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西安200 MeV質(zhì)子應(yīng)用裝置的建設(shè)及調(diào)試

2021-11-10 13:08:40王忠明邱孟通閆逸花王敏文王百川劉臥龍王茂成趙銘彤魏崇陽王學(xué)武關(guān)遐令鄭曙昕邢慶子姚紅娟杜泰斌張化一杜暢通馬鵬飛劉曉宇葉文博于旭東
現(xiàn)代應(yīng)用物理 2021年3期
關(guān)鍵詞:束流加速器磁鐵

王忠明, 陳 偉, 邱孟通, 閆逸花,張 輝, 王敏文,王百川,, 楊 業(yè),, 王 迪, 劉臥龍, 王茂成,呂 偉, 趙銘彤, 趙 晨, 魏崇陽, 王學(xué)武, 關(guān)遐令,鄭曙昕, 邢慶子, 姚紅娟, 程 誠(chéng), 杜泰斌,張化一, 雷 鈺, 王 丹, 杜暢通, 馬鵬飛, 劉曉宇, 李 巖, 葉文博, 于旭東

(1. 強(qiáng)脈沖輻射環(huán)境模擬與效應(yīng)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室, 西安 710024; 2. 西北核技術(shù)研究所, 西安 710024;3. 粒子技術(shù)與輻射成像教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室, 北京 100084; 4. 清華大學(xué) 先進(jìn)輻射源及應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室, 北京 100084; 5. 清華大學(xué) 工程物理系, 北京 100084)

衛(wèi)星和航天器工作在帶電粒子構(gòu)成的空間輻射環(huán)境中。空間輻射環(huán)境中的高能帶電粒子在半導(dǎo)體器件中誘發(fā)的輻射效應(yīng),可導(dǎo)致器件工作性能退化、工作狀態(tài)突變甚至永久性損傷,嚴(yán)重影響衛(wèi)星和航天器的可靠性及壽命。

宇航抗輻射器件屬于西方國(guó)家嚴(yán)格禁運(yùn)產(chǎn)品,我國(guó)必須形成自主可控能力。近年來,我國(guó)已投入大量科研經(jīng)費(fèi)用于實(shí)現(xiàn)宇航器件的國(guó)產(chǎn)化。這些器件具有明確的抗輻射加固指標(biāo),需要開展地面抗輻射性能研究與考核評(píng)估。長(zhǎng)期以來,我國(guó)一直缺乏專用的空間單粒子效應(yīng)考核的質(zhì)子輻照實(shí)驗(yàn)裝置。西安200 MeV質(zhì)子應(yīng)用裝置(Xi’an 200 MeV Proton Application Facility, XiPAF)正是基于上述重大需求提出的。該裝置的核心是一臺(tái)最高能量為200 MeV的質(zhì)子加速器,建成后可開展宇航級(jí)抗輻射電子器件的空間輻射效應(yīng)及輻射探測(cè)技術(shù)等方面的研究工作。

XiPAF采用以直線加速器作為注入器的同步加速器技術(shù)路線。7 MeV的直線加速器由負(fù)氫離子源、低能束流輸運(yùn)線(low energy beam transport, LEBT)、射頻四極加速器(radio frequency quadrupole, RFQ)、漂移管直線加速器(drift tube linac, DTL)及射頻功率源組成,總長(zhǎng)約7 m,為同步加速器提供低發(fā)射度和低能散度的注入束流。同步加速器采用六折對(duì)稱的磁聚焦結(jié)構(gòu),周長(zhǎng)約30 m,由6塊二極磁鐵、12塊四極磁鐵、4塊六極磁鐵、1套高頻加速腔和1套注入引出系統(tǒng)組成。同步加速器采用慢引出模式,利用三階共振原理,將質(zhì)子束流在1~10 s內(nèi)均勻引出到實(shí)驗(yàn)終端供用戶使用。設(shè)計(jì)引出能量在60~200 MeV之間連續(xù)可調(diào),每個(gè)周期環(huán)中存儲(chǔ)的最大粒子數(shù)為2×1011,引出到終端的束流強(qiáng)度在105~108cm-2·s-1之間連續(xù)可調(diào)。實(shí)驗(yàn)終端采用階梯場(chǎng)磁鐵獲得面積在100 cm2范圍內(nèi)均勻分布的束流,并配備樣品輻照支架和束流監(jiān)測(cè)系統(tǒng),適宜于開展各種類型的質(zhì)子輻照實(shí)驗(yàn)。XiPAF的主要設(shè)計(jì)指標(biāo)如表1所列,加速器的布局如圖1所示[1-2]。

