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基于氮化鎵全球?qū)@季痔攸c(diǎn)推進(jìn)我國氮化鎵產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展

2021-06-02 09:53:40
信息通信技術(shù)與政策 2021年5期
關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體器件中國專利專利申請(qǐng)

(1.中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心,北京 100191;2.中國信息通信研究院技術(shù)與標(biāo)準(zhǔn)研究所,北京 100191)

0 引言

第五代移動(dòng)通信(5G)實(shí)現(xiàn)了用戶體驗(yàn)更快、時(shí)延更低以及設(shè)備連接密度更大的特點(diǎn),帶動(dòng)了通信器件向高速化、集成化、小型化的趨勢發(fā)展。隨著通信器件性能需求的提升,許多企業(yè)除了加強(qiáng)自身知識(shí)產(chǎn)權(quán)實(shí)力、加大研發(fā)投入外,還通過收購、并購等市場行為快速提升自身技術(shù)實(shí)力儲(chǔ)備。這些行為也導(dǎo)致了全球通信器件行業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)格局的重新洗牌,推動(dòng)了產(chǎn)品之間的競爭。

移動(dòng)通信領(lǐng)域的競爭既是建立在核心通信芯片技術(shù)基礎(chǔ)之上,也是建立在底層半導(dǎo)體技術(shù)基礎(chǔ)之上,而技術(shù)的更新迭代則推動(dòng)了產(chǎn)品的不斷優(yōu)化與升級(jí)。因?yàn)榧夹g(shù)的進(jìn)步和標(biāo)準(zhǔn)的升級(jí),既帶動(dòng)了技術(shù)性能的升級(jí),也帶來了通信器件性能的改進(jìn)和提升,同時(shí)也使通信器件工藝制程得到改進(jìn)[1]。隨著半導(dǎo)體工藝的特征尺寸日益逼近理論極限,摩爾定律對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的加速度已經(jīng)明顯放緩,未來半導(dǎo)體技術(shù)的提升,除了進(jìn)一步榨取摩爾定律在制造工藝上最后的“剩余價(jià)值”外,尋找硅(Si)以外的新一代半導(dǎo)體材料,成了一個(gè)重要的選擇,而氮化鎵(GaN)作為新的熱點(diǎn)高頻詞匯逐漸進(jìn)入人們的視野[2]。作為第三代半導(dǎo)體材料,GaN擁有眾多比Si和GaAs更優(yōu)越的性能,可以作為射頻器件的首選材料。GaN 射頻器件的應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,如衛(wèi)星通信、通信基站,其中無線通信基站市場是 GaN 射頻器件最大的應(yīng)用市場[3]。據(jù)工業(yè)和信息化部發(fā)布的數(shù)據(jù),2020年我國新增5G基站約58萬個(gè),累計(jì)已建成5G基站71.8萬個(gè),2021年計(jì)劃新建5G基站60萬個(gè)以上。不斷增長的通信基站需求,進(jìn)一步推動(dòng)了GaN功率放大器的市場需求和技術(shù)改進(jìn)。

本文主要從年度申請(qǐng)趨勢、申請(qǐng)人、技術(shù)分布等維度對(duì)全球GaN及GaN功率放大器的發(fā)明專利進(jìn)行分析,在篩選清洗數(shù)據(jù)后分析提煉其特點(diǎn),以期使GaN相關(guān)企業(yè)和機(jī)構(gòu)更好地了解該領(lǐng)域全球及國內(nèi)的專利布局現(xiàn)狀,并結(jié)合自身技術(shù)發(fā)展路徑,在對(duì)比中找準(zhǔn)自身定位、摸清潛在風(fēng)險(xiǎn)、明確發(fā)展方向,以便制定更有針對(duì)性、實(shí)施性更強(qiáng)的專利發(fā)展戰(zhàn)略和風(fēng)險(xiǎn)應(yīng)對(duì)方案,全方位提升我國GaN產(chǎn)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)綜合能力。

