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基于氮化鋁基板的功率負載設(shè)計與制備

2022-06-18 08:00李豐王志會常青松白銳史光華
電子元器件與信息技術(shù) 2022年4期
關(guān)鍵詞:氮化漿料基板

李豐,王志會,常青松,白銳,史光華

中國電子科技集團公司第十三研究所,河北石家莊,050051

0 引言

功率負載是微波系統(tǒng)中重要的一類通用元件。隨著功率器件在系統(tǒng)中的廣泛應(yīng)用以及功率的不斷提升,功率負載對整個系統(tǒng)性能的影響就越發(fā)突出。微波功率負載在系統(tǒng)中主要起到匹配和吸收功率的作用,要求工作頻率更高、承受功率更大、尺寸更小,可靠性更高。傳統(tǒng)設(shè)計中采用氧化鈹陶瓷基板作為負載材料,其具有很高的熱導(dǎo)率和絕緣電阻,一直用作微波或射頻功率電阻的絕緣基板。但氧化鈹粉塵和粉末有害環(huán)境,需要特殊的技術(shù)處理。隨著歐盟Rohs標(biāo)準(zhǔn)的實施,在民用器件中禁止使用有毒性的氧化鈹陶瓷基板。近年來,隨著氮化鋁(AlN)材料的廣泛應(yīng)用,業(yè)內(nèi)已經(jīng)使用氮化鋁陶瓷基板來取代氧化鈹陶瓷,制作功率電路和器件。

氮化鋁陶瓷基板的介電常數(shù)約為8.8MHz,熱導(dǎo)率為170W/m·K,熱膨脹系數(shù)為4.45×10-6/℃,與氧化鋁和氧化鈹基板比較,其熱導(dǎo)率較高,且熱膨脹系數(shù)較低,適合作微波功率負載基板材料[1-2]。

1 結(jié)構(gòu)設(shè)計和版圖設(shè)計

微波電路在正常工作狀態(tài)時,功率負載電阻上沒有功率或承受很小的泄露功率。但如果系統(tǒng)內(nèi)信號失配,線路和器件的方向性惡化和不平衡時,就會產(chǎn)生有害功率,需要負載電阻完全將這些有害功率完全吸收,保護系統(tǒng)內(nèi)的重要電路不被燒毀。為了保證可靠性,負載電阻膜的最高溫度不能超過規(guī)定值,一般規(guī)定為150℃,為了限制電阻膜的最高溫度,陶瓷基板的熱導(dǎo)率就要高。負載電阻的基板結(jié)構(gòu)如圖1所示。

圖1 負載電阻的基板結(jié)構(gòu)

負載電阻的一端通過側(cè)面方式與背面接地,另一端有阻抗匹配電路同特定電阻值相匹配,阻值一般為50Ω。大功率負載電阻一般將熱沉、陶瓷基板和引線焊接在一起,上面粘附氧化鋁(96%)瓷蓋,保護引線、印刷標(biāo)識。

用氮化鋁基片制作微波功率負載,目標(biāo)電性能規(guī)格如下:

(1)標(biāo)準(zhǔn)電阻值:50×(1±5%)Ω;

(2)額定功率(峰值):250W;

(3)頻率范圍:DC~2GHz;

(4)電壓駐波比(VSWR):1.30:1

(5)額定功率:100%@100℃;

降額到0%@150℃

(6)工作溫度范圍:-55℃~+150℃

氮化鋁功率負載基板的尺寸為9.5mm×9.5mm×1.5mm,利用微波仿真軟件對負載版圖進行設(shè)計,制作版圖如圖2所示。

圖2 微波功率負載的版圖設(shè)計

2 制備過程

2.1 基板制作

氮化鋁基板功率負載的基板制作工藝是關(guān)鍵。基板制作途徑通常有薄膜工藝、厚膜工藝、薄厚膜結(jié)合工藝[3-4]。

2.1.1 薄膜工藝

薄膜工藝流程:氮化鋁基板(50mm×50 mm×1mm)準(zhǔn)備→基板清洗→濺射→光刻→電鍍(銅/鎳/金)→退火→激光調(diào)阻→砂輪劃片(9.5mm×9.5mm)→印刷電阻保護層[5]。

