回歸分析,結(jié)果如表8所示。其中,動(dòng)態(tài)能力采用企業(yè)流動(dòng)比率衡量;人力資本水平使用企業(yè)技術(shù)員工占雇員總數(shù)的比重衡量;管理層研發(fā)背景使用虛擬變量衡量,若管理層具有技術(shù)職業(yè)(研究、工程和生產(chǎn)等)背景,取值為1,反之取值為0。模型(11)—(13)結(jié)果顯示,企業(yè)動(dòng)態(tài)能力、人力資本水平和管理層研發(fā)背景對(duì)專利質(zhì)量仍具有顯著正向影響,表明本文構(gòu)造的賦權(quán)ISR指數(shù)能夠有效衡量專利質(zhì)量。
(2)改變核心解釋變量測(cè)度方式??紤]到規(guī)模效應(yīng)的影響,以企業(yè)研發(fā)投入與主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的比值(R&D強(qiáng)度)為解釋變量并替代原有變量進(jìn)行2SLS+Heckman回歸分析,工具變量選擇方法與前文一致。模型(14)結(jié)果顯示,R&D強(qiáng)度對(duì)專利質(zhì)量仍具有顯著正向影響,與前文結(jié)論一致。
(3)控制截?cái)鄻颖酒`。考慮到樣本中部分企業(yè)申請(qǐng)的專利因未在規(guī)定時(shí)間窗口內(nèi)被引用,導(dǎo)致相應(yīng)的ISR指數(shù)為0,此時(shí)因變量呈現(xiàn)出較為典型的截?cái)鄶?shù)據(jù)特征。因此,采用IV-Tobit模型對(duì)因變量左側(cè)截取樣本的偏誤加以控制,工具變量選取與前文一致,IV-Tobit模型估計(jì)結(jié)果如模型(15)所示。可以發(fā)現(xiàn),企業(yè)研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量仍具有顯著促進(jìn)作用,估計(jì)結(jié)果與前文結(jié)論基本一致。
(4)考慮大企業(yè)主導(dǎo)效應(yīng)。將年平均PCT專利申請(qǐng)量最大的5家企業(yè)排除出樣本并重新進(jìn)行2SLS+Heckman回歸,結(jié)果如模型(16)所示??梢园l(fā)現(xiàn),R&D的顯著性水平保持不變,表明研發(fā)投入對(duì)專利質(zhì)量的影響并不是由某幾個(gè)大企業(yè)主導(dǎo)。
4 結(jié)論、啟示與局限性
4.1 研究結(jié)論
近年來我國(guó)實(shí)施的一系列專利擴(kuò)張政策刺激了低質(zhì)量專利申請(qǐng),導(dǎo)致整體專利質(zhì)量水平下降?;诖?,本文總結(jié)現(xiàn)有專利質(zhì)量測(cè)度方法的不足,通過改進(jìn)基于引用數(shù)據(jù)的測(cè)度模型,提出賦權(quán)ISR指數(shù),全面準(zhǔn)確測(cè)度我國(guó)專利質(zhì)量。該指數(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)專利質(zhì)量的跨國(guó)比較,修正由于政策因素導(dǎo)致的“引用膨脹”現(xiàn)象。進(jìn)一步地,構(gòu)建回歸模型,檢驗(yàn)賦權(quán)ISR指數(shù)在度量專利質(zhì)量方面的有效性。本文主要結(jié)論如下:首先,基于賦權(quán)ISR指數(shù)的專利質(zhì)量測(cè)度結(jié)果表明,近年來我國(guó)高新技術(shù)領(lǐng)域?qū)@|(zhì)量持續(xù)攀升,但與世界領(lǐng)先水平之間仍有較大差距,僅達(dá)到非中國(guó)質(zhì)量基準(zhǔn)的1/3,存在較大提升空間。其次,行業(yè)異質(zhì)性分析表明,高新技術(shù)各細(xì)分領(lǐng)域?qū)@|(zhì)量均處于較低水平,其中,新能源及節(jié)能技術(shù)領(lǐng)域、資源與環(huán)境技術(shù)領(lǐng)域?qū)@|(zhì)量水平相對(duì)較高,而電子信息技術(shù)領(lǐng)域、生物與新醫(yī)藥技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新水平較為落后,是未來需要重點(diǎn)關(guān)注和扶植的對(duì)象。最后,基于企業(yè)層面的回歸分析表明,以賦權(quán)ISR指數(shù)作為專利質(zhì)量的代理變量時(shí),核心解釋變量的顯著性水平均較高,表明該指數(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)我國(guó)專利質(zhì)量的有效度量,且這一結(jié)論經(jīng)過一系列內(nèi)生性和穩(wěn)健性檢驗(yàn)后依然成立。
4.2 研究啟示
盡管近年來我國(guó)采取專利補(bǔ)貼、稅收減免等一系列政策手段鼓勵(lì)創(chuàng)新,但高新技術(shù)領(lǐng)域?qū)@暾?qǐng)仍存在“重?cái)?shù)量、輕質(zhì)量”的問題,補(bǔ)貼的創(chuàng)新擠出效應(yīng)較為明顯。為緩解這一現(xiàn)象,本文提出以下建議:首先,政府應(yīng)進(jìn)一步完善專利管理制度,強(qiáng)化專利質(zhì)量核心意識(shí),加大專利審查力度,及時(shí)淘汰低質(zhì)量專利。同時(shí),加快建立和完善以社會(huì)效益、經(jīng)濟(jì)效益為導(dǎo)向的科研績(jī)效評(píng)價(jià)體系,引導(dǎo)和規(guī)范科研人員的專利申請(qǐng)動(dòng)機(jī)與行為,減少低質(zhì)、低效專利申請(qǐng)。其次,高新技術(shù)行業(yè)應(yīng)建立專利質(zhì)量考核體系,定期對(duì)企業(yè)專利強(qiáng)度和質(zhì)量進(jìn)行評(píng)分,激勵(lì)企業(yè)提升專利技術(shù)含量。最后,高新技術(shù)企業(yè)應(yīng)加強(qiáng)前沿技術(shù)的引進(jìn)和吸收,提高技術(shù)創(chuàng)新能力,以技術(shù)創(chuàng)新引領(lǐng)行業(yè)發(fā)展。同時(shí),重視專利人才和研發(fā)人才的培養(yǎng),有效提高企業(yè)研發(fā)能力。
