龐立鵬,潘福躍,蘇小波
(中科芯集成電路有限公司,江蘇無錫 214072)
流水線模數(shù)轉(zhuǎn)換器(Analog-to-Digital Converter,ADC)廣泛應(yīng)用于需要高采樣率和高分辨率的無線通信領(lǐng)域[1]。近年來,隨著便攜式終端產(chǎn)品的飛速發(fā)展,不僅要求ADC 具有高采樣率和高分辨率,對(duì)其功耗也提出了較高的要求。基于開關(guān)電容電路的流水線ADC 分辨率達(dá)14 位,采樣率超500 MS/s[2-3],但是其依賴于高增益帶寬運(yùn)算放大器,因此功耗較高?;谏龎弘姾赊D(zhuǎn)移(Boost-Charge Transfer,BCT)技術(shù)的電荷域流水線ADC 是一種不使用高增益和超寬帶寬運(yùn)算放大器的ADC[4-7],因此能夠在實(shí)現(xiàn)高采樣率和高精度的同時(shí)具備較低的功耗。要實(shí)現(xiàn)高速和高精度的電荷域流水線ADC,最核心的問題就是電荷信號(hào)的存儲(chǔ)傳輸、比較量化以及加減運(yùn)算等關(guān)鍵步驟在現(xiàn)有的CMOS 工藝條件下能夠高效并精確地實(shí)現(xiàn),因此必須開發(fā)一種適用于普通CMOS 工藝的高精度電荷信號(hào)傳輸電路。文獻(xiàn)[5]中采用了一種具有代表性的電荷信號(hào)傳輸電路,但是由于信號(hào)傳輸管源漏電壓差的限制,其傳輸信號(hào)擺幅受到較大的限制。
本文提出了一種基于普通CMOS 工藝的高精度大擺幅電荷傳輸電路,采用柵壓自舉技術(shù),在實(shí)現(xiàn)高精度電荷傳輸控制的同時(shí),具備較高的模擬輸入擺幅?;谠撾姾蓚鬏旊娐?,采用0.18 μm CMOS 工藝設(shè)計(jì)了一款低功耗14 位200 MS/s 電荷域流水線ADC,并進(jìn)行了流片和相應(yīng)的測(cè)試分析。
現(xiàn)有高效電荷傳輸電路實(shí)現(xiàn)方式如圖1(a)所示,電荷信號(hào)傳輸MOSFET 管S 的柵極電壓VG被連接到由MOSFET 管M1、M2 和M3 構(gòu)成的運(yùn)算放大器1 的輸出端,運(yùn)算放大器1 的輸出端電荷傳輸之前,S 管處于關(guān)斷狀態(tài),待傳輸電荷被存儲(chǔ)在電容C1上。其工作電壓波形如圖1(b)所示,在t0時(shí)刻控制信號(hào)時(shí)鐘Ck1和Ck1n的電壓發(fā)生跳變,S 管漏端電壓VNi突變到一個(gè)低電位,而源端電壓VNo突變到高電位,運(yùn)算放大器將會(huì)響應(yīng)該變化并驅(qū)動(dòng)S 管導(dǎo)通;在t1時(shí)刻,當(dāng)VNi上升到VR時(shí),VG逐漸降低到截止電壓Vth,S 管重新關(guān)斷,電荷傳輸過程結(jié)束,其中VR由共源共柵運(yùn)算放大器的靜態(tài)工作點(diǎn)確定。
當(dāng)電荷傳輸結(jié)束時(shí),MOSFET 管S 的源和漏兩端保持了一個(gè)壓差VDS,為保證電荷傳輸過程的安全可靠,VDS通常被設(shè)置在電源電壓VDD的20%左右。在1.8 V 電源電壓條件下,VDS為0.35~0.4 V,這就明顯降低了電荷域ADC 流水線子級(jí)電路能處理的輸入模擬信號(hào)擺幅范圍。