正式加工過兩個批次的產(chǎn)品,經(jīng)篩選后,通過了規(guī)定的例行試驗。電阻材料為鎳鉻或氮化鉭,與陶瓷基板匹配良好,阻值穩(wěn)定,溫度系數(shù)小,耐高溫、耐環(huán)境性能好。該工藝的缺點:要進行多次光刻,砂輪劃片效率低,上批量困難;側(cè)面接地要在焊接完后用導(dǎo)電膠完成,耐大電流性能、導(dǎo)熱性能差。

2.1.2 厚膜工藝

(1)厚膜工藝流程:氮化鋁基片(9.5mm×9.5mm)→基板清洗→印刷背面導(dǎo)體→烘干→印刷正面導(dǎo)體→烘干→燒結(jié)→側(cè)面接地連線→燒結(jié)→負載電阻制作→保護玻璃制作→激光調(diào)阻→電阻保護層制作。該途徑工藝簡單,沒有光刻、電鍍和砂輪劃片工藝,容易批量生產(chǎn);側(cè)壁接地連線燒結(jié)工藝,耐大電流,散熱性能好。

(2)氮化鋁系導(dǎo)體漿料的選擇:氮化鋁系基板的導(dǎo)體漿料有ESL公司的9913銀漿料和9633-I銀鈀導(dǎo)體漿料,經(jīng)過實驗發(fā)現(xiàn),9633-I銀鈀導(dǎo)體漿料燒結(jié)膜厚不得超過12μm,否則導(dǎo)體表面會出現(xiàn)龜裂紋,而9633-I銀鈀導(dǎo)體漿料的性能比較穩(wěn)定,因此采用9913銀漿料。

(3)氮化鋁系電阻漿料的選擇:氮化鋁系電阻漿料需要考察其穩(wěn)定性、可靠性和匹配性。本方案采用AN615電阻漿料進行實驗,在制備過程中應(yīng)充分考察電阻漿料與陶瓷基板的匹配性是否合適,否則會影響產(chǎn)品質(zhì)量。主要表現(xiàn)在以下方面:①方阻值對燒結(jié)條件非常敏感,不容易穩(wěn)定控制,燒結(jié)膜不夠光亮,不致密;②阻值不穩(wěn)定。在125℃高溫儲存42天(1000小時),中間抽測,阻值不斷增長,阻值共增大5.04%~6.66%。③激光修調(diào)困難。在空氣氣氛中,激光照射下氮化鋁容易分解為氧化鋁和金屬鋁,導(dǎo)致修調(diào)區(qū)不能絕緣。

2.1.3 薄厚膜結(jié)合工藝

導(dǎo)體和側(cè)面接地采用厚膜工藝制作,電阻用薄膜工藝制作。加工流程:氮化鋁基板(9.5 mm×9.5mm)→印刷背面導(dǎo)體→烘干→印刷正面導(dǎo)體→烘干→燒結(jié)→側(cè)面接地連線→燒結(jié)→濺射薄膜電阻→激光調(diào)阻→印刷電阻保護層。

制作專門的工裝、掩膜后,僅將基板上電阻及搭接區(qū)露出來,濺射氮化鉭/鎳鉻薄膜電阻。濺射薄膜方阻控制在50×(1±10%)Ω/□以內(nèi)。薄膜電阻的激光修調(diào)功率約為厚膜的十分之一,將電阻膜灼燒干凈,氮化鋁基板不受影響,仍然為絕緣狀態(tài)。嚴格控制各修調(diào)參數(shù),阻值控制非常精確。為了保證大功率和高耐壓的需要,激光修調(diào)時以電阻為中心,從兩側(cè)對稱修調(diào),修調(diào)模式為掃描修調(diào)。利用該工藝制作了兩個批次的產(chǎn)品,組裝后測試產(chǎn)品性能良好,工藝穩(wěn)定可靠。

2.2 功率負載組裝工藝

微波功率負載組裝工藝流程:負載基板、熱沉和引線準(zhǔn)備→焊接→清洗→粘接保護瓷蓋→成品。為了符合歐盟Rohs標(biāo)準(zhǔn)和國軍標(biāo)要求,焊料使用無鉛焊錫片,焊接牢固可靠。負載散熱主要靠熱沉傳導(dǎo),焊接面的氣孔率要小。

為了將對射頻參數(shù)的影響降到最小和散熱良好,粘接保護瓷蓋時膠黏劑的配方要嚴格控制,瓷蓋厚度要薄。實踐證明,粘接保護瓷蓋后,器件的電壓駐波比增加量小于0.05。