1 GaN全球?qū)@季?/h2>

截至2020年6月,“七國兩組織”(七國:中國、日本、美國、英國、法國、德國、瑞士;兩組織:歐洲專利局、國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織)已公布的GaN發(fā)明專利(本文專利均為發(fā)明專利)總量近3.1萬件。如圖1所示,GaN專利最早在1963年出現(xiàn),但早期的申請(qǐng)較零散,每年的申請(qǐng)數(shù)量僅為個(gè)位數(shù)。自1993年始,GaN創(chuàng)新活動(dòng)逐步活躍,帶動(dòng)其專利申請(qǐng)數(shù)量快速增長,并于2006年出現(xiàn)第一次申請(qǐng)高峰。隨后,GaN全球?qū)@麛?shù)量略有下降,逐年出現(xiàn)波動(dòng)性變化,技術(shù)發(fā)展進(jìn)入穩(wěn)定階段。隨著GaN在通信領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,GaN專利申請(qǐng)熱度不減,專利申請(qǐng)量在近十五年持續(xù)居于高位,技術(shù)創(chuàng)新活躍 。

圖1 GaN全球?qū)@甓壬暾?qǐng)趨勢(數(shù)據(jù)來源:中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心)

通信器件的改進(jìn)和提升,帶動(dòng)了器件各環(huán)節(jié)的改進(jìn),其專利申請(qǐng)方向也隨之發(fā)生變化。據(jù)中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心統(tǒng)計(jì),全球65%的GaN發(fā)明專利高度集中在設(shè)計(jì)環(huán)節(jié),24%集中在制造環(huán)節(jié),設(shè)計(jì)及制造環(huán)節(jié)的專利高占比延續(xù)了半導(dǎo)體工藝技術(shù)創(chuàng)新活躍的特點(diǎn)。值得關(guān)注的是,18%的GaN發(fā)明專利集中在材料環(huán)節(jié),較高比例的材料專利顯示了氮化鎵材料從早期二極管時(shí)代發(fā)展到現(xiàn)在5G核心射頻器件的過程中不斷推出更具創(chuàng)新的提取、制備、生產(chǎn)等新技術(shù),迎合了市場對(duì)通信器件高性能的需求。

如圖2所示,全球GaN發(fā)明專利中僅有35%發(fā)明專利屬于有效專利,而近30%處在實(shí)質(zhì)審查中,還未獲得專利授權(quán),法律狀態(tài)并不穩(wěn)定。另外,35%的GaN發(fā)明專利已失效,失效比較高,主要原因?yàn)槲蠢U納年費(fèi)和視為放棄,這與企業(yè)應(yīng)對(duì)GaN應(yīng)用快速發(fā)展而主動(dòng)調(diào)整市場戰(zhàn)略因素有關(guān)。失效專利中僅有557件發(fā)明專利屬于20年保護(hù)期屆滿而自然失效,這些被權(quán)利人連續(xù)持有20年而未被中途放棄的專利通常屬于基礎(chǔ)專利或高價(jià)值專利,因此獲得了企業(yè)的定期繳費(fèi)維護(hù)。

圖2 GaN全球?qū)@蔂顟B(tài)統(tǒng)計(jì)(數(shù)據(jù)來源:中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心)

從圖3的GaN全球?qū)@赜蚍植记闆r可以看出,中國、日本、美國是重點(diǎn)布局國家,分別布局了28%、25%、19%。對(duì)專利數(shù)據(jù)分析可知,中國、日本、美國3個(gè)國家的專利年度申請(qǐng)趨勢并不相同,中國的GaN專利從2008年開始迅速增長,并且增速明顯,每年申請(qǐng)的專利數(shù)量遠(yuǎn)超出日本、美國,而日本、美國的GaN專利則呈現(xiàn)出相近的申請(qǐng)趨勢,并在后期都出現(xiàn)專利申請(qǐng)量下降的跡象。我國的GaN專利數(shù)量位居全球第一,這一方面與我國大力發(fā)展第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的國家計(jì)劃和政策支持密不可分,另一方面也與我國半導(dǎo)體市場在全球愈加重要有關(guān)。

圖3 GaN全球?qū)@赜蚍植?數(shù)據(jù)來源:中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心)

據(jù)中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心統(tǒng)計(jì),全球GaN發(fā)明專利中39%來源于日本,日本企業(yè)在GaN材料領(lǐng)域積累深厚,GaN全球排名前20位的專利權(quán)人中,共有住友、松下、豐田等12家日本企業(yè),這12家日本企業(yè)的GaN專利申請(qǐng)總量占全球GaN專利申請(qǐng)總量的24%,由此可見日本企業(yè)在GaN領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力處于領(lǐng)先地位;有3家美國企業(yè)/機(jī)構(gòu)進(jìn)入GaN全球?qū)@麢?quán)人排名前20位,分別是加利福尼亞大學(xué)、科瑞、英特爾;中國的中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、華燦光電(浙江)有限公司、西安電子科技大學(xué)位列全球GaN專利權(quán)人排名前20,我國企業(yè)/科研機(jī)構(gòu)/大學(xué)對(duì)于GaN技術(shù)的研究實(shí)力較強(qiáng),全球26%的GaN發(fā)明專利來源于中國;此外,韓國的三星、LG在GaN領(lǐng)域創(chuàng)新實(shí)力也較強(qiáng)。