表1 XiPAF主要設(shè)計(jì)指標(biāo)Tab.1 Main design parameters of XiPAF

圖1 XiPAF加速器布局的3維模型Fig.1 3D model of XiPAF accelerator

2014年,XiPAF建設(shè)正式立項(xiàng),經(jīng)過總體方案設(shè)計(jì)、初步設(shè)計(jì)、詳細(xì)設(shè)計(jì)、分系統(tǒng)研制和整機(jī)安裝調(diào)試5個(gè)階段的建設(shè),在2020年初實(shí)現(xiàn)了首次成功出束,又經(jīng)近一年的束流調(diào)試,目前已基本達(dá)到設(shè)計(jì)指標(biāo),并開展了2輪小規(guī)模用戶實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了裝置對(duì)外提供束流實(shí)驗(yàn)的技術(shù)能力。2021年,裝置將正式對(duì)外開放運(yùn)行。本文簡(jiǎn)要介紹該裝置的基本情況和建設(shè)進(jìn)展。

1 XiPAF概述

1.1 負(fù)氫離子源

XiPAF裝置采用1套2.45 GHz微波驅(qū)動(dòng)的體效應(yīng)負(fù)氫離子源,圖2為XiPAF負(fù)氫離子源結(jié)構(gòu)示意圖。源體分為微波饋入、初級(jí)等離子體區(qū)、磁簾、等離子體引出區(qū)和帶電子吸收的引出區(qū)5個(gè)部分。

圖2 XiPAF負(fù)氫離子源結(jié)構(gòu)示意圖Fig.2 Sketch map of XiPAF H- ion source

等離子體引出區(qū)設(shè)計(jì)有“肩”結(jié)構(gòu),電子流的吸收在引出電極內(nèi)進(jìn)行。另外,在磁簾區(qū)安裝了柵網(wǎng),用于阻斷微波在離子源放電室中的傳輸,減少負(fù)氫離子區(qū)的電子被加熱的概率,抑制該區(qū)域電子溫度的增長(zhǎng),獲得更多的低能電子。離子源為無銫結(jié)構(gòu),各區(qū)域磁場(chǎng)由永磁鐵產(chǎn)生。引出系統(tǒng)由等離子體電極與地電極構(gòu)成,利用2個(gè)電極之間的高壓電場(chǎng)把負(fù)氫離子加速到50 keV后引出[3]。

1.2 低能束流輸運(yùn)線

LEBT的主要設(shè)計(jì)目標(biāo)為: 1)實(shí)現(xiàn)RFQ入口處Twiss參數(shù)的匹配; 2)實(shí)現(xiàn)束流脈沖寬度可調(diào),由于離子源引出機(jī)制的限制及LEBT負(fù)氫離子束空間電荷中和的要求,離子源引出的束流脈沖寬度為300~500 μs,大于整體加速器對(duì)束流脈沖寬度的要求,需要在LEBT中添加斬波器(chopper),使到達(dá)RFQ入口位置的束流脈沖寬度為10~40 μs; 3)盡量減少束流發(fā)射度的增長(zhǎng)和束流損失。

LEBT的主體設(shè)計(jì)采用了2套螺線管透鏡、2套導(dǎo)向磁鐵和1套斬波器。LEBT的束流診斷系統(tǒng)包括位于第一診斷室的法拉第筒、位于第二診斷室的1套雙狹縫發(fā)射度儀及位于出口處的1套交流電流變壓器(ACCT)。LEBT的整體物理設(shè)計(jì)長(zhǎng)度為1.8 m,圖3為L(zhǎng)EBT元件布局圖。

圖3 LEBT元件布局圖Fig.3 Layout of XiPAF LEBT

1.3 射頻四極加速器

RFQ采用變電壓設(shè)計(jì),出口能量為3 MeV,總長(zhǎng)度約為3 m。通過增大孔徑和加速梯度,在RFQ長(zhǎng)度盡量縮短的情況下保證了高的傳輸效率。聚焦強(qiáng)度不為常數(shù),增大了設(shè)計(jì)的靈活性,通過調(diào)整RFQ高能端的聚焦常數(shù),實(shí)現(xiàn)了RFQ和DTL之間的直接橫向和縱向匹配。圖4為RFQ主要設(shè)計(jì)參數(shù)隨縱向位置的變化關(guān)系[4]。

圖4 RFQ主要參數(shù)隨縱向位置的變化Fig.4 RFQ design parameters vs. longtudinal position

1.4 漂移管直線加速器

XiPAF采用1套交叉指型H模DTL(interdigital H-mode DTL, IHDTL),出口能量為7 MeV,設(shè)計(jì)的最高峰值電流為15 mA,總長(zhǎng)度約為1.2 m。IHDTL采用一種修正的KONUS束流動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì),沿縱向分為聚束段、0°加速段和散束段。這種設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)有2個(gè),一是聚束段采用較大的RF相位,可接受較大的縱向相寬;二是0°加速段后接散束段,在限制束團(tuán)橫向包絡(luò)增長(zhǎng)的同時(shí),增大了IHDTL出口的相位寬度,可減小與下游散束器的距離。設(shè)計(jì)的聚束段的同步相位為-80°,加速間隙(gap)個(gè)數(shù)為3;0°加速段的入口相位為8°,能量跳變系數(shù)(同步粒子的能量與束團(tuán)中心能量的比值)為0.945,gap個(gè)數(shù)為13;散束段的同步相位為10°,gap個(gè)數(shù)為5。圖5為IHDTL模型結(jié)構(gòu)示意圖[5]。