圖1 的信號(hào)傳輸電路中,主要與輸入信號(hào)擺幅相關(guān)的信號(hào)節(jié)點(diǎn)為電荷傳輸管MOSFET 管S 的柵、漏、源和襯底4 端。由于在實(shí)際電路中,源端和漏端分別屬于前后相連的2 個(gè)子級(jí)電路,因此源端的電容是漏端電容的2N 倍(N 為源端所在子級(jí)電路的位數(shù)),導(dǎo)致電荷傳輸時(shí)漏端電壓下降幅度是源端的2N 倍,因此電路的有效信號(hào)擺幅VA主要表現(xiàn)為漏端電壓下降幅度,即:
圖1 現(xiàn)有增強(qiáng)型電荷傳輸電路結(jié)構(gòu)和工作電壓波形
其中VCK1n為控制信號(hào)時(shí)鐘CK1n的高電平電壓。在低電壓條件下,VDS沒有優(yōu)化空間;VCK1n電壓為芯片的全局性基準(zhǔn)電壓,實(shí)際電路中其最大值受S 管柵端電壓限制,較難達(dá)到理論最大值VDD。因此,要增大信號(hào)擺幅,必須克服VDD對(duì)VCK1n電壓的限制。
為克服VDD對(duì)擺幅的限制,本文提出了一種采用柵壓自舉技術(shù)的電荷信號(hào)傳輸電路,其電路結(jié)構(gòu)如圖2 所示。采用柵壓自舉技術(shù)(即圖2 中的柵自舉增壓電路),在電荷傳輸時(shí)將S 管柵端電壓抬高一個(gè)VDD電壓,這樣VCK1n的上限可以提高到VDD,從而增加BCT的信號(hào)擺幅。
圖2 柵壓自舉電荷傳輸電路結(jié)構(gòu)
當(dāng)進(jìn)行電荷傳輸時(shí),柵壓自舉增壓電路處于增壓狀態(tài),電荷傳輸MOSFET 管的柵極為高電平VDD+VNi,處于導(dǎo)通狀態(tài);當(dāng)電荷傳輸結(jié)束后,柵壓自舉增壓電路處于充電狀態(tài),S 管的柵極接地,處于關(guān)斷狀態(tài)。
通過采用柵壓自舉技術(shù),VCK1n被提高到V′CK1n,達(dá)到理論上的上限VDD,由此BCT 電路的信號(hào)擺幅V′A增加了V′CK1n-VCK1n。
本文設(shè)計(jì)的柵壓自舉增壓電路的結(jié)構(gòu)如圖3 所示。當(dāng)時(shí)鐘Ck1為高電平時(shí),MOS 管Mb2、Mb6、Mb4和Mb1 導(dǎo)通,Mb7 截止,電容Cb1開始充電至兩端電壓接近電源電壓VDD,并存儲(chǔ)VDD×Cb1的電量,柵壓自舉增壓電路處于充電狀態(tài);當(dāng)時(shí)鐘Ck1由高變低時(shí),MOS 管Mb2、Mb6 截止,而Mb7 和Mb4 導(dǎo)通,電源開始對(duì)結(jié)點(diǎn)的對(duì)地寄生電容充電,使結(jié)點(diǎn)電壓Vboost升高,從而使Mb1 截止,Mb5 和Mb3 導(dǎo)通,輸入信號(hào)通過Mb3 抬升電容Cb1下極板電壓直到其值等于輸入電壓VNi;由于電容Cb1上存儲(chǔ)的電荷在時(shí)鐘Ck變化過程中沒有放電回路,存儲(chǔ)在其上的電荷保持不變,電容Cbl上極板的電壓就會(huì)同步上升,直到其值等于VDD+VNi,實(shí)現(xiàn)了柵壓自舉功能,柵壓自舉增壓電路處于增壓狀態(tài)。
圖3 柵壓自舉增壓電路結(jié)構(gòu)
基于第2 節(jié)提出的柵壓自舉電荷信號(hào)傳輸電路,本文設(shè)計(jì)了一款14 位200 MS/s 電荷域流水線ADC,其架構(gòu)如圖4 所示。14 位電荷域流水線ADC 包括1個(gè)高速低失真采樣保持電路、3 個(gè)2.5 位電荷域子級(jí)、5個(gè)連續(xù)的1.5 位電荷域子級(jí)和1 個(gè)3 位Flash 級(jí)。輸入的差分模擬電壓信號(hào)Vin和Vip分別通過采樣保持電路進(jìn)行采樣并轉(zhuǎn)換為電荷域信號(hào)Qin和Qip;通過8 個(gè)電荷域子級(jí)和最終Flash 級(jí)對(duì)Qin和Qip進(jìn)行逐級(jí)處理。數(shù)字校正邏輯從所有子級(jí)獲得22 位量化輸出,并生成最終的14 位輸出碼。在14 位電荷域流水線ADC中,采用不交疊的兩項(xiàng)時(shí)鐘控制共模電荷補(bǔ)償電路。在前4 級(jí)流水線之間分別采用了前饋電荷補(bǔ)償技術(shù)來實(shí)時(shí)補(bǔ)償因輸入電荷共模電平所造成的電荷誤差。
