許傳棟,蘇郁秋,董思源,李光超,周宏健
(中科芯集成電路有限公司,江蘇無錫 214000)
在無線接收機(jī)系統(tǒng)中,為實(shí)現(xiàn)對信號幅度的控制,可變衰減器是極其重要的器件[1]。雖然信號幅度的控制可以通過可變增益放大器(VGA)來實(shí)現(xiàn)[2],但是VGA 芯片的線性度較差,不適用于接收機(jī)的射頻前端。壓控衰減器具有成本低、插入損耗小、頻帶范圍寬、信號幅度變化線性度好、電路形式靈活、芯片可靠性高等優(yōu)點(diǎn),適用于微波系統(tǒng)的射頻前端[3-5]。
目前已有學(xué)者對壓控衰減器進(jìn)行相關(guān)研究,Maecus Granger-Jones 等人基于SOI CMOS 工藝研制一款工作頻率在0.05~4 GHz 的壓控衰減器[6]。但是,SOI CMOS 的產(chǎn)品抗輻射能力較差,該工藝制造的芯片不能滿足衛(wèi)星通信的要求。國內(nèi)白銀超等人基于GaAs PHEMT工藝設(shè)計(jì)了一款工作頻率在0.05~3 GHz的高線性度壓控衰減器[7],但其控制信號為負(fù)電壓,在實(shí)際工程應(yīng)用中,正電壓很容易實(shí)現(xiàn),而負(fù)電壓則需要特殊提供,加大了系統(tǒng)的復(fù)雜性。白元亮設(shè)計(jì)了一款正電壓控制、工作頻率為DC~4 GHz 的壓控衰減器,但是需要引入額外的驅(qū)動電路,增加了設(shè)計(jì)的復(fù)雜度[8]。因此針對以上問題,該文設(shè)計(jì)了一款工作頻率在1~6 GHz的正電壓控制的壓控衰減器,管芯選用噪聲系數(shù)低、電阻率變化更小的D-mode PHEMT晶體管,通過電壓浮地技術(shù)實(shí)現(xiàn)正電壓控制,應(yīng)用更廣[9]。
衰減器電路中GaAs PHEMT 管芯是集成電路的關(guān)鍵器件,管芯的電特性對電路的設(shè)計(jì)至關(guān)重要[10]。壓控衰減器中,管芯工作在無源狀態(tài),即源漏之間電壓很小,柵極加直流電壓控制信號幅度,管芯的等效電路如圖1 所示,當(dāng)柵極電壓變化時,柵下的耗盡層隨之變化,相應(yīng)源漏間電阻RDS同樣改變。對于耗盡型晶體管,當(dāng)柵壓VG=0 時,柵下溝道全部打開,管芯處于導(dǎo)通狀態(tài),源漏間電阻等效為小電阻Ron,如圖2(a)所示[11]。當(dāng)柵壓增大時,溝道縮小至截止,RDS增加,當(dāng)VG>Vp(管芯的導(dǎo)通電壓)時,RDS達(dá)最大值,源極和漏極之間等效為大電阻Roff和電容Coff的串聯(lián)形式,如圖2(b)所示。由上述理論,在ID不飽和,VDS較小時,PHEMT 管芯可以作為可變電阻,通過改變控制端VG電壓,可以控制晶體管漏極和源極之間的電阻。在實(shí)際應(yīng)用中,根據(jù)具體指標(biāo)選擇不同的晶體管,采用合適的衰減結(jié)構(gòu)就能夠設(shè)計(jì)電壓可控衰減器[12]。
圖1 無源PHEMT模型
圖2 PHEMT導(dǎo)通和截止態(tài)等效模型
單片衰減器的基本衰減結(jié)構(gòu)有三種:橋T 型、T型和π型[13],在這三種不同結(jié)構(gòu)中,橋T 型衰減電路的插入損耗最小,同時衰減也可以達(dá)到較大的衰減范圍,但是其工作頻段內(nèi)衰減平坦度最差;π 型衰減電路的插入損耗較小,但其工作頻帶內(nèi)衰減平坦度也較差;T 型衰減電路的插入損耗也較小,同時衰減量也較大,工作頻帶的衰減平坦度也較好[14]。通過比較三種不同的電路結(jié)構(gòu),該設(shè)計(jì)采用T 型衰減網(wǎng)絡(luò)。
T 型衰減電路的衰減量與串聯(lián)電阻R1、R2、并聯(lián)電阻R3的關(guān)系如下:
由上述公式可以得到,為實(shí)現(xiàn)壓控衰減電路端口的良好匹配,主路串聯(lián)可變電阻R1、R2,其阻值應(yīng)控制在0~50 Ω,并聯(lián)可變電阻R3的阻值控制在0~+∞。因此在電路設(shè)計(jì)中,R3由晶體管實(shí)現(xiàn),R1、R2由晶體管并聯(lián)一個固定電阻實(shí)現(xiàn),電路的拓?fù)鋱D如圖3 所示。
圖3 T型衰減器的電路拓?fù)鋱D
