劉 宇,高 洋,張詩奇,杜 姍,張生芳,王紫光
(1. 大連交通大學(xué)機械工程學(xué)院,遼寧大連 116028;2. 浙江聯(lián)宜電機有限公司,浙江金華 322118)
在現(xiàn)代化工業(yè)中,復(fù)雜的自動化機械設(shè)備往往需在高溫、高速、重載及相對惡劣的環(huán)境下長期穩(wěn)定的運轉(zhuǎn),這對機械設(shè)備及其零部件的表面性能提出更高的要求[1]。 為保證設(shè)備的穩(wěn)定運行,防止零件失效,需采用先進的表面工程技術(shù),對材料表面進行表面強化與改性處理,以此來提高表面性能[2-3]。電火花沉積技術(shù)是利用儲能電源在電極與工件之間火花放電時釋放的高密度能量,將電極材料熔融后涂覆、熔滲到工件表面,形成合金化的表面沉積層,起到表面修復(fù)與強化的作用[4-5]。 沉積加工處理后,使受損嚴重的工件再次正常工作,并在一定程度上提高了其耐磨性、耐高溫性、耐腐蝕性能[6-7]。電火花沉積技術(shù)憑借其優(yōu)異的表面強化與修復(fù)效果,同時,由于操作簡單、熱輸入小、處理后工件無變形、節(jié)能等特點,現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于汽車、軍工、航空航天等領(lǐng)域[8],成為表面工程及再制造領(lǐng)域中重要的技術(shù)手段。
脈沖電源作為電火花沉積加工設(shè)備的重要組成部分,其性能及放電參數(shù)對沉積效率與涂層質(zhì)量有著極大的影響。 近年來,國內(nèi)外研究人員通過不斷的探索研究,在電火花沉積電源改進方面取得了一定的成果,但改進的電源仍然存在可控性和穩(wěn)定性不夠理想, 致使加工過程中放電能量不均勻,沉積層質(zhì)量差的問題。 此外,現(xiàn)有電源多采用可控硅斬波,通斷頻率低,致使沉積效率低下。 這些問題在某種程度上限制了電火花沉積的發(fā)展。
針對上述問題, 設(shè)計了一種放電參數(shù)可控性高、輸出波形穩(wěn)定的數(shù)字脈沖電火花沉積電源。 采用直接數(shù)字頻率合成 (direct digital frequercy synthesis,DDS)技術(shù),利用其可全數(shù)字化控制、輸出相位連續(xù)、頻率分辨率高的特性,實現(xiàn)控制脈沖的調(diào)制,并搭配了由功率開關(guān)MOSFET 構(gòu)成的斬波電路,實現(xiàn)了放電參數(shù)的較精確控制,提高了加工過程的穩(wěn)定性。
電火花沉積電源是電火花沉積加工過程中的核心部件,控制著放電電壓、脈沖寬度、放電頻率等主要放電參數(shù)。 沉積電源的各放電參數(shù)應(yīng)具有高可控性,且能夠在大范圍內(nèi)無極調(diào)節(jié)。 基于以上要求,本文利用DDS 技術(shù)設(shè)計了數(shù)字脈沖電火花沉積電源,整體設(shè)計方案如圖1 所示。
沉積電源主要由控制模塊和功率驅(qū)動模塊組成。 其中,主控單片機、DDS 主振單元、功能按鍵輸入、液晶顯示四部分組成控制模塊,用于產(chǎn)生頻率、占空比等數(shù)字化可調(diào)的控制脈沖信號。 功率驅(qū)動模塊包括光耦隔離電路、功率驅(qū)動放大電路、斬波電路以及直流電源。 主振單元產(chǎn)生的控制脈沖信號經(jīng)過功率驅(qū)動放大電路放大,使其滿足功率開關(guān)管開通與關(guān)斷的要求,最后經(jīng)過斬波電路,將直流電變成加工所需的高壓脈沖。 在控制模塊和功率驅(qū)動電路之間增加了由高速光耦構(gòu)成的光耦隔離電路,避免了后級強電對控制電路的影響,同時對控制模塊起到保護的作用。
