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多晶硅冷氫化系統(tǒng)中重金屬雜質(zhì)的影響及去除

2021-11-24 23:05李小龍張?zhí)煜?/span>馮茹濤
商品與質(zhì)量 2021年22期
關(guān)鍵詞:氫化雜質(zhì)氣體

李小龍 張?zhí)煜?馮茹濤

新特能源股份有限公司 新疆烏魯木齊 831408

1 使用冷氫化系統(tǒng)作業(yè)的主要步驟

冷氫化技術(shù)在應用過程中會用到SiCl4、Si粉以及H2,并且還要將溫度控制在500-550攝氏度之間、壓力控制在2-3MPa(G)之前,在催化劑的作用下進行化學反應。此實驗在進行過程中,硅粉會呈現(xiàn)出一種沸騰的感覺,并且會有SiHCl3以及SiHCl3等物質(zhì)產(chǎn)生。在內(nèi)置旋風分離器的作用下,會將主反應所產(chǎn)生的氣體進行過濾,達到去除Si粉的作用,隨后再經(jīng)過一系列反應過濾出氯硅烷液體物質(zhì),此時會有產(chǎn)生的氣體進入系統(tǒng)進行在此使用,并會在粗餾系統(tǒng)作用下將沒能參與反應的SiCl4粗品進行循環(huán)再使用,SiHCl3粗品經(jīng)過加工產(chǎn)生精品,在此過程中需要及時對廢渣液進行清理,至此,整個作業(yè)流程結(jié)束,其中所涉及到的主要方程式包括以下三個:首先,主反應所涉及到的方程式為Si+2H2+3SiCl4=4SiHCl3;其次,副反應涉及到的方程式有SiCl4+Si+2H2=2SiH2Cl2、2SiHCl3=SiCl4+SiH2Cl2兩種,整個作業(yè)流程圖如下:

2 在使用冷氫化技術(shù)時產(chǎn)生雜質(zhì)的主要原因以及對整體的影響

2.1 在使用冷氫化技術(shù)時產(chǎn)生雜質(zhì)的主要原因

由于Si粉在進行反應時會將所含的金屬物質(zhì)分離出來,倘若這些雜質(zhì)不能及時排出,便會使得整個流程中產(chǎn)生金屬氯化物,進而會出現(xiàn)沉淀,對后續(xù)環(huán)節(jié)的工作產(chǎn)生影響[1]。

2.2 在使用冷氫化技術(shù)時產(chǎn)生雜質(zhì)對整體的影響

倘若SiCl4粗品在進行循環(huán)使用時未能及時將殘留物質(zhì)排除,其中反應所產(chǎn)生的金屬氯化物便會一直在系統(tǒng)內(nèi)進行循環(huán),又因為金屬氯化物經(jīng)過一系列反應會出現(xiàn)晶體,當數(shù)量達到極限時便會使管道出現(xiàn)堵塞的現(xiàn)象,通過調(diào)查主要記錄到以下幾種現(xiàn)象:

第一,致使反應器分布板出現(xiàn)堵塞。當含有少量Si粉的SiCl4與金屬氯化物發(fā)生反應時會有氣體產(chǎn)生,并會通過分布板進行輸送,最后達到反應器內(nèi),此時倘若氣體的速度達到某種程度后,分布板中心所能承受的風速會與邊緣傳遞的風速產(chǎn)生的差值基本不變,再加上泡罩式風帽結(jié)構(gòu)作用的約束,使得整體的流通速度要低于直噴式流通速度,這時上述反應所產(chǎn)生的雜志便會在進口處產(chǎn)生堆積,不利于氣體的流通,最后出現(xiàn)堵塞的現(xiàn)象,同時會導致分布板的壓差值增加。長此以往,便會對分布板造成破壞,還有出現(xiàn)爐壁穿孔的可能,對生產(chǎn)員工的生命安全造成隱患。

第二,對換熱器的作業(yè)效率產(chǎn)生影響。由于在使用冷氫化技術(shù)時需要有SiCl4氣體參與反應,在反應器的作用下進行反應,最后會將液態(tài)物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),當SiCl4氣體完成反應后會將產(chǎn)生的雜質(zhì)附著在換熱器中,會迫使冷氫化系統(tǒng)停止作業(yè),對后續(xù)工作的帶來不便。

第三,對過濾器的正常運行造成影響。當氣體進入到系統(tǒng)進行反應時,所產(chǎn)生的液態(tài)混合氯硅烷會有一部分繼續(xù)循環(huán)到淋洗器開展作業(yè),此時會出現(xiàn)過濾器堵塞的現(xiàn)象,整個清理過程是十分復雜的,并且所排出的雜質(zhì)中含有危險物質(zhì),對生產(chǎn)環(huán)境造成很大的威脅。

3 在使用冷氫化技術(shù)時去除重金屬物質(zhì)的主要策略

3.1 加大對循環(huán)使用物料的處理力度

由于在使用冷氫化技術(shù)時會產(chǎn)生一定量的殘液,此過程需要在螺旋的作用下對循環(huán)物質(zhì)進行處理,確保所有殘液均能夠經(jīng)過充分處理,最大限度地將金屬氯化物以及Si粉進行去除,并且要對提取到精制的氯硅烷物質(zhì),并對重要物質(zhì)進行淋洗,確保所搜集物質(zhì)的純凈度。

3.2 加大對除重塔內(nèi)回流量的控制力度

由于在使用冷氫化技術(shù)時會出現(xiàn)回流量不足的現(xiàn)象,這便會在一定程度上阻礙清除氯化物效率,因此,生產(chǎn)人員需要合理應用相關(guān)技術(shù),確?;亓髁磕軌蛱岣叩侥骋粩?shù)值,保證工作效率。

3.3 對所分離的物質(zhì)進行提純處理

此過程需要加大對高純度氯硅烷的搜集,在完成搜集工作后重新進行排放,能夠有效解決堵塞的問題,減少系統(tǒng)內(nèi)重金屬雜質(zhì)的存留。

4 所達成的優(yōu)化效果

(1)通過數(shù)據(jù)可以看出,進行優(yōu)化后金屬氯化物的數(shù)據(jù)要遠遠低于優(yōu)化前,有著十分顯著的效果,具體內(nèi)容如下:

管內(nèi)所含有的金屬雜質(zhì):鋁,優(yōu)化前含量2850×10-9,優(yōu)化后含量600×-9。

鐵,優(yōu)化前含量56×-9,優(yōu)化后含量10×-9。

鈣,優(yōu)化前含量10×-9,優(yōu)化后含量2×-9。

在保證所有物質(zhì)用量以及環(huán)境因素相同的前提下,對管內(nèi)所含有的金屬雜質(zhì)進行對比,其中優(yōu)化后的含量要遠遠低于優(yōu)化前,能夠有效去除管內(nèi)一些雜質(zhì)。

(2)在解決完堵塞問題后,對設(shè)備能夠運行時間以及分布板壓差進行了記錄,主要數(shù)據(jù)如下:優(yōu)化前,運行時間三個月,分布板壓差70kPa;優(yōu)化后,運行時間8個月,分布板壓差30kPa。

5 結(jié)語

通過上文的論述可以發(fā)現(xiàn),制定完善的優(yōu)化方案能夠有效處理金屬氯化物留存的問題,并且能夠有效解決設(shè)備堵塞問題,提高效率,值得推廣,進而能夠確保整個技術(shù)能夠穩(wěn)定、安全工作,推動相關(guān)企業(yè)的發(fā)展,為提高多晶硅的純度提供了幫助。

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