如圖4所示,全球GaN專利技術(shù)主要集中在氮化鎵相關(guān)的材料、設(shè)計(jì)、制造領(lǐng)域。全球GaN發(fā)明專利

圖4 全球GaN專利技術(shù)(IPC)分布(數(shù)據(jù)來源:《國際專利分類表(2018版)》)

中23%集中在 國際專利分類(International Patent Classification,IPC)號(hào)H01L33/00中,即半導(dǎo)體器件中至少有一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘專門適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件,或?qū)iT適用于制造處理這些半導(dǎo)體器件的方法或設(shè)備;14%集中在 IPC號(hào)H01L33/32中,即含氮半導(dǎo)體器件中至少有一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘專門適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件,及專門用于制造處理這些半導(dǎo)體器件的方法或設(shè)備;12%集中在 IPC號(hào)H01L21/205中,即半導(dǎo)體器件中專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備,主要指應(yīng)用氣態(tài)化合物的還原或分解過程產(chǎn)生固態(tài)凝結(jié)物(即化學(xué)沉積);11%集中在 IPC號(hào)H01L29/778中,即半導(dǎo)體器件中專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;9%集中在 IPC號(hào)H01L21/20中,即專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備,特指半導(dǎo)體材料在基片上的沉積,例如外延生長。

2 GaN中國專利布局

據(jù)中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心統(tǒng)計(jì),GaN中國專利最早出現(xiàn)在1986年,隨后專利數(shù)量逐年增加,增速明顯;截至2020年6月,GaN中國專利申請(qǐng)近9000件,并至此呈現(xiàn)出逐年增加的趨勢,與國際專利申請(qǐng)趨勢趨同(見圖5)。

圖5 GaN全球/中國專利年度申請(qǐng)趨勢(數(shù)據(jù)來源:中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心)

據(jù)中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心統(tǒng)計(jì),GaN中國專利中有效專利與失效專利的比例接近,失效專利占專利總量的32%,主要失效原因?yàn)槌坊亍⑽蠢U納年費(fèi)、駁回,專利被駁回比例較高與專利實(shí)質(zhì)審查階段專利質(zhì)量較低有關(guān);有效專利約占專利總量的33%,約有35%的發(fā)明專利處在實(shí)質(zhì)審查中,未獲得專利授權(quán)。大量GaN中國專利仍在實(shí)質(zhì)審查階段而未授權(quán)說明GaN中國專利申請(qǐng)時(shí)間偏晚,未授權(quán)狀態(tài)也導(dǎo)致了GaN中國專利布局的不確定性。

據(jù)中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心分析,GaN中國專利持有人以本土企業(yè)/機(jī)構(gòu)為主,其中申請(qǐng)企業(yè)大多來自LED光電領(lǐng)域。GaN中國專利排名前20位的專利權(quán)人中,有17家本土企業(yè)/機(jī)構(gòu),其中華燦、映瑞、彩虹藍(lán)光、三安等企業(yè)均圍繞材料、設(shè)計(jì)、制造等環(huán)節(jié)布局專利,具體涉及外延、襯底、材料提取技術(shù);中科院、中國電子科技集團(tuán)、西安電子科技大學(xué)、北京大學(xué)、電子科技大學(xué)也圍繞材料、器件等領(lǐng)域申請(qǐng)較多專利。此外,日本企業(yè)很重視中國GaN市場,住友、松下、豐田等都在中國申請(qǐng)了GaN專利。

如圖6所示,在GaN中國專利技術(shù)分布中,全球GaN發(fā)明專利中41%集中在 IPCH01L33/00,與全球?qū)@姆诸悅?cè)重相同;14%集中在H01L29/778,與全球?qū)@膫?cè)重有不同;10%集中在 IPCH01L33/06,即至少有一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘專門適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件,專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備,特指在發(fā)光區(qū)中,例如量子限制結(jié)構(gòu)或隧道勢壘;6%集中在H01L21/02,即專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備,特指半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理;5%分別集中在IPCH01L33/32、H01L33/12、H01L33/14,即含氮類半導(dǎo)體器件材料、半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中具有一個(gè)應(yīng)力弛豫結(jié)構(gòu)(例如緩沖層)、半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中具有一個(gè)載流子傳輸控制結(jié)構(gòu)(例如高摻雜半導(dǎo)體層或電流阻斷結(jié)構(gòu))。