1.2.1 主振控制電路設(shè)計
控制模塊選用STC89C52RC 作為控制電路的主控芯片, 其具有8 KB 的內(nèi)部可編程閃存,512 B的隨機存取存儲器(RAM)[9],可通過編寫不同的程序?qū)崿F(xiàn)對DDS 芯片的控制。主控模塊外圍電路設(shè)計原理如圖2 所示,包括單片機最小系統(tǒng)、開關(guān)電路、液晶顯示電路、DDS 主振單元接口等。 按鍵信息通過開關(guān)電路輸入到主控芯片, 經(jīng)主控芯片處理后,通過液晶1602A 顯示,主控芯片通過外部接口完成對DDS 芯片的控制,使其產(chǎn)生控制脈沖信號。
圖2 主控模塊外圍電路設(shè)計原理圖
為提高參數(shù)的可控性及輸出信號的穩(wěn)定性,本設(shè)計利用了DDS 技術(shù), 突破了模擬合成法的限制,應(yīng)用數(shù)字技術(shù)和高速D/A 轉(zhuǎn)換技術(shù)來產(chǎn)生信號,可實現(xiàn)不同頻率、相位的任意波形輸出,具有頻率穩(wěn)定性及分辨率高、相位噪聲低、可全數(shù)字式調(diào)制等優(yōu)點[10-11]。 采用美國AD 公司生產(chǎn)的AD9850,其先進的CMOS 技術(shù)工藝, 主要由可編程DDS 系統(tǒng)、高性能數(shù)模變換器和高速比較器三部分構(gòu)成,可實現(xiàn)全數(shù)字編程控制,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)如圖3 所示。 最大支持的時鐘頻率為125 MHz。
圖3 DDS 基本結(jié)構(gòu)原理圖
當(dāng)有頻率控制字輸入相位累加器時,在參考時鐘作用下,相位累加器進行累加操作,輸出與相位控制字相加作為波形ROM 的查詢地址, 讀取存儲在ROM 中的幅值信息, 經(jīng)數(shù)模轉(zhuǎn)換器轉(zhuǎn)換為模擬信號,經(jīng)過低通濾波器濾波,最后經(jīng)過高速比較器,輸出符合要求的控制脈沖。
控制脈沖的輸出頻率為:
式中:N為相位器累加位數(shù);fs為參考時鐘頻率;K為頻率控制字。
輸出信號的頻率分辨率為:
AD9850 有串行和并行兩種通信方式, 并行寫入方式的優(yōu)點是數(shù)據(jù)傳輸?shù)乃俣瓤?,能夠提升整個系統(tǒng)的處理速度,本設(shè)計采用并行接口實現(xiàn)主控芯片和AD9850 的通信控制,其連接原理如圖4 所示。
圖4 主控芯片與DDS 連接原理圖
主控芯片的P1.0-P1.7 引腳與AD9850 的并行通信接口D0-D7 相連接,向AD9850 傳輸相應(yīng)用于產(chǎn)生信號所需的頻率及相位控制字信息。 P2.0 引腳與AD9850 的RESET 引腳相連接,P2.1 引腳與AD9850 的頻率更新引腳FQ_UD 相連接,向其傳輸控制更新信號,完成對寄存控制字的更新,從而實現(xiàn)頻率信號更新并輸出。 P2.2 引腳與AD9850 的時鐘控制引腳W_CLK 相連接,處于上升沿時,將數(shù)據(jù)寫入并傳輸?shù)郊拇嫫髦屑拇妗?每當(dāng)在W_CLK 時鐘上升沿時發(fā)送控制字, 連續(xù)5 個W_CLK 時鐘上升沿后,40 位控制字全部加載完成,通過FQ_UD 的上升沿完成對控制信號的更新,把地址指針復(fù)位到第一個寄存器,實現(xiàn)對輸出信號頻率及相位的一次更新,由輸出引腳完成最終控制脈沖波形的輸出。 最終設(shè)計完成的主振模塊電路原理圖如圖5 所示。