此外,本文研究表明,企業(yè)研發(fā)投入、動(dòng)態(tài)能力、人力資本水平和管理層研發(fā)背景均對(duì)專利質(zhì)量提升有顯著激勵(lì)效應(yīng)?;诖耍疚奶岢鲆韵陆ㄗh:首先,政府和企業(yè)應(yīng)進(jìn)一步加大研發(fā)經(jīng)費(fèi)投入。政府可以采取直接投入、補(bǔ)貼、貸款貼息等多種方式鼓勵(lì)企業(yè)加大自主研發(fā)投入,通過合理配置科技資源,引導(dǎo)財(cái)政科技經(jīng)費(fèi)逐步由生產(chǎn)領(lǐng)域轉(zhuǎn)移到研究開發(fā)領(lǐng)域,資助政策由重點(diǎn)支持產(chǎn)品開發(fā)轉(zhuǎn)向支持研究開發(fā)。其次,企業(yè)應(yīng)提高研發(fā)人員比重,通過引進(jìn)相關(guān)人才提高人力資本水平,賦能技術(shù)創(chuàng)新。最后,企業(yè)應(yīng)重視管理層在創(chuàng)新戰(zhàn)略制定與實(shí)施過程中的作用。具有研發(fā)背景的高管更看中企業(yè)技術(shù)優(yōu)勢(shì),更加注重企業(yè)的創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化,更有利于企業(yè)創(chuàng)新水平提升。
4.3 研究局限
就研究對(duì)象而言,本文僅選取高新技術(shù)領(lǐng)域作為專利質(zhì)量測(cè)度對(duì)象,未來可將考察對(duì)象擴(kuò)展至其它行業(yè)和領(lǐng)域,以實(shí)現(xiàn)對(duì)我國(guó)各領(lǐng)域創(chuàng)新水平的全面衡量。同時(shí),本文構(gòu)造的賦權(quán)ISR指數(shù)僅適用于PCT專利,對(duì)于未在PCT系統(tǒng)申請(qǐng)專利的企業(yè)專利質(zhì)量則無法衡量。就研究方法而言,本文將專利引用窗口時(shí)間設(shè)定為3年,而部分專利的價(jià)值體現(xiàn)可能需要更長(zhǎng)時(shí)間。因此,未來可適度延長(zhǎng)時(shí)間窗口,甚至比較不同時(shí)間窗口下測(cè)度結(jié)果的異同。這也表明本文使用的專利質(zhì)量測(cè)度方法存在一定時(shí)滯性,無法實(shí)現(xiàn)對(duì)專利質(zhì)量的實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)。此外,本文采用回歸分析法進(jìn)行賦權(quán),未來可嘗試使用其它賦權(quán)方法,如熵權(quán)法、層次分析法和德爾菲法等,并比較不同賦權(quán)方法之間的優(yōu)劣。
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(責(zé)任編輯:陳 井)
Measurement of Transnational Patent Quality in the High-Tech Fields
Zheng Hang, Ye Azhong
(School of Economics & Management, Fuzhou University, Fuzhou 350116, China)
Abstract:Since 2010, China has taken a series of measures, including patent subsidies, tax relief and other policies, to encourage patent applications, which has triggered an explosive increase in patent applications. Among them, the number of applications in the Patent Cooperation Treaty (PCT) in China has ranked first in the world for three consecutive years. However, the investment in R&D compared to the increase in patent applications has not increased significantly in recent years, which leads to the decline in investment in unit patent applications. Reducing the cost of patent applications through subsidies may stimulate the application of low-quality patents, thus damaging the overall quality of Chinese patents.
In order to explore the real level of patent quality in China, this paper puts forward an improved transnational patent quality measurement model based on the Patent Cooperation Treaty. Three kinds of citation indexes, foreign citation, domestic citation and self-citation are weighted based on the regression analysis method, which corrects the influence of "citation inflation" on patent quality measurement to some extent. Meanwhile, this paper also measures the patent quality level of the overall and subdivided fields of China's high-tech, which is helpful for policy makers to more accurately understand the relevant technology development level of China's high-tech field, identify the gap between China and the technologically developed countries, and provide references for the formulation and implementation of innovation incentive policies (such as patent subsidies and tax incentives). Finally, according to the research at the enterprise-level, this paper explores the real decision-making motivation and potential driving mechanism of high-tech enterprises to take technological innovation actions, and provides new ideas and experience for the development of high-tech enterprises.