3 測試結(jié)果和性能分析

3.1 測試結(jié)果

利用厚膜導(dǎo)體、薄膜電阻工藝制作微波功率負載,并制作專門測試夾具對其參數(shù)進行測試。采用數(shù)字多用表測量電阻值,用矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀測量微波參數(shù)。其中功率負載的電阻值范圍在±5%以內(nèi),在頻率范圍:DC~2GHz內(nèi),電壓駐波比(VSWR)<1.3:1,電性能參數(shù)達到預(yù)期的指標(biāo)。

氮化鋁陶瓷基板選擇自制的精磨基板,性能穩(wěn)定,同一批產(chǎn)品的射頻性能一致性非常好。不同批次的材料對工藝兼容性沒有任何影響。

3.2 性能分析

電阻膜的電阻溫度系數(shù)(RTC)是射頻功率負載穩(wěn)定性的一個重要指標(biāo)。該器件的電阻溫度系數(shù)計算公式如下:

式中,R1—— 基準(zhǔn)溫度下的電阻值,Ω;

R2——測試溫度下的電阻值,Ω;

t1——基準(zhǔn)溫度,℃;

t2——測試溫度,℃。

當(dāng)t1為25℃,t2分別為125℃和-55℃。表2是微波功率負載的電阻溫度系數(shù)。

由表1可見,該薄膜電阻的電阻溫度系數(shù)為負,在-55℃~125℃范圍之內(nèi),溫度系數(shù)基本小于50×10-6/℃,非常穩(wěn)定。

表1 射頻功率負載的電阻溫度系數(shù)

為了驗證該射頻功率負載的可靠性,考察了高溫貯存、溫度循環(huán)和高溫加電對產(chǎn)品性能的影響。射頻功率負載在125℃的高溫烘箱中高溫貯存1000小時后,測量阻值在高溫貯存前后的變化,計算變化率,具體數(shù)據(jù)見表2。

表2 高溫貯存(1000h)功率負載阻值變化

由表2可見,高溫儲存使功率負載的阻值向正的方向變化,一致性良好,小于0.37%。

在高溫儲存之后,產(chǎn)品接著進行溫度循環(huán)試驗,檢驗器件經(jīng)受環(huán)境溫度迅速變化的能力。溫度循環(huán)試驗條件為:-55℃~+125℃;試驗時間:30分鐘,轉(zhuǎn)換時間≤5分鐘;循環(huán)次數(shù):20次。阻值變化的具體數(shù)據(jù)見表3。

表3 溫度循環(huán)功率負載阻值變化

由表3可見,溫度循環(huán)使功率負載的阻值向負的方向變化,但是變化的比例很小。

高溫老煉試驗可以驗證負載功率在承受功率和散熱情況,同時驗證阻值惡化趨勢。將功率負載安裝在散熱器上,施加直流功率,功率值為額定功率的25%(約62.5W),試驗熱沉溫度為70℃±5℃;工作時間:168小時。

由表4可見,高溫老煉后功率負載的阻值略有增加,增加的幅度小于0.4%,功率負載的穩(wěn)定性、可靠性良好。

表4 高溫老煉功率負載阻值變化

利用厚膜和薄膜工藝相結(jié)合的方法,制作的微波功率負載的電阻溫度系數(shù)很小(<50×10-6/℃),高溫貯存、溫度循環(huán)和高溫老煉對射頻功率負載的影響較小??梢娫摫∧る娮枧c厚膜導(dǎo)體之間黏附性良好,與氮化鋁陶瓷基板的互相匹配良好,性能穩(wěn)定。

4 結(jié)語

隨著環(huán)境保護的日益加強,使用氮化鋁陶瓷基板來取代氧化鈹陶瓷,制作功率電路和器件是大勢所趨。

本文將兩種工藝結(jié)合起來,用厚膜工藝制作導(dǎo)體和側(cè)面接地,用磁控濺射的薄膜工藝制作電阻,制作出了微波功率負載。其額定功率(峰值):250W,頻率范圍:DC~2GHz,電壓駐波比(VSWR):1.30:1。

該氮化鋁陶瓷基板微波功率負載的電阻溫度系數(shù)很?。ǎ?0×10-6/℃),高溫貯存、溫度循環(huán)和高溫老煉對功率負載的影響較小,工藝簡單實用,器件性能穩(wěn)定可靠。

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