圖5 IHDTL模型示意圖Fig.5 Sketch map of XiPAF IHDTL

1.5 射頻功率源

XiPAF采用2套4616型四極管為RFQ和DTL分別提供射頻功率。圖6為射頻功率源組成原理框圖。射頻功率源以固態(tài)推動(dòng)級(jí)和末級(jí)功率放大器兩級(jí)功率放大鏈路為核心,配置供電分系統(tǒng)、監(jiān)控保護(hù)分系統(tǒng)、冷卻裝置及功率傳輸和監(jiān)測(cè)單元。末級(jí)腔體放大器選用BURLE公司的4616V4型電子管及為其專配的Y1413型同軸輸入輸出腔,輸出功率在20~500 kW之間連續(xù)可調(diào)。2套電子管共用1套陽極高壓電源和監(jiān)控保護(hù)系統(tǒng)。

圖6 射頻功率源系統(tǒng)組成原理框圖Fig.6 Principle diagram of XiPAF linac RF system

1.6 同步環(huán)磁聚焦結(jié)構(gòu)

XiPAF同步環(huán)的主要技術(shù)特點(diǎn)為:

1) 采用負(fù)氫剝離注入和橫向相空間涂抹技術(shù),可有效抑制注入階段低能質(zhì)子的空間電荷效應(yīng);

2) 采用六折對(duì)稱的磁聚焦結(jié)構(gòu)(lattice),簡(jiǎn)化了磁鐵元件設(shè)計(jì),工作點(diǎn)調(diào)節(jié)能力強(qiáng);

3) 采用磁合金加載的高頻加速腔,提供了自適應(yīng)的寬帶調(diào)諧能力,不需要額外的調(diào)諧機(jī)構(gòu);

4) 采用三階共振慢引出技術(shù),可穩(wěn)定、均勻的將質(zhì)子束從環(huán)中引出到實(shí)驗(yàn)終端用于用戶實(shí)驗(yàn)。

XiPAF同步環(huán)采用一種稱為missing-dipole的聚焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),其基本單元是用1個(gè)漂移節(jié)代替了1個(gè)聚焦-漂移-散焦-漂移(FODO)單元中的1塊二極鐵。這個(gè)長(zhǎng)的漂移節(jié)可用于安裝注入引出元件、加速元件和束流診斷元件。圖7為同步環(huán)的平面布局和Twiss參數(shù)沿全環(huán)的分布(其中β為包絡(luò)函數(shù),D為色散函數(shù))。表2列出了同步環(huán)的主要設(shè)計(jì)參數(shù)。

(a) Lattice design of XiPAF synchrotron

表2 同步環(huán)的主要設(shè)計(jì)參數(shù)Tab.2 Main parameters of XiPAF synchrotron

1.7 同步環(huán)注入、引出系統(tǒng)

XiPAF同步環(huán)注入系統(tǒng)采用剝離注入和相空間涂抹方法,可克服劉維定理的限制,有效提高注入束流強(qiáng)度。注入系統(tǒng)包括3塊Chicane磁鐵、2塊快脈沖的凸軌磁鐵、1塊注入切割鐵和1套剝離膜系統(tǒng)。3塊Chicane磁鐵提供1個(gè)固定的閉合軌道凸起,2套凸軌磁鐵在30 μs的下降沿上提供最大2.4 cm的軌道凸起,在凸軌下降的過程中實(shí)現(xiàn)注入相空間的涂抹。

XiPAF同步環(huán)引出系統(tǒng)為三階共振慢引出系統(tǒng),采用三整數(shù)共振和射頻踢軌(RF-KO)方法將環(huán)中的束流在1~10 s內(nèi)均勻的引出到實(shí)驗(yàn)終端供用戶使用,采用1套束流反饋系統(tǒng)以調(diào)節(jié)引出束流的時(shí)間均勻性。引出系統(tǒng)包括4塊六極磁鐵、1套靜電偏轉(zhuǎn)板、2塊引出切割磁鐵和1套R(shí)F-KO系統(tǒng)。RF-KO系統(tǒng)采用射頻信號(hào)激勵(lì)環(huán)中工作點(diǎn)位于三整數(shù)共振線附近的束流,使包絡(luò)逐漸增大,位于包絡(luò)外側(cè)的粒子將率先進(jìn)入靜電偏轉(zhuǎn)板的引出通道。