管芯的選擇主要是根據(jù)管芯的線性度指標(biāo)進(jìn)行的,線性度越好,管芯的電阻變化率越小,壓控衰減器的控制電壓能夠更精確地控制衰減量,同時衰減電路具有更高的穩(wěn)定性和高低溫特性。首先比較相同的管芯尺寸,如圖4 所示,相同尺寸的D-mode 管芯和E-mode 管芯,兩種曲線的VDS為1 V。從圖4 可以看出,在電壓開啟后,E-mode 管芯控制電壓低于0.4 V 時沒有導(dǎo)通,在高于0.4 V后IDS迅速上升,表明阻值變化劇烈。D-mode 管芯阻值變化比較平緩,在電壓變化范圍內(nèi)IDS緩慢上升,PHEMT 晶體管工作在相同功率時,D-mode 管芯導(dǎo)通電阻變化率較小,有著更好的線性度,利用這種晶體管設(shè)計(jì)的電壓衰減器有著更高的輸入三階交調(diào)截取點(diǎn)[15]。
圖4 PHEMT管芯的VGS和IDS曲線
對于耗盡型管芯D-mode,在傳統(tǒng)的控制電路中,當(dāng)柵極接-5 V 時,為高阻狀態(tài),當(dāng)柵極接0 V 時,為導(dǎo)通狀態(tài)。但在實(shí)際應(yīng)用中,控制信號為正電壓的應(yīng)用范圍更廣,因此需要對傳統(tǒng)的衰減器的電路結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn),該文采用了電壓浮地技術(shù),其原理是在管芯的兩側(cè)源極和漏極加上偏置電壓VC,其拓?fù)淙鐖D5 所示[16]。偏置電壓VC=5 V 時,當(dāng)柵極接0 V 時,柵源電壓VGS=-5 V,晶體管處于高阻狀態(tài)。當(dāng)柵極接5 V 時,柵源電壓VGS=0 V,晶體管處于導(dǎo)通狀態(tài)[17]。在實(shí)際電路中,采用電壓浮地技術(shù),并在射頻輸入、輸出端加隔直電容,可以將傳統(tǒng)的負(fù)電壓控制衰減器改進(jìn)為正電壓控制。
圖5 電壓浮地技術(shù)拓?fù)鋱D
壓控衰減器基于0.25 μm GaAs PHEMT 工藝研制,選用ADS 2016 軟件完成電路的仿真和整體版圖的設(shè)計(jì),采用圖3 的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),芯片內(nèi)部的射頻輸入、輸出端和接地端加載隔直電容抑制直流信號,最終優(yōu)化壓控衰減器的性能和尺寸,芯片尺寸為1.75 mm×1.35 mm×0.1 mm。
壓控衰減器有一個供電端VC、兩個控制端VT1和VT2。VC為5 V 直流供電,VT1變化范圍為0~5 V,VT1、VT2電壓變化關(guān)系為VT1+VT2=5 V。柵極加載20 kΩ電阻作為隔離電阻。
壓控衰減器的仿真性能如圖6 所示。輸入、輸出端的電壓駐波比在工作頻段內(nèi)小于1.5,插入損耗小于2.3 dB,最大衰減量大于31 dB,動態(tài)衰減范圍為0~28 dB,整個工作頻帶內(nèi)平坦度在1 dB以內(nèi),控制電壓的變化范圍為0~5 V,衰減量隨著電壓變化具有良好的線性度,仿真結(jié)果符合設(shè)計(jì)要求。
圖6 壓控衰減器的仿真結(jié)果
在芯片設(shè)計(jì)中需要考慮靜電放電(ESD)問題。為實(shí)現(xiàn)對芯片的靜電保護(hù),通常在電源電壓VC和控制電壓VT1、VT2的輸入端串聯(lián)二極管連接到地。電路正常工作時,二極管截至,處于斷開態(tài),當(dāng)產(chǎn)生靜電時,二極管雪崩擊穿,導(dǎo)通到地,保護(hù)內(nèi)部芯片。
對流片完成的芯片進(jìn)行探針臺測試,測試儀器有Cascade 探針臺、ACP-GSG-I50 微波探針、Agilent 5225B 矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀和穩(wěn)壓直流電壓。芯片的偏置電壓和真值表如表1 所示,測試結(jié)果如圖7 所示。
圖7 壓控衰減器的測試結(jié)果
表1 真值表
通過對比仿真和實(shí)測結(jié)果,實(shí)測的輸入、輸出駐波比與仿真結(jié)果基本一致,駐波最大值仿真為1.5,實(shí)測為1.6,衰減動態(tài)范圍和控制電壓衰減曲線與仿真結(jié)果吻合,證明了該設(shè)計(jì)的正確性和工藝的精確性。對于駐波曲線的誤差分析,主要原因如下:1)晶體管的S 參數(shù)測試數(shù)據(jù)誤差;2)衰減器的內(nèi)部分壓誤差;3)版圖小型化過程中內(nèi)部微帶線之間的相互耦合。
該文對壓控衰減器的線性度和電壓浮地技術(shù)進(jìn)行了分析,采用0.25 μm GaAs PHEMT 工藝研制了一款正電壓控制、高線性度的壓控衰減器。其工作頻段為1~6 GHz,控制電壓變化范圍為0~5 V。最終流片測試結(jié)果表明,壓控衰減器插入損耗小于2.3 dB,最大衰減量大于31 dB,動態(tài)衰減范圍為0~28 dB,整個工作頻帶內(nèi)平坦度在1 dB 以內(nèi),芯片尺寸為1.75 mm×1.35 mm×0.1 mm,滿足設(shè)計(jì)指標(biāo)要求。