圖5 主振模塊電路原理圖
1.2.2 主振控制軟件設(shè)計
主振控制軟件部分包括主程序模塊、脈沖控制模塊、 功能按鍵模塊及顯示模塊等。 所選用的AD9850 芯片的控制字有40 位, 其中32 位是頻率控制位,5 位是相位控制位,1 位是電源休眠控制位,2 位是工作方式選擇控制位。 在AD9850 中含有N位相位寄存器,N為32,根據(jù)式(2)計算得到輸出的頻率分辨率可達0.029 1 Hz,主控芯片通過式(1)計算頻率控制字。 主程序流程圖如圖6a 所示,AD9850 控制程序流程圖如圖6b 所示。
程序開始時,主控芯片調(diào)用初始化程序,完成系統(tǒng)的初始化、AD9850 的初始設(shè)定及LCD 液晶的初始化。 當(dāng)檢測到設(shè)定值發(fā)生變更,主控芯片讀取開關(guān)電路輸入的按鍵信息計算控制字,根據(jù)時鐘設(shè)定,通過數(shù)據(jù)總線以并行傳輸方式將控制字信息寫入AD9850 寄存器,數(shù)據(jù)傳輸完成后,對頻率及相位進行更新、顯示,完成相應(yīng)控制脈沖信號的輸出。
由主振控制單元產(chǎn)生的控制脈沖信號須經(jīng)過功率放大電路驅(qū)動放大才能驅(qū)動斬波電路進行斬波,最終形成沉積加工所使用的脈沖波形。 斬波電路選取MOSFET 作為功率開關(guān)器件,其常用在中小功率電源中作開關(guān)器件, 相比其他功率開關(guān)器件,如大功率的GTR、IGBT,MOSFET 具有輸入阻抗高、開關(guān)損耗低、驅(qū)動功率小、開關(guān)速度快等優(yōu)點。
1.3.1 隔離方案選擇
主振控制模塊若與功率驅(qū)動放大電路直接進行硬件連接,后級放電回路的強電系統(tǒng)會對主振模塊產(chǎn)生干擾甚至造成芯片損壞。 因此,需要二者之間電器隔離。 目前,常見的隔離方式有脈沖變壓器隔離方式和光電隔離方式[12]。 脈沖變壓器隔離方式采用無源驅(qū)動,但其在工作中對脈沖寬度有一定的限制,若超過要求的脈寬范圍,磁芯飽和會使一次繞組電流激增,嚴重情況下會使其燒毀。 而光電隔離方式是利用光電耦合器進行電氣隔離,其外圍電路相對簡單且沒有脈沖寬度的限制。 所以本文設(shè)計采用高速光耦進行主振控制模塊與功率驅(qū)動放大之間的電氣隔離,高速光耦相對于傳統(tǒng)的普通光耦擁有速度高、延時小的特點,且具有溫度、電流、電壓補償功能。 高速光耦芯片選用6N137, 其轉(zhuǎn)換速率為10 Mb/s,能夠滿足我們電源設(shè)計的要求。
1.3.2 功率驅(qū)動放大電路
脈沖電源設(shè)計中,斬波電路中的功率開關(guān)管作為電源關(guān)鍵部分,其性能的優(yōu)劣將直接影響整個電源的工作效果,結(jié)合加工參數(shù)的要求,最終選取的MOSFET 為IRFP250N。 其等效結(jié)構(gòu)如圖7 所示,在MOSFET 的各極之間存在極間電容, 驅(qū)動MOSFET本質(zhì)上是對極間電容進行充放電。
圖7 MOSFET 等效結(jié)構(gòu)圖
為了不影響MOSFET 的開關(guān)速度,更好的完成對功率MOSFET 的驅(qū)動,需要功率驅(qū)動部分提供一定的柵-源驅(qū)動電壓和電荷泄放通道, 加快其開通與關(guān)斷。 同時,要降低在驅(qū)動過程中所產(chǎn)生的功耗,選用的驅(qū)動芯片為UCC37322。