1.8 同步環(huán)高頻加速系統(tǒng)

XiPAF同步環(huán)高頻加速系統(tǒng)采用磁合金材料加載的寬頻帶高頻腔系統(tǒng)。由于磁合金材料的特性,系統(tǒng)具有很好的帶寬和較高的飽和磁通特性。每個(gè)磁合金環(huán)采用1個(gè)獨(dú)立的固態(tài)放大器提供射頻功率輸入。寬頻帶高頻腔可提供不小于800 V的加速電壓,帶寬在1~7 MHz之間自適應(yīng)調(diào)節(jié)。圖8為磁合金腔結(jié)構(gòu)示意圖,表3列出了磁合金腔系統(tǒng)主要設(shè)計(jì)參數(shù)[6-7]。

圖8 磁合金腔結(jié)構(gòu)示意圖Fig.8 Sketch map of XiPAF magnetic alloy loadedRF acceleration system

表3 磁合金腔的主要設(shè)計(jì)參數(shù)Tab.3 Main design parameters of magnetic alloyloaded RF acceleration system

2 XiPAF項(xiàng)目建設(shè)進(jìn)展

XiPAF項(xiàng)目屬于典型的大型科學(xué)裝置類建設(shè)項(xiàng)目,技術(shù)難度大,實(shí)施周期長(zhǎng)。該項(xiàng)目自2010年開始論證,2014年正式立項(xiàng),2014年8月完成總體方案評(píng)審,2015年11月完成初步設(shè)計(jì)評(píng)審,2017年底完成各分系統(tǒng)500余臺(tái)/套設(shè)備的研發(fā)。2018年6月,項(xiàng)目進(jìn)入整機(jī)安裝調(diào)試階段,2019年12月基本完成現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備安裝,圖9為XiPAF裝置安裝現(xiàn)場(chǎng)照片。

圖9 XiPAF裝置安裝現(xiàn)場(chǎng)照片F(xiàn)ig.9 Photo of XiPAF assembly area

2.1 直線加速器調(diào)束進(jìn)展

2.1.1 離子源束流調(diào)試

2014年,XiPAF的負(fù)氫離子源開始研制,完成后陸續(xù)在測(cè)試平臺(tái)上開展了大量針對(duì)源體自身性能的實(shí)驗(yàn)和改進(jìn),最終達(dá)到的技術(shù)指標(biāo)為:在束流能量50 keV,重復(fù)頻率100 Hz,脈沖寬度為500 μs條件下,負(fù)氫束流的峰值電流達(dá)到了8.5 mA,歸一化均方根發(fā)射度為0.25π mm·mrad。負(fù)氫離子源束流強(qiáng)度及發(fā)射度測(cè)試結(jié)果如圖10所示。

(a) Beam current

2.1.2 LEBT束流調(diào)試

為測(cè)試LEBT出口處的發(fā)射度和RFQ的匹配程度,除在LEBT第二診斷室布置1套發(fā)射度儀外,在LEBT末端布置了1套可拆卸式的移動(dòng)式雙狹縫發(fā)射度儀,可在2個(gè)縱向位置上分別測(cè)量束流在2個(gè)方向上的發(fā)射度,為反推離子源出口Twiss參數(shù)和精確推算RFQ入口處的發(fā)射度提供更多的測(cè)量手段。LEBT測(cè)試實(shí)驗(yàn)束線布局如圖11所示。

圖11 LEBT測(cè)試實(shí)驗(yàn)束線布局Fig.11 Layout of XiPAF LEBT test beamline

在LEBT調(diào)試工作中,通過掃描螺線管和導(dǎo)向磁鐵電流,尋找LEBT傳輸效率的變化規(guī)律,同時(shí)在一些特定參數(shù)下測(cè)量第二診斷室和第三診斷室發(fā)射度。經(jīng)過參數(shù)掃描發(fā)現(xiàn),LEBT中的整體傳輸效率最高約60%,略低于設(shè)計(jì)值。由于負(fù)氫離子的損失機(jī)制比較復(fù)雜,對(duì)該結(jié)果的分析目前還沒有明確結(jié)論。此外,在不同參數(shù)下,經(jīng)過多次發(fā)射度測(cè)量并反推離子源出口處的Twiss參數(shù),找到了與理論模型比較吻合的一組結(jié)果,圖12為第二診斷室發(fā)射度測(cè)量和模擬結(jié)果,圖13為移動(dòng)式發(fā)射度儀的測(cè)量結(jié)果和模擬結(jié)果。由圖12和圖13可見,實(shí)驗(yàn)中2個(gè)不同位置發(fā)射度的測(cè)量結(jié)果與模擬結(jié)果都符合較好。

由于移動(dòng)式發(fā)射度儀的測(cè)量位置比RFQ入口要靠后一些,所以測(cè)得的相圖是發(fā)散的,將該相圖逆推回RFQ入口處,得到的相圖如圖14所示。由圖14可見,LEBT出口處束流與RFQ的接受度基本匹配,束流的相空間存在一定的拖尾現(xiàn)象,理論模擬顯示這是由于束流在進(jìn)入第一個(gè)螺線管時(shí)散角偏大,進(jìn)入螺線管透鏡孔徑邊緣的非線性場(chǎng)導(dǎo)致的。這些束暈中的雜散粒子會(huì)對(duì)RFQ的傳輸效率帶來一定影響。

2.1.3 RFQ束流調(diào)試

為滿足RFQ調(diào)試要求,在RFQ調(diào)束前安裝了一條臨時(shí)測(cè)量束線,包括1套雙狹縫發(fā)射度儀、1套ACCT和2套束流位置探測(cè)器(BPM)[8-10],分別測(cè)量RFQ出口處的發(fā)射度、束流強(qiáng)度和能量,實(shí)驗(yàn)束線布局如圖15所示。

圖15 RFQ測(cè)試實(shí)驗(yàn)束線布局Fig.15 Experimental beamline layout for RFQ test

RFQ調(diào)試的目的是通過調(diào)節(jié)離子源引出高壓、LEBT上2個(gè)螺線管透鏡、4個(gè)導(dǎo)向鐵的電流及RFQ饋入功率等參數(shù),使RFQ傳輸效率達(dá)到最佳,并測(cè)量出口束流參數(shù)和各元件工作參數(shù)的關(guān)系,找到與DTL加速器接受度匹配的工作參數(shù)。在進(jìn)行導(dǎo)向鐵參數(shù)掃描、螺線管透鏡參數(shù)掃描、RFQ饋入功率掃描和導(dǎo)向鐵參數(shù)二次掃描之后,得到了RFQ的最高傳輸效率約為88%,測(cè)量得到RFQ出口的發(fā)射度與理論模擬結(jié)果相近,水平和垂直方向歸一化RMS發(fā)射度分別為0.47π mm·mrad和0.40π mm·mrad ,基本滿足DTL加速器的注入要求。圖16為RFQ傳輸效率隨RF饋入功率變化關(guān)系,圖17為RFQ傳輸效率隨螺線管電流的變化關(guān)系。

圖16 RFQ傳輸效率隨RF饋入功率變化關(guān)系Fig.16 RFQ transmission efficiency vs. the RF feed power

圖17 RFQ傳輸效率隨螺線管電流的變化關(guān)系Fig.17 RFQ transmission efficiency evolutionwith two solenoid currents

2.1.4 IHDTL束流調(diào)試

7 MeV IHDTL的調(diào)束可分為縱向和橫向2個(gè)方面,縱向是調(diào)節(jié)IHDTL的饋入功率和相位,橫向是調(diào)節(jié)入口Twiss參數(shù)和偏心。目的是通過掃描射頻功率源(RF)的場(chǎng)強(qiáng)和相位,使DTL出口能量和動(dòng)量分散滿足能量大于7 MeV,95%粒子動(dòng)量分散度好于±3%的后續(xù)注入要求。并通過掃描LEBT和RFQ的工作參數(shù),使IHDTL的傳輸效率滿足設(shè)計(jì)指標(biāo)要求。除IHDTL外,臨時(shí)安裝的束測(cè)線上還包括3塊四極磁鐵、1套發(fā)射度儀、1套散束器、3套BPM、1套ACCT、1套分析磁鐵、2套分析狹縫和1套法拉第筒,IHDTL測(cè)試實(shí)驗(yàn)束線布局如圖18所示。

圖18 IHDTL測(cè)試實(shí)驗(yàn)束線布局Fig.18 Layout of IHDTL beam experiment line

為尋找IHDTL的相位工作點(diǎn),將入射功率按電場(chǎng)強(qiáng)度的設(shè)計(jì)值進(jìn)行歸一化,采用Tracewin程序模擬了IHDTL傳輸效率隨腔體歸一化入射功率和參考粒子進(jìn)入IHDTL時(shí)的RF相位的變化關(guān)系,如圖19所示。

圖19 利用Tracewin程序模擬得到的IHDTL傳輸效率隨腔體歸一化入射功率和參考粒子進(jìn)入IHDTL時(shí)的RF相位的變化關(guān)系Fig.19 Simulated IHDTL transmission efficiency along withthe RF phase and cavity power change

由圖19可見,IHDTL的傳輸效率存在一個(gè)明顯的高傳輸效率區(qū)域,實(shí)驗(yàn)中,通過尋找這個(gè)特征,可較容易找到IHDTL的工作點(diǎn),即圖19中的黑點(diǎn)。