圖6 GaN全球/中國專利年度申請(qǐng)趨勢(數(shù)據(jù)來源:《國際專利分類表(2018版)》)

此外,對(duì)中國本土機(jī)構(gòu)申請(qǐng)的GaN發(fā)明專利進(jìn)行分析可以看出,我國本土企業(yè)和機(jī)構(gòu)在GaN襯底外延、材料提取領(lǐng)域?qū)嵙^強(qiáng),申請(qǐng)了一定數(shù)量的專利,已形成一定規(guī)模布局。

3 GaN功率放大器全球?qū)@季?/h2>

從圖7 的GaN功率放大器全球/中國專利年度申請(qǐng)趨勢中可以看出,截至2020年6月,全球共有近3000件GaN功率放大器發(fā)明專利,GaN功率放大器全球范圍內(nèi)申請(qǐng)數(shù)量呈現(xiàn)持續(xù)、快速的增長趨勢,中國的專利申請(qǐng)趨勢與國際趨勢基本相同;GaN功率放大器發(fā)明專利最早出現(xiàn)在1973年,2000年以前其申請(qǐng)數(shù)量并不多,從2000年開始,5G的發(fā)展帶動(dòng)了GaN功率放大器的研發(fā),其專利申請(qǐng)量逐年增長;中國最早的GaN功率放大器發(fā)明專利出現(xiàn)在1999年,晚于國際26年,雖然中國GaN功率放大器專利出現(xiàn)較晚,但申請(qǐng)數(shù)量也在逐年增長。

圖7 GaN功率放大器全球/中國專利年度申請(qǐng)趨勢(數(shù)據(jù)來源:中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心)

根據(jù)中國信息通信研究院知識(shí)產(chǎn)權(quán)中心的研究,中國、美國、日本屬于GaN 功率放大器重點(diǎn)布局的國家,3個(gè)國家的專利總數(shù)占全球?qū)@倲?shù)的75%。美國在GaN 功率放大器方面擁有領(lǐng)先優(yōu)勢,全球32%的GaN 功率放大器專利來自美國申請(qǐng)人,美國企業(yè)英特爾、Avitas、MACOM、CREE、Qorvo均擁有眾多GaN功率放大器專利;日本企業(yè)實(shí)力整體強(qiáng)勁,全球20%的GaN 功率放大器專利來源于日本申請(qǐng)人,松下、富士通、東芝、富士、住友的專利數(shù)量都處于全球排名前20位;全球17%的GaN 功率放大器專利來源于中國申請(qǐng)人,大量中國高校/科研機(jī)構(gòu)申請(qǐng)了GaN 功率放大器專利,其中西安電子科技大學(xué)、電子科技大學(xué)、中國科學(xué)院微電子研究所、東南大學(xué)、北京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)等的專利數(shù)量排名靠前,顯示了較強(qiáng)的GaN功率放大器研究實(shí)力。

GaN功率放大器中國專利以本土申請(qǐng)人為主,主要由高校、科研機(jī)構(gòu)、器件設(shè)計(jì)制造企業(yè)持有。值得關(guān)注的是,外國專利權(quán)人在中國布局的GaN功率放大器專利較少,僅三星、英特爾、夏普、富士通等企業(yè)申請(qǐng)了少量專利。

此外,通過對(duì)全球?qū)@钟腥颂卣鬟M(jìn)行分析可以看出,GaN功率放大器專利持有人雖然類型較多,但并沒有出現(xiàn)類似通信領(lǐng)域?qū)@^多集中在某些行業(yè)巨頭手中的情況,而是分散在大量不同類型的企業(yè)、機(jī)構(gòu)中。這種專利分散現(xiàn)象可能會(huì)讓企業(yè)在創(chuàng)新和生產(chǎn)中遇到需要多頭支付專利許可費(fèi)用的情形,不光增加了企業(yè)的成本負(fù)擔(dān),還使企業(yè)在運(yùn)營中存在較高的專利侵權(quán)風(fēng)險(xiǎn)[4]。

4 國內(nèi)GaN專利發(fā)展建議

2018—2019年,受電信業(yè)和國防應(yīng)用的推動(dòng),全球GaN的市場規(guī)模由7億美元增長至8.2億美元,其中射頻器件市場規(guī)模約7.4億美元,電力電子市場規(guī)模約0.76億美元。2020年,隨著5G的應(yīng)用和推廣,全球GaN的市場規(guī)模突破10億美元[5]。