圖4 14 位電荷域ADC 結(jié)構(gòu)
該ADC 采用1.8 V IP6M 0.18 μm CMOS 工藝設(shè)計(jì)和流片,電路模塊布局如圖5 所示。核心部分包括采樣保持電路和電荷域流水線子級(jí);占空比調(diào)節(jié)/控制電路和數(shù)字編碼電路在版圖底部,共模電荷控制/前饋電路在頂部,帶隙基準(zhǔn)和緩沖放大器在右側(cè),電路尺寸約為2.2 mm×1.4 mm。
圖5 14 位200 MS/s ADC 芯片布局
在200 MS/s 采樣速率下,輸入頻率為20.1 MHz和189.9 MHz 時(shí)所測(cè)得的頻譜如圖6 所示。
圖6 本論文提出的ADC 頻譜
輸入頻率為20.1 MHz 時(shí),信噪比(Signal-Noise Ratio,SNR) 為 64.5 dBFS, 無 雜 散 動(dòng) 態(tài) 范 圍(Spurious-Free Dynamic Range,SFDR)為76.3 dBc,信噪失真比(Signal-to-Noise and Distortion Ratio,SNDR)為65.8 dBFS;輸入頻率為189.9 MHz 時(shí),SNR 為61.7 dBFS,SFDR 為72.6 dBc,SNDR 為61.3 dBFS。ADC 非線性測(cè)試結(jié)果如圖7 所示,其最大積分非線性誤差(Integral Nonlinearity,INL)為+3.43~-5.52 LSB,最大微分非線性誤差(Differential Nonlinearity,DNL)為+1.23~-0.83 LSB。
圖7 本論文提出的ADC INL 和DNL 測(cè)試結(jié)果
本文實(shí)現(xiàn)的ADC 樣品測(cè)量結(jié)果與近年來報(bào)道的高速ADC[6-9]性能對(duì)比如表1 所示?;谒岢龅墓材k姾裳a(bǔ)償電路的14 位200 MS/s 電荷域ADC的品質(zhì)因數(shù)(FoM)為204fJ/Step,優(yōu)于文獻(xiàn)[8,10]中ADC 的FoM。
表1 性能對(duì)比
本文在現(xiàn)有電荷傳輸電路的基礎(chǔ)上,采用柵壓自舉技術(shù),在實(shí)現(xiàn)高精度電荷傳輸控制的同時(shí)具備較高的模擬輸入擺幅?;谠摷夹g(shù),采用0.18 μm CMOS工藝設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)了一款14 位200 MS/s 電荷域流水線ADC。在189.9 MHz 信號(hào)輸入和200 MS/s 采樣率下,該ADC 實(shí)現(xiàn)了61.7 dBFS 的SNR 和72.6 dBc 的SFDR。ADC 內(nèi)核功耗僅為102 mW,面積為3.08 mm2。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,本文提出的共模電荷補(bǔ)償技術(shù)能夠較好地抑制輸入共模電荷變化對(duì)ADC 性能帶來的影響,實(shí)現(xiàn)高速和低功耗流水線ADC。