最終設(shè)計的功率驅(qū)動放大電路原理如圖8 所示。 功率驅(qū)動電路主要由6N137、UCC37322 及其外圍電路構(gòu)成,R1為限流電阻, 對電路進行限流并起保護作用,6N137 采用5 V 供電,R2為集電極開路輸出端上拉電阻,用于減少沖擊,保持電路的穩(wěn)定性和可靠性,C1為高頻特性良好的電容, 用來吸收電源線上的紋波。 在驅(qū)動電路中,采用12 V 供電,C2、C3組成旁路電容,用于驅(qū)動部分的電源穩(wěn)壓。
圖8 功率驅(qū)動模塊電路原理圖
所設(shè)計的沉積電源電壓在20~150 V, 頻率在50~500 Hz 之間連續(xù)可調(diào), 并在電源各模塊設(shè)計完成后對控制模塊、功率驅(qū)動模塊及電源整體進行了測試。
控制模塊直接影響著整個沉積電源系統(tǒng)的性能, 對控制模塊輸出的控制脈沖頻率進行了測試。頻率測試結(jié)果見表1??梢钥闯?,控制脈沖頻率的給定值與實測值誤差很小,在1 Hz 以內(nèi),有較為精確的頻率,能滿足對參數(shù)可控的要求。
表1 頻率測試結(jié)果
在輸出波形測試中,設(shè)控制脈沖頻率為200 Hz,控制脈沖輸出波形測試的結(jié)果如圖9a 所示, 可以看出輸出波形準(zhǔn)確且穩(wěn)定, 滿足控制脈沖的要求。圖9b 為相同頻率下的功率驅(qū)動模塊輸出波形測試結(jié)果,其輸出波形與控制脈沖時一致,幅值穩(wěn)定在12 V 左右,具有陡峭的上升沿與下降沿,能夠確保功率開關(guān)管的導(dǎo)通與關(guān)斷, 滿足斬波電路的要求。圖9c 為相同頻率下、電壓為36 V 時的放電波形測試結(jié)果,可見放電電壓波形準(zhǔn)確且穩(wěn)定,并且電壓、頻率等參數(shù)可在較寬范圍內(nèi)調(diào)節(jié),滿足了電火花沉積加工的要求。
圖9 電源測試波形
接下來進行了沉積加工試驗,以測試電源加工的有效性。 首先是進行沉積加工效果測試,沉積加工試驗參數(shù)如下:基體為45 鋼,電極為鎳電極,電壓為50 V,頻率為200 Hz。其中,圖10a 為加工前基體表面形貌,圖10b 為加工后涂層表面形貌。 可以看出,電源有很好的加工效果,具有較強的可控性,放電能量均勻。
圖10 沉積加工效果
同等試驗條件下,進行了放電頻率為200 Hz 和300 Hz 的沉積加工測試。 其中,圖11(a)為200 Hz沉積層表面形貌,圖11(b)為300 Hz 沉積層表面形貌,可以看出,隨著頻率的增加,沉積層更加致密。
圖11 沉積層表面形貌
本文針對傳統(tǒng)電火花沉積電源放電參數(shù)可控性差的問題,設(shè)計了一種基于DDS 的數(shù)字脈沖電火花沉積電源,測試了電源的性能,得到以下結(jié)論:
(1)在電源設(shè)計中,基于DDS 技術(shù)完成了控制模塊的設(shè)計,提高了電源的可控性。 利用高速光耦解決了控制模塊與功率驅(qū)動模塊電路之間的干擾問題,提高了電源整體的穩(wěn)定性和抗干擾能力。
(2)對沉積電源各個模塊的輸出波形及電源整體進行測試。 各部分輸出波形穩(wěn)定、準(zhǔn)確,脈沖波形良好且頻率誤差在1 Hz 以內(nèi),實現(xiàn)對放電參數(shù)的較精確控制,滿足電火花沉積設(shè)備的參數(shù)可控要求。
(3)電源可實現(xiàn)電壓在20~150 V、頻率在50~500 Hz 之間連續(xù)調(diào)整, 并且有很好的沉積加工效果,可用于電火花沉積加工基礎(chǔ)研究。