王文月,牛萍娟
(1.天津工業(yè)大學(xué) 電氣工程與自動(dòng)化學(xué)院,天津300000;2.天津工業(yè)大學(xué) 電子與信息工程學(xué)院,天津300000)
近些年,隨著電力電子技術(shù)的發(fā)展,航空、電動(dòng)汽車、新能源發(fā)電及石油鉆井等領(lǐng)域?qū)﹄娏﹄娮幼儞Q器提出更高的要求,即實(shí)現(xiàn)高壓、高頻、高功率密度[1]。因此以SiC MOSFET為代表的寬禁帶半導(dǎo)體器件因其高開關(guān)速度、高開關(guān)頻率及高熱導(dǎo)率等[2-5],受到人們廣泛關(guān)注。然而隨著SiC MOSFET開關(guān)頻率及速度提高,電力電子變換器受電路中寄生參數(shù)影響加劇,關(guān)斷瞬態(tài)電壓尖峰更為嚴(yán)重。瞬態(tài)電壓的尖峰不僅危及開關(guān)管的安全,也會(huì)降低電力電子變換器的功率密度,加劇電力電子變換器電磁干擾[6-8]。目前現(xiàn)有抑制電壓尖峰方法大多犧牲了開關(guān)速度,從而影響SiC MOSFET開關(guān)損耗及變換器效率等。因此,本文在分析電壓尖峰產(chǎn)生原理基礎(chǔ)上,在注入柵極電流抑制電壓尖峰前提下,提出了一種在柵源極增加有源箝位電路的改進(jìn)驅(qū)動(dòng)方法,改進(jìn)后的驅(qū)動(dòng)電路具有抑制尖峰效果好、開關(guān)損耗較小、控制方法簡(jiǎn)單特點(diǎn)。本文首先分析瞬態(tài)電壓尖峰產(chǎn)生原理,其次分析了改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路工作原理,最后在雙脈沖測(cè)試平臺(tái)驗(yàn)證了該改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路的實(shí)用性。
為了分析SiC MOSFET瞬態(tài)電壓尖峰產(chǎn)生原理,采用如圖1所示測(cè)試電路,圖中:Vdc直流母線電壓,R驅(qū)動(dòng)電阻,C支撐電容,L負(fù)載電感,SiC MOSFET及SiC二極管D1,考慮SiC MOSFET關(guān)鍵寄生參數(shù)為:柵極驅(qū)動(dòng)電阻R1,柵極引腳封裝電感Lg,源極引腳封裝電感Ls,漏極引腳封裝電感Ld。為了方便分析,Lg、Ls與Ld分別為SiC MOSFET各引腳封裝電感與相連接引線電感之和。與此同時(shí),根據(jù)SiC MOSFET關(guān)斷特性,將關(guān)斷過(guò)程分為4個(gè)階段[9],圖2為關(guān)斷過(guò)程示意圖。
圖1 測(cè)試電路
圖2 SiC MOSFET關(guān)斷過(guò)程
SiC MOSFET關(guān)斷過(guò)程,[t0,t1]階段,驅(qū)動(dòng)電壓為低電平,輸入電容通過(guò)驅(qū)動(dòng)電阻R和源極電感Ls放電,此過(guò)程漏極電流id和漏源極電壓Vds基本不變,柵源極電壓Vgs下降。
[t1,t2]階段,漏極電流id與柵源極電壓Vgs基本保持不變,漏源極電壓Vds一直上升至母線電壓Vdc。
[t2,t3]階段,漏極電流id下降,續(xù)流二極管D1開始正向?qū)?,?fù)載電流從SiC MOSFET向續(xù)流二極管轉(zhuǎn)移,柵源極電壓Vgs開始下降至開啟電壓Vth,SiC MOSFET開始關(guān)斷,漏極電流id降為0,在此階段由于電流變化率快,在回路寄生電感Ls與Ld上產(chǎn)生壓降,這部分壓降加在SiC MOSFET漏源極兩端,產(chǎn)生電壓尖峰?;诨鶢柣舴螂妷憾煽芍琕ds(t)+(Ls+Ld)did(t)/dt=Vdc+VD1(t)。忽略二極管正向?qū)妷?,得出:Vds(t)-Vdc=-(Ls+Ld)did(t)/dt,因此電壓尖峰Vp=-(Ls+Ld)did(t)/dt,其中did(t)/dt可以用式子did(t)/dt≈iggfs/Cgs表示[10]。
[t3,t4]階段,柵源極電壓Vgs降至低電平,SiC MOSFET完全關(guān)斷。
由分析可知,抑制瞬態(tài)電壓尖峰問(wèn)題最傳統(tǒng)的抑制方法是增加驅(qū)動(dòng)電阻、增加緩沖電路[11-12]和優(yōu)化器件封裝結(jié)構(gòu)及功率回路寄生參數(shù)[13]。增加驅(qū)動(dòng)電阻,能夠抑制SiC MOSFET尖峰問(wèn)題,但同時(shí)會(huì)增加開關(guān)過(guò)程損耗。增加緩沖電路對(duì)關(guān)斷電壓尖峰有好的抑制效果,但由于緩沖電路存在無(wú)源器件會(huì)帶來(lái)額外損耗。優(yōu)化器件封裝結(jié)構(gòu)成本較高且一般耗時(shí)比較長(zhǎng),PCB布局優(yōu)化則需要考慮大量的因素。另一類主要是采用新型的驅(qū)動(dòng)電路進(jìn)行電壓尖峰抑制,該方法往往成本較高、控制復(fù)雜、實(shí)現(xiàn)難度大[14]。