2015年5月,國務(wù)院印發(fā)了《中國制造2025》,其中4次提到了以碳化硅、氮化鎵為代表的第三代半導(dǎo)體功率器件;2018年7月,國內(nèi)首個(gè)《第三代半導(dǎo)體電力電子技術(shù)路線圖》正式發(fā)布,該路線圖主要從襯底/外延/器件、封裝/模塊、SiC應(yīng)用、GaN應(yīng)用4個(gè)方面展開論述,提出了中國發(fā)展第三代半導(dǎo)體電力電子技術(shù)的路徑建議和對(duì)未來產(chǎn)業(yè)發(fā)展的預(yù)測[6]。

雖然GaN早期基礎(chǔ)專利仍被美國、日本、韓國掌握,但我國經(jīng)過一段時(shí)間的發(fā)展已取得很大進(jìn)步。近年我國企業(yè)的專利申請(qǐng)數(shù)量有所上升,全球GaN專利中中國申請(qǐng)人占比達(dá)26%、全球GaN功率放大器專利中中國申請(qǐng)人占比達(dá)17%,并且我國企業(yè)在GaN襯底外延、材料提取、 GaN 功率放大器領(lǐng)域?qū)@麑?shí)力較強(qiáng),已形成了核心技術(shù)實(shí)力。但是,目前我國GaN專利仍存在分布較為分散、沒有形成有效布局的實(shí)際情況。同時(shí),伴隨國外企業(yè)并購、收購、合作等因素,國外半導(dǎo)體巨頭間技術(shù)交融、專利交叉許可更加頻繁,這使得國外半導(dǎo)體企業(yè)既提升了自身專利實(shí)力,也降低了巨頭間通過專利訴訟互相傷害的幾率[7]。值得關(guān)注的是,由于GaN技術(shù)出現(xiàn)較早,大量早期申請(qǐng)的GaN基礎(chǔ)專利已失效或即將失效,因此存在較多我國企業(yè)在GaN新興應(yīng)用領(lǐng)域中布局專利、提升實(shí)力實(shí)現(xiàn)超車的戰(zhàn)術(shù)良機(jī)。

結(jié)合上述因素,建議我國GaN企業(yè)繼續(xù)加強(qiáng)具有創(chuàng)新性專利的申請(qǐng)和布局;繼續(xù)縮小與國際領(lǐng)先企業(yè)之間的差距;在積累專利申請(qǐng)數(shù)量的同時(shí),提升專利質(zhì)量;針對(duì)重要技術(shù)規(guī)劃合理的專利保護(hù)范圍,降低后期專利訴訟中專利被無效的風(fēng)險(xiǎn);圍繞自身核心技術(shù)、關(guān)鍵產(chǎn)品展開高效的專利挖掘工作,實(shí)施合理的專利申請(qǐng)規(guī)劃。此外,建議行業(yè)龍頭強(qiáng)企對(duì)國內(nèi)外同行業(yè)有創(chuàng)新競爭力的企業(yè)開展收購,加快技術(shù)的引進(jìn)、吸收、再創(chuàng)新速度;建議相關(guān)行業(yè)協(xié)會(huì)建立產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)知識(shí)產(chǎn)權(quán)共享機(jī)制,構(gòu)建資源互通與共享體系,借助我國高校和研究機(jī)構(gòu)在GaN方面的研究基礎(chǔ),推動(dòng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)成果轉(zhuǎn)化,鼓勵(lì)以許可、轉(zhuǎn)讓等方式將科研院所的高質(zhì)量專利轉(zhuǎn)化給企業(yè)使用,帶動(dòng)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)動(dòng)。

5 結(jié)束語

隨著我國GaN企業(yè)市場份額的不斷提升、企業(yè)專利意識(shí)的不斷加強(qiáng),在全球產(chǎn)業(yè)升級(jí)的發(fā)展機(jī)遇下,我國GaN企業(yè)應(yīng)明確目標(biāo)、加強(qiáng)合作,通過規(guī)劃專利布局、整合專利資源等手段推動(dòng)企業(yè)自身知識(shí)產(chǎn)權(quán)實(shí)力的提升,進(jìn)而提升在全球產(chǎn)業(yè)競爭中的綜合實(shí)力。

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商情(2016年43期)2016-12-26 00:00:00
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