The main conclusions of this paper are drawn. (1) The results of patent quality measurement show that the patent quality of high-tech fields in China has been rising continuously in recent years, but there is still a big gap between China and the world's leading powers, and the patent quality level in all high-tech fields in China is only one third of the non-China quality benchmark, and there is still a great deal of room for improvement. (2) The results of industry heterogeneity analysis show that the patent quality of eight kinds of subdivided high-tech fields is at a low level. Specifically, the patent quality level in the fields of new energy and energy-saving technology and resources and environment technology is relatively high, while the innovation level in the fields of electronic information technology, biology and new medical technology is relatively backward, which needs to be focused on and supported in the future. (3) The results of regression analysis show that the core explanatory variables are obviously significant, indicating that the index constructed in this paper can effectively measure the patent quality in China, and this conclusion is still valid after a series of endogenous tests and robustness tests.
The following suggestions are proposed in accordance with the research findings. First, the government should further improve the patent management system, strengthen the core awareness of patent quality, and reduce the number of low-quality and inefficient patent applications; second, the high-tech industry should establish a patent quality assessment system, regularly evaluate the patent strength and quality of each enterprise, and encourage enterprises to improve the technical content of patents; finally, high-tech enterprises should strengthen the introduction and absorption of cutting-edge technology, improve the ability of technological innovation, and lead the development of the industry with technological innovation.
The drawbacks of the study are that, first of all, this paper only selects the high-tech field as the measurement object of patent quality, and future research can expand the investigation object to other industries and fields, so as to achieve a comprehensive measurement of the innovation level in various fields in China; second, the patent quality index constructed in this paper is only applicable to PCT patents, and it cannot measure the patent quality of enterprises that have not applied for patents in the PCT system.
Key Words:Patent Quality; Cross-country Comparison; Patent Cooperation Treaty