圖3 改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路原理
綜上所述,為了盡可能不影響SiC MOSFET開關(guān)速度、增大器件開關(guān)損耗。本文基于有源箝位電路與注入柵極電流抑制電壓尖峰[10]方法,提出一種在柵源極通過(guò)控制三極管開通與關(guān)斷的輔助之路,注入柵極電流方法對(duì)瞬態(tài)電壓進(jìn)行了抑制。
該改進(jìn)的驅(qū)動(dòng)電路工作原理如圖3所示:經(jīng)過(guò)第1節(jié)的分析可知,在SiC MOSFET關(guān)斷過(guò)程([t2,t3]階段),可以通過(guò)減小ig進(jìn)而改變did(t)/dt來(lái)抑制開關(guān)過(guò)程電壓的尖峰。因此可將注入柵極電流抑制電壓尖峰與有源箝位電路結(jié)合,在SiC MOSFET器件關(guān)斷電壓尖峰產(chǎn)生的階段對(duì)其進(jìn)行抑制。首先有源箝位電路中分壓檢測(cè)電路根據(jù)柵源極獲取的電壓信號(hào)控制三極管Q1開通與關(guān)斷,Q1開通時(shí),外接電源對(duì)電容充電,三極管Q2開通之前控制時(shí)間由電容充電時(shí)間決定;Q2開通,外接電源對(duì)柵極電流進(jìn)行注入,進(jìn)而減小ig,減小did(t)/dt進(jìn)而抑制電壓尖峰。Q1關(guān)斷時(shí),Q1控制Q2也隨之關(guān)斷。此改進(jìn)驅(qū)動(dòng)方法無(wú)需產(chǎn)生單獨(dú)控制脈沖,降低了電路控制復(fù)雜度。
為了對(duì)抑制瞬態(tài)電壓尖峰的改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路有效性及實(shí)用性進(jìn)行驗(yàn)證,搭建了雙脈沖測(cè)試平臺(tái),其電路具體原理如圖1所示,選用科瑞C2M0080120D型號(hào)SiC MOSFET和C4D20120型號(hào)SiC二極管。測(cè)試電路具體參數(shù)為:直流母線電壓Vdc=400V、驅(qū)動(dòng)電阻R=10Ω、負(fù)載電感L=500uH、開關(guān)頻率100kHz。改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路如圖3所示,具體設(shè)計(jì)參為:R2=3kΩ,R3=10kΩ,C=1nF,R4=1Ω,R5=84.5kΩ,Vcc=12V,R6=6.3Ω。
圖4-圖6,分別給出了傳統(tǒng)采用RCD抑制電壓尖峰波形、典型設(shè)計(jì)驅(qū)動(dòng)電路抑制電壓尖峰波形及本文所提出的改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路抑制電壓尖峰波形。從實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析可知,本文提出的改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路與傳統(tǒng)及典型的抑制電壓尖峰方法相比,關(guān)斷過(guò)程電壓尖峰的抑制效果相當(dāng)。但是采用RCD吸收電路會(huì)使器件開關(guān)過(guò)程產(chǎn)生額外損耗,導(dǎo)致關(guān)斷損耗增大。典型驅(qū)動(dòng)電路通過(guò)控制MOSFET開通與關(guān)斷的輔助之路完成柵極電流注入進(jìn)而抑制了電壓尖峰,該方法由于采用MOSFET控制元件,需單獨(dú)控制信號(hào)。因此基于以上所述,本文通過(guò)對(duì)驅(qū)動(dòng)電路改進(jìn),如表1所示,實(shí)現(xiàn)了對(duì)電壓尖峰有效抑制,且采用改進(jìn)控制三極管的輔助支路結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單。
圖4 傳統(tǒng)抑制電壓尖峰方法波形
本文所提出的改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì),將有源箝位電路與注入柵極電流抑制電壓尖峰方法進(jìn)行結(jié)合,通過(guò)箝位電路中分壓檢測(cè)電路檢測(cè)柵源極電壓信號(hào)控制三極管導(dǎo)通與關(guān)斷,進(jìn)而將電流注入到柵極,在犧牲較少損耗、無(wú)需產(chǎn)生單獨(dú)控制信號(hào)的情況下,對(duì)電壓尖峰進(jìn)行有效抑制,最后,通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了該改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路的有效性。
圖5 典型抑制電壓尖峰方法波形
圖6 改進(jìn)驅(qū)動(dòng)電路抑制電壓尖峰方法波形
表1 不同抑制電壓尖峰方法對(duì)比