在實(shí)驗(yàn)過程中,根據(jù)冷測(cè)得到的Q值可計(jì)算出腔體的功率損耗,再根據(jù)束流負(fù)載,可估算出IHDTL饋入功率的工作點(diǎn)在220 kW附近。在這個(gè)功率附近取幾組值,進(jìn)行RF相位掃描,得到IHDTL的傳輸效率隨RF相位的變化關(guān)系。圖20為饋入功率為222 kW時(shí), 掃描RF相位得到的IHDTL傳輸效率。通過和理論模擬對(duì)比,可找到當(dāng)前狀態(tài)下IHDTL的工作點(diǎn)。

圖20 饋入功率222 kW時(shí),掃描RF相位得到的IHDTL傳輸效率Fig.20 IHDTL transmission efficiency with the RFphase at an input power of 220 kW

在找到IHDTL的工作點(diǎn)后,繼續(xù)開展IHDTL出口束流參數(shù)的測(cè)量,束流參數(shù)包括傳輸效率、束團(tuán)中心能量、能量分散度及束流發(fā)射度等。采用TOF方法測(cè)量得到的IHDTL出口束團(tuán)的中心能量,如表4所列。

表4 利用TOF方法測(cè)量得到IHDTL出口束團(tuán)的中心能量Tab.4 Beam energy measured by TOF at IHDTL exit

利用下游的雙狹縫發(fā)射度儀可測(cè)量IHDTL出口的發(fā)射度。由于發(fā)射度儀安裝在3塊四極磁鐵后,因此實(shí)驗(yàn)中測(cè)量了四極磁鐵不加電(drift)和加電(triplet)2種情況下的發(fā)射度。圖21為IHDTL出口橫向發(fā)射度測(cè)量值。將測(cè)量得到的束流相空間分布逆推到IHDTL出口處,得到的束團(tuán)RMS相橢圓的測(cè)量結(jié)果,測(cè)量結(jié)果與模擬結(jié)果整體上比較吻合。

2.2 同步加速器調(diào)束進(jìn)展

2.2.1 束流注入調(diào)試

在同步加速器調(diào)束過程中,首先開展束流注入調(diào)試。圖22為注入點(diǎn)處質(zhì)子在環(huán)上轉(zhuǎn)一圈后熒光屏的束斑。調(diào)束初期,采用2個(gè)熒光屏查看束流第一圈注入情況,然后通過調(diào)整二極磁鐵和注入切割磁鐵電流使直流流強(qiáng)探測(cè)器(DCCT)束流最大化,優(yōu)化后得到DCCT上最高束流強(qiáng)度達(dá)到了47 mA,對(duì)應(yīng)的粒子數(shù)為2.5×1011,總注入效率達(dá)到58%,在MEBT出口束流強(qiáng)度未達(dá)設(shè)計(jì)指標(biāo)5 mA的情況下,實(shí)現(xiàn)了注入后粒子數(shù)大于等于2×1011的目標(biāo)。

(a) At the injection point

在初步注入調(diào)試成功后,分別研究了注入束流軌道與循環(huán)束流軌道、注入點(diǎn)束斑尺寸與Twiss參數(shù)、凸軌涂抹曲線、注入圈數(shù)與延時(shí)及注入時(shí)環(huán)的工作點(diǎn)等不同參數(shù)對(duì)注入效率的影響。研究結(jié)果表明,在相同的注入條件下,與注入束流的束斑大小相比,Twiss參數(shù)匹配對(duì)注入效率影響更大;凸軌鐵延時(shí)對(duì)注入束流強(qiáng)度的影響比較顯著,注入束流從凸軌鐵下降沿起始位置前約30 μs注入得到的累積束流強(qiáng)度最高,有效注入圈數(shù)約為20圈。實(shí)驗(yàn)中,分別采用指數(shù)下降曲線、線性下降曲線和2組優(yōu)化的平滑下降曲線研究不同凸軌曲線形狀和延時(shí)下的注入束流強(qiáng)度情況。結(jié)果表明,指數(shù)下降曲線的注入效率相對(duì)較高。圖23為凸軌磁鐵采用指數(shù)下降曲線時(shí),不同脈沖寬度和凸軌鐵延時(shí)條件下DCCT的最大電流。

(a) Injection beam current vs. pulse width of the bump

2.2.2 束流俘獲調(diào)試

俘獲調(diào)試的目的是調(diào)節(jié)高頻頻率和二極鐵磁場(chǎng)強(qiáng)度,使其與束流能量相匹配,實(shí)現(xiàn)束流的正常聚束。俘獲后束團(tuán)為單束團(tuán)模式,可為后續(xù)的線性光學(xué)測(cè)量和加速提供條件。

俘獲優(yōu)化的過程主要是調(diào)節(jié)同步環(huán)的二極鐵電流和高頻頻率,通過快速流強(qiáng)變壓器(FCT)、BPM信號(hào)及俘獲過程的束流損失綜合判斷俘獲效果。圖24為俘獲效率較高的1組實(shí)驗(yàn)中DCCT和FCT的測(cè)量結(jié)果。由圖24可見最大俘獲效率約為51%。

(a) DCCT

2.2.3 線性光學(xué)測(cè)量與校正

線性光學(xué)函數(shù)是指同步環(huán)lattice的一些參數(shù),包括工作點(diǎn)、β函數(shù)、色散及色品等,在俘獲完成后束流聚束成團(tuán),具備了開展上述參數(shù)測(cè)量的條件。準(zhǔn)確測(cè)量這些參數(shù)并進(jìn)行物理模型的校正是下一步開展加速調(diào)試和慢引出調(diào)試的基礎(chǔ)。因此,在加速調(diào)試前首先開展了線性光學(xué)的測(cè)量與校正。

在測(cè)量過程中,水平工作點(diǎn)采用BPM逐圈數(shù)據(jù)進(jìn)行FFT得到,垂直方向由于橫向振蕩幅度較小,工作點(diǎn)主要采用頻譜儀進(jìn)行測(cè)量。圖25為1組典型加速過程中橫向工作點(diǎn)變化的測(cè)量結(jié)果。

(a) Working point from FFT of BPM signal

色散函數(shù)和色品分別表征了偏能粒子閉合軌道和工作點(diǎn)的偏差,在測(cè)試時(shí)采用緩慢掃頻的方式改變束流能量,根據(jù)閉軌變化和工作點(diǎn)變化測(cè)量色散和色品。水平方向和垂直方向的色散測(cè)量結(jié)果如表5所列,水平方向色品為0.33,垂直方向色品為-2.83。

表5 水平方向和垂直方向的色散測(cè)量結(jié)果Tab.5 The horizontal and vertical dispersionat different BPM locations

利用校正鐵逐個(gè)添加1 mrad激勵(lì),記錄每個(gè)BPM測(cè)量的閉軌變化量,測(cè)量了束流對(duì)于校正鐵的12×12的橫向閉軌響應(yīng)矩陣。該矩陣包含了線性光學(xué)的各種信息,通過LOCO方法可以將測(cè)量結(jié)果和理論模型進(jìn)行擬合,在匹配過程中對(duì)模型進(jìn)行修正,得到與實(shí)際加速器匹配的模型及所有線性光學(xué)函數(shù)[11-12]。與原有模型給出的響應(yīng)矩陣相比,修正模型的相對(duì)偏差小于5%。

β函數(shù)反映的是環(huán)上不同位置處束流的最大包絡(luò),是同步環(huán)上最重要的lattice參數(shù)之一。通過校正鐵激勵(lì)法和四極鐵激勵(lì)法,分別測(cè)量了全環(huán)的β函數(shù)。圖26為修正模型給出的β函數(shù)和色散函數(shù)與實(shí)驗(yàn)測(cè)量結(jié)果的對(duì)比。

由圖26可見,測(cè)量結(jié)果與修正后的線性光學(xué)預(yù)測(cè)的結(jié)果吻合較好,證明了模型和測(cè)量的準(zhǔn)確性。

2.2.4 束流加速調(diào)試

束流的加速調(diào)試是指通過調(diào)節(jié)高頻及磁鐵的上升曲線來實(shí)現(xiàn)將束流加速到指定能量,加速后的束流可用于慢引出及用戶實(shí)驗(yàn)。

剛開始進(jìn)行加速調(diào)試時(shí),加速過程中束流的損失比較嚴(yán)重,通過觀察閉軌情況發(fā)現(xiàn)在加速過程中閉軌一直在變化。采用BPM測(cè)量的閉軌數(shù)據(jù)的變化量計(jì)算出頻率的變化量,對(duì)頻率曲線進(jìn)行修正和迭代,并利用校正鐵進(jìn)行精細(xì)的軌道調(diào)節(jié)之后,加速效率顯著提高。

此外,加速過程中的橫向運(yùn)動(dòng)也可能導(dǎo)致束流損失。測(cè)量得到的加速過程中工作點(diǎn)的變化曲線如圖27所示。

(a) The movement of working point

由圖27可見,100 ms時(shí)工作點(diǎn)正好經(jīng)過差共振線,這是之前發(fā)現(xiàn)的在100 ms前后束流損失較為嚴(yán)重和束流強(qiáng)度快速下降的原因。通過調(diào)整四極鐵的延時(shí)和曲線,讓工作點(diǎn)盡量避開共振線,束流得到較好的加速,加速過程中的陡降現(xiàn)象消失,俘獲效率較高,且加速過程中DCCT曲線上幾乎看不出粒子損失,加速效率最高達(dá)到了82%,加速后最大粒子數(shù)為1×1011,基本達(dá)到了設(shè)計(jì)指標(biāo)。

2.2.5 束流慢引出調(diào)試

慢引出調(diào)試階段需要對(duì)三階共振慢引出系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)試,將束流引出至HEBT并使引出束流的時(shí)間結(jié)構(gòu)盡可能均勻。圖28為理想條件下引出粒子最后3圈的運(yùn)動(dòng)軌跡。

圖28 理想情況下引出前不同能量的發(fā)射度最大的粒子最后3圈軌跡Fig.28 The trace of last 3 turns before extraction for particleswith different energy and maximum emittance in ideal condition

引出前,首先需要將閉軌校正到0附近,保證束流在引出前不會(huì)在其他位置丟失。引出前環(huán)上閉合軌道校正結(jié)果如圖29所示。然后,通過調(diào)節(jié)四極鐵增益將水平工作點(diǎn)調(diào)節(jié)到設(shè)計(jì)值1.678附近,偏差控制在±0.005以內(nèi)。當(dāng)工作點(diǎn)確定后,通過調(diào)節(jié)共振六極鐵強(qiáng)度調(diào)節(jié)穩(wěn)定三角形大小。

圖29 引出前環(huán)上閉合軌道校正結(jié)果Fig.29 The corrected closed orbit before extraction

圖30為共振六極鐵強(qiáng)度合適時(shí),環(huán)上DCCT電流隨時(shí)間的變化關(guān)系。六極鐵強(qiáng)度增加,DCCT電流稍有下降,說明穩(wěn)定區(qū)大小是合適的。通過RFKO幅度曲線及引入幅度反饋,使引出束流波形整體較均勻[13-14]。最后掃描靜電偏轉(zhuǎn)器和2臺(tái)引出切割鐵參數(shù),使引出束線傳輸效率最高。

圖30 共振六極鐵強(qiáng)度合適時(shí)環(huán)上DCCT束流強(qiáng)度Fig.30 DCCT beam current when the resonancesextrupole′s strength is suitable

圖31為1組在60 MeV條件下開展的慢引出實(shí)驗(yàn)結(jié)果。由圖31可見,在不同時(shí)間點(diǎn)上的引出效率均達(dá)到了70%左右,引出束流在時(shí)間結(jié)構(gòu)上也比較均勻。

(a) DCCT intensity

2.3 用戶實(shí)驗(yàn)開展情況

在裝置研制完成后,項(xiàng)目組邀請(qǐng)中國(guó)空間技術(shù)研究院、中國(guó)科學(xué)院新疆理化所和工信部電子五所等5家單位開展了首輪國(guó)內(nèi)用戶實(shí)驗(yàn)。先后開展了28 nm SRAM,65 nm CPU,ASIC,28 nm觸發(fā)器測(cè)試電路和脈寬測(cè)試電路及64 nm國(guó)產(chǎn)5K×5K大面陣CMOS圖像傳感器等50余款核心電子器件的單粒子效應(yīng)和位移損傷效應(yīng)實(shí)驗(yàn),為這些器件的研制提供了有力支撐,同時(shí)也驗(yàn)證了平臺(tái)對(duì)外提供實(shí)驗(yàn)機(jī)時(shí)的技術(shù)能力。

上述工作的完成標(biāo)志著裝置主體建設(shè)工作已基本完成,具備了對(duì)外開放運(yùn)行條件。圖32為首輪用戶試驗(yàn)開展情況。

圖32 首輪用戶實(shí)驗(yàn)開展情況Fig.32 The first round of user experiment

3 小結(jié)

XiPAF歷經(jīng)近10年的論證、設(shè)計(jì)和建設(shè),在2020年初實(shí)現(xiàn)了首次成功出束。經(jīng)過多輪次調(diào)試,目前引出質(zhì)子能量在10~200 MeV之間可調(diào),在不同能量下環(huán)中存儲(chǔ)粒子數(shù)均大于1×1011,每周期引出粒子數(shù)大于5×1010,基本達(dá)到了設(shè)計(jì)的指標(biāo),可滿足用戶實(shí)驗(yàn)要求。該裝置填補(bǔ)了我國(guó)在空間質(zhì)子輻射模擬實(shí)驗(yàn)專用裝置方面的空白,也是亞洲第一臺(tái)滿足空間單粒子效應(yīng)考核指標(biāo)要求的質(zhì)子實(shí)驗(yàn)裝置。未來幾年,XiPAF將逐步提高運(yùn)行穩(wěn)定性,增加對(duì)外開放機(jī)時(shí),并繼續(xù)開展物理調(diào)束,不斷提升裝置性能指標(biāo),為我國(guó)宇航器件的抗輻射加固技術(shù)研究提供重要技術(shù